Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Разработка самосогласованных моделей для стационарных и нестационарных разрядов в низкотемпературной плазме

Диссертация: Разработка самосогласованных моделей для стационарных и нестационарных разрядов в низкотемпературной плазме
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Результаты, полученные при моделировании физических процессов в разряде ячейки плазменной дисплейной панели, могут быть использованы при разработке схем ее электрического управления и оптимизации излучательных характеристик. Исследование механизмов образования и гибели активных частиц в плазме электроотрицательных газов является необходимым этапом для создания адекватных моделей, позволяющих… Читать ещё >

Разработка самосогласованных моделей для стационарных и нестационарных разрядов в низкотемпературной плазме (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • Глава 1. Обзор литературы
  • Глава 2. Моделирование разряда в ячейке плазменной дисплейной панели
  • §-1.Введение
    • 2. Моделирование разряда в ячейке ПДП с малым зазором 100 мкм
      • 2. 1. Особенности разряда в ячейке ПДП с малым зазором и общие принципы гибридной модели
      • 2. 2. Описание численной модели. Диффузионно-дрейфовая часть гибридной модели
      • 2. 3. Кинетическая модель разряда в ячейке ПДП Система уравнений химической кинетики
      • 2. 4. Описание результатов
    • 3. Моделирование разряда в ячейке экрана коллективного пользования (ЭКП). Исследование зависимости электродинамических и излучательных характеристик от частоты поддерживающих импульсов
      • 3. 1. Численная модель
      • 3. 2. Результаты расчетов
  • Глава 3. Исследование элементарных процессов в плазме электроотрицательных газов. Образование радикалов СБг и СБ при диссоциации молекул С? электронным ударом
    • 1. Введение
    • 2. Обработка экспериментальных данных
    • 3. Определение парциальных сечений диссоциации молекул С?4 электронным ударом по каналам с образованием радикалов СБг и СБ
  • Глава 4. Самосогласованная численная модель разряда постоянного тока в кислороде
    • 1. Введение
    • 2. Кинетическая схема
    • 3. Численная модель
    • 4. Результаты моделирования и обсуждение
      • 4. 1. Кинетика заряженных частиц
      • 4. 2. Кинетика атомов кислорода в основном состоянии 0(3Р)
      • 4. 3. Кинетика нижнего метастабильного состояния 02(а'Д)

Тема работы. Работа посвящена исследованию процессов в неравновесной низкотемпературной плазме на основе самосогласованного численного моделирования стационарных и нестационарных разрядов при пониженных значениях параметра рс1 (где р — давление, <1 — характерный размер плазмы). Это позволяет на основании адекватных подходов к описанию электронной и плазмохимической кинетики изучить процессы образования и гибели активных частиц плазмы в объеме и на поверхности.

Актуальность проблемы.

Широкий интерес к изучению неравновесной низкотемпературной плазмы в настоящее время обусловлен ее интенсивным использованием в современных технологиях: источники излучения, осаждение тонких пленок, процессы травления в микроэлектронике, получение новых материалов и др.

Наибольший прогресс в изучении плазменных систем и оптимизации их параметров может быть достигнут на основе совместного экспериментального и теоретического исследования. Сопоставление экспериментальных данных с результатами моделирования позволяет получить детальную информацию об элементарных процессах в плазме и выявить их влияние на электродинамику и кинетику разряда. С другой стороны, сравнение результатов вычислений с экспериментальными данными необходимо, чтобы установить степень корректности и области применимости создаваемых численных моделей.

Разряды низкого давления в плазме электроотрицательных газов являются основными источниками неравновесной низкотемпературной плазмы в ряде ключевых процессов в современных плазменных технологиях. Это обуславливает повышенный интерес к фундаментальным исследованиям разрядов в электроотрицательных газах, и в частности, различных элементарных процессов в плазме этих газов, что является необходимым условием для создания корректных самосогласованных моделей разрядов.

Научная новизна работы состоит в следующем.

Предложена и реализована гибридная самосогласованная модель разряда в ячейке плазменной дисплейной панели, описывающая кинетику быстрых электронов методом Монте Карло, а кинетику медленных электронов, ионов и всех нейтральных компонент в диффузионно-дрейфовом приближении. Показано влияние нелокальности энергетического спектра электронов на электродинамику разряда и динамику резонансного и димерного излучения. Исследована зависимость разрядных характеристик от частоты приложенного напряжения.

• Разработана самосогласованная модель тлеющего разряда постоянного тока (ТРПТ) в трубке в кислороде. Получены радиальные распределения заряженных и нейтральных частиц в плазме кислорода. На основе численного моделирования ТРПТ в кислороде и анализа экспериментальных данных установлен механизм быстрого тушения синглетного кислорода. Построена кинетическая модель гетерогенной гибели атомарного кислорода на стенках реактора.

• Из анализа экспериментальных данных и кинетических коэффициентов, полученных из решения уравнения Больцмана для функции распределения электронов, определены сечения неупругого рассеяния электронов в газах сложных молекул (Ср4). Получены припороговые значения сечений диссоциации электронным ударом молекулы С?4 по каналам с образованием радикалов СРг и СР.

Практическая ценность данной работы.

Расчеты, проведенные в данной работе, позволили объяснить ряд особенностей электронной и плазмохимической кинетики в разрядах и газовых средах, широко используемых в современных технологиях.

Результаты, полученные при моделировании физических процессов в разряде ячейки плазменной дисплейной панели, могут быть использованы при разработке схем ее электрического управления и оптимизации излучательных характеристик. Исследование механизмов образования и гибели активных частиц в плазме электроотрицательных газов является необходимым этапом для создания адекватных моделей, позволяющих рассчитывать сложные плазмохимические реакторы для различных процессов в технологии.

Основные положения, выносимые на защиту.

• Результаты моделирования разряда в ячейке плазменной дисплейной панели (ПДП) на основе самосогласованной гибридной модели. Влияние нелокальности энергетического спектра электронов на электродинамику разряда, динамику резонансного и димерного излучения.

Объяснение механизма насыщения излучения в ячейке ПДП при повышении частоты приложенного напряжения.

Результаты моделирования разряда постоянного тока в кислороде на основе самосогласованной одномерной численной модели. Описание перехода от электроотрицательного к электроположительному режиму горения разряда в кислороде при изменении тока разряда.

Определение зависимости вероятности гибели атомов кислорода на стенках реактора от давления на основе предложенной гетерогенной кинетической модели.

Рассмотрение механизмов, приводящих к тушению в плазме синглетного кислорода в состоянии 02(a'Ag).

Определение сечения диссоциации электронным ударом молекулы CF4 по каналам с образованием радикалов CF2 и CF в припороговой области энергий электронов.

Апробация работы.

Материалы, изложенные в диссертации докладывались на: конференции ICPIG XXXIII (International Conference on Phenomena in Ionized Gases), Тулуза, Франция, 1997; международной конференции студентов и аспирантов по фундаментальным наукам «Ломоносов-98» — симпозиуме 11 -th Symposium on elementary processes and chemical reactions in low temperature plasma, Низкие Татры, Словакия, 1998; конференции ФНТП-98 (Всероссийской конференции по физике низкотемпературной плазмы), Петрозаводск, Россия, 1998; симпозиуме 12-th Symposium on Application of Plasma Processes, Липтовский Ян, Словакия, 1999; конференции ICPIG XXXIV (International Conference on Phenomena in Ionized Gases), Варшава, Польша, 1999.

Основные результаты работы опубликованы в 12 печатных трудах [1] - [12]. Структура диссертации. Диссертация состоит из введения, четырех глав и списка литературы.

Основные результаты работы состоят в следующем:

1) Разработана гибридная самосогласованная модель разряда в ячейке плазменной дисплейной панели, описывающая кинетику быстрых электронов методом Монте-Карло, а кинетику медленных электронов, ионов и всех нейтральных компонент в диффузионно-дрейфовом приближении. Показано влияние нелокальности энергетического спектра электронов на электродинамику разряда и динамику резонансного и димерного излучения.

2) Исследована зависимость характеристик разряда в ячейке экрана коллективного пользования от частоты внешнего приложенного напряжения. На основе проведенного моделирования продемонстрировано, что с повышением частоты приложенного напряжения увеличивается остаточная плотность плазмы, облегчая развитие пробоя в следующем разрядном импульсе. В результате на больших частотах разряд может происходить в тот момент, когда приложенное напряжение не достигло своего максимального значения. С частотой уменьшается энергетическая эффективность разряда, поэтому увеличение частоты приложенного напряжения, и, следовательно, мощности вложенной в разряд энергии не приводит к пропорциональному росту мощности УФ излучения. Для увеличения эффективности разряда при больших частотах, необходимо ускорить распад плазмы между импульсами.

3) Исследован процесс диссоциации молекулы СБ4 прямым электронным ударом. Из анализа экспериментальных данных и кинетических коэффициентов, полученных из решения уравнения Больцмана для функции распределения электронов определены припороговые значения сечений диссоциации электронным ударом молекулы (Т4 по каналам с образованием радикалов СБг и СБ.

4) Разработана самосогласованная модель тлеющего разряда постоянного тока (ТРПТ) в трубке в кислороде. Получены радиальные распределения заряженных и нейтральных частиц в плазме кислорода. На основе проведенного моделирования описан переход от электроотрицательного к электроположительному режиму горения разряда в кислороде при изменении тока разряда.

5) Построена кинетическая модель гетерогенной гибели атомарного кислорода на стенках реактора. На основе предложенной модели объяснена зависимость вероятности гибели атомов кислорода на стенках реактора от давления.

6) Рассмотрены механизмы, приводящие к тушению в плазме синглетного кислорода в состоянии 02(а'Дё). На основе численного моделирования ТРПТ в кислороде и анализа экспериментальных данных установлен неизвестный ранее механизм объемного тушения синглетного кислорода.

В заключение приношу свою глубокую благодарность научному руководителю А. Т. Рахимову, и хочу выразить искреннюю признательность Т. В. Рахимовой и В. В. Иванову за интерес к работе и ценные обсуждения. Работа выполнена при поддержке Российского Фонда Фундаментальных Исследований (гранты № 96−02−18 770, 97−02−17 756, 96−15−96 447).

Заключение

.

Данная работа посвящена исследованию процессов в неравновесной низкотемпературной плазме на основе самосогласованного численного моделирования стационарных и нестационарных разрядов при пониженных значениях параметра р (1. Это позволяет на основании адекватных подходов к описанию электронной и плазмохимической кинетики изучить процессы образования и гибели активных частиц плазмы в объеме и на поверхности.

Показать весь текст

Список литературы

  1. V.V. 1. anov, K.S.Klopovskiy, YA. Mankelevich, O.V.Proshina, A.T.Rakhimov, T.V.Rakhimova, «One-dimensional hybrid model of plasma display cell «Proc. of XXXIII ICPIG (Toulose, France), vol. 2, p. 228, (1997).
  2. Ivanov V.V., .Klopovskiy K.S., .Lopaev D.V., .Popov N.A., Proshina O.V., .Rakhimov
  3. B.B. Иванов, Ю. А. Манкелевич, O.B. Прошина, A.T. Рахимов, Т. В. Рахимова. «Моделирование разряда в ячейке плазменной дисплейной панели в частотном режиме «. ФИЗИКА ПЛАЗМЫ, т. 25, с. 646 (1999).
  4. В.В.Иванов, К. С. Клоповский, Д. В. Лопаев, О. В. Прошина, А. Т. Рахимов, Т. В. Рахимова,
  5. B.Н. Волынец, Д. И. Словецкий. «Образование радикалов CF2 при диссоциации молекул CF4 электронным ударом в плазме газового разряда». ФИЗИКА ПЛАЗМЫ, т. 25, с. 716 (1999).
  6. MantzarisN.V., Boudouvis A., Godolides E., J.Appl.Phys,.ll, p.6169−6180, (1995).
  7. B.H., Словецкий Д. И., Химическая физика., т.11, с. 1620, (1992).
  8. McMillan B.K., Zacharian M.R., J. Vac.Sci. Technol, v. A15, p.230−237, (1997).
  9. W.N.G. Hitchon, D.J. Koch, J.B. Adams, J. Сотр. Phys., v. S3 (1989).
  10. A.M. Попов, А. Т. Рахимова, Т. В. Рахимова, Физика плазмы, т. 19, с. 1241 (1993).
  11. D. Loffhagen, R. Winkler, J.Phys.D, v.29, p. 618 (1996).
  12. B. Bernstein, T. Holstein, Phys.Rev., vol.94, p.1475 (1954).
  13. Л.Д. Цендин, ЖЭТФ, т.66, с. 1638 (1974).
  14. V.A. Feoktistov, A.M. Popov, O.B. Popovicheva, A.T. Rakhimov, T.V. Rakhimova, E.A. Volkova, IEEE Trans. Plasma Sci., vol. 19, p.163, (1991).
  15. V.N. Volynets, A.V. Lukyanova, A.T. Rakhimov, D. I. Slovetsky, N.V. Suetin, J.Phys.D, vol. 26, p. 647 (1993).
  16. M. Surendra, D.B. Graves, Phys.Rev.Lett., vol. 66, p. 1469 (1991).
  17. A.S. Smirnov, L.D. Tsendin, IEEE Trans. Plasma Sci., v. 20, p.86, (1992).
  18. B.B. Иванов, A.M. Попов, T.B. Рахимова, Физика плазмы, т.21, с. 731, (1995).
  19. U. Kortshagen, I. Pukropshy, L.D. Tsendin, Phys.Rev. E, vol. 51, p.6093 (1995).
  20. V.V.Ivanov, K.S.Klopovsky, D.V.Lopaev, Yu.A.Mankelevich, A.T.Rakhimov and T.V.Rakhimova, in Electron Kinetics and Applications of Glow Discharges ed. by U. Kortshagen and L.D.Tsendin NATO ASI Series, Series B: Physics vol .367, p.37, (1997).
  21. K.H.Schoenbach, A. El-Habachi, W. Shi, M.Ciocca. «High-pressure hollow cathode discharges». Plasma Scources Sci.Technol., Vol.6, pp.468−477 (1997).
  22. V.G. Samoilovich, V.I. Gibalov, K.V. Kozlov, Physical Chemistry of the Barrier Discharge, DVS-Verlag, Dussedorf, p. 1−26,(1997).
  23. U.Kogelschatz, Pure & Appl. Chem., v. 62, p.1667, (1990).
  24. D.Brawn, V. Gibalov, G. Pietsch, Plasma Sources Sci. Technol., v.1, p. l, (1992).
  25. L. F. Weber, in Flat Panel Displays and CRT’s, edited by L.E. Tannas, Jr. (Van Rostand Reinhold, New York, 1985), p. 322.
  26. C. Lanza and O. Sahni, IBM J. Res. Develop., vol. 22, p. 641, (1978).
  27. J. Meunier, Ph. Belenguer and J. P. Boeuf, J. Appl. Phys., vol. 78(2), p.731, (1995).
  28. K. Takanashi, S. Hashiguchi, Y. Murakami, M. Takei, K. Iton, K. Tachibana and T. Sakai, Jpn. J. Appl. Phys., vol. 35, p. 251, (1996).
  29. R. Veerasingam, R. B. Campbell and R. T. McGrath, IEEE Transactions on Plasma Science, vol. 23, p. 688, 1995.
  30. J. P. Boeuf and L. C. Pitchford, IEEE Transactions on Plasma Science, vol. 24, p. 95, (1996).
  31. R. B. Campbell, R. Veerasingam, and R. T. McGrath, IEEE Transactions on Plasma Science, vol. 23, p. 698, (1995).
  32. N. J. Chou, J. Vac. Sci. Technol, Jan./Feb. 1977.
  33. S. R. Hunter, J. G. Carter, and L. G. Christophorou, Phys. Rev. A, vol. 38, p. 5539, (1988).
  34. M. Hayashi, J. Phys. D, vol. 16, p. 581, (1983).
  35. V. Puech and S. Mizzi, J. Phys. D, vol. 24, p. 1974, (1991).
  36. D. Rapp and P. Englander- Golden, J. Chem. Phys., vol. 43, p. 1464, (1965).
  37. D. Thon- That and M. R. Flannery, Phys. Rev. A, vol. 15, p. 517, (1977).
  38. H. A. Hyman, Phys. Rev. A, vol. 20, p. 855, (1979).
  39. A. G. Robertson, J. Phys. B, vol. 5, p. 648, (1972).
  40. Shimamura, Scientific papers of the Institute of Physical and Chemical Research 82:1,(1989).
  41. R. C. Wetzel, F. A. Baiocchi, T. R. Hayes, and R. S. Freund, Phys. Rev. A, vol. 35, p.559, (1987).
  42. F. G. de Heer, R. H. J. Jansen, and W. van der Kaay, J. Phys. B, vol. 12, p. 979, (1979).
  43. W. Furssov and A. Vlassov, Phys. Zeits. Sowjetunion, vol. 10, p.378, (1936).
  44. A. C. G. Mitchell and M. W. Zemansky, Resonance Radiation and Exited Atoms, p. 97, (The Macmillan Company, New York, 1934).
  45. JI. M., ЖЭТФ, т. 17, с. 416, (1947).
  46. Л. М., Воробьев В. С., Якубов И. Т., «Кинетика неравновесной низкотемпературной плазмы», глава 3, (Москва, «Наука», 1982).
  47. Т. Holstein, Phys. Rev., v. 72, p. 1212, (1947) — Т. Holstein, Phys. Rev., v. 83, p. 1159, (1951).
  48. L. A. Levin, S. E. Moodly, E. I. Klosterman, R.E. Center, and J. J. Ewing, IEEE J. Quantum Electron, vol. QE-17, p. 2282, (1981).
  49. H. S. Oskham and V. R. Mittelstad, Phys. Rev., vol.32, p. 1445, (1963).
  50. Gen. Inoue, J. K. Ku, and D. W. Setser, J. Chem. Phys., vol.81, p. 5760, (1984).
  51. Y. Salamero, A. Birot, J. Galy, and P. Millet, J. Chem. Phys., vol.80, p. 4774, (1984).
  52. J. Galy, K. Aouame, A. Birot, H. Brunet, and P. Millet, J. Phys. B, vol. 26, p. 447, (1993).
  53. R. Brodmann and G. Zimmerer, J. Phys. B, vol. 10, p. 3395, (1977).
  54. W. J. Alford, J. Chem. Phys., vol. 96, p. 4330, (1992).
  55. J. W. Keto, R. E. Gleason, J. D. Bornifield, G. K. Walters, and F. K. Soley, Chem. Phys. Lett., vol. 42, p. 125, (1976).
  56. G. Thornton, E. D. Poliakoff, E. Matthias, S. H. Southworth, R. A. Rosenberg, M. G. White, and D. A. Shirley, J. Chem. Phys., vol. 71, p. 133, (1979).
  57. J. Meunier, Ph. Belenguer and J. P. Boeuf, J. Appl. Phys., vol. 78(2), p.731, (1995).
  58. Godolides E» Sawin H.H., J.Appl.Phys., vol.72, p.3921, (1992).
  59. Mantzaris N.V., Boudouvis A., Godolides E., J.Appl.Phys., vol.77, p.6169, (1995).
  60. Masek K., Laska L., D’Agostino R., Cramarossa F., Beitr.Plasmaphys., vol.27, p. 15, (1987).
  61. Д.И., Дерюгин A.A. в сб. Химия плазмы 13 (Энергоатомиздат, Москва, 1987) с. 240.
  62. Feoktistov V.A., Ivanov V.V., Popov A.M., Rakhimov А.Т., Rakhimova T.V., SlovetskyD.I., Volynets V.N., J.Phys.D., vol. 30, p. 423, (1997).
  63. Hayashi M. Handbook of Plasma Matirial Science. Tokyo: Ohm, 1992. p.762
  64. Wormhout J., J. Vac.Sci.Technol, vol. A8, p. 1722, (1990).
  65. Hansen S.G., Luckman G., J. Vac.Sci. Technol., vol. B8, p. 128, (1990). 73. Ito S., Nakamura K., Sugai H., Jpn.J.Appl.Phys, vol.33, p. L1261, (1994).
  66. McMillan B.K., Zacharian M.R., J. Vac.Sci.Technol., vol. A15, p.230, (1997).
  67. П.И., Словецкий Д. И., Шелыхманов Е.ФХимия высоких энергий, т.21, с. 458, (1987).
  68. Ю.С., Осадчук B.C., Словецкий Д. И., Таранов С. В., Химия высоких энергий, т.23. с. 317 (1989).
  69. В.Н., Словецкий Д.ИХимическая физика, т. 11, с. 1620, (1992).
  70. Plumb I.C., Ryan K.R., Plasma Chem. Plasma Process, vol.6, p.205, (1986).
  71. Ryan K.R., Plumb I.C., Plasma Chem. Plasma Process, vol.6, p.231, (1986) —
  72. Edelson D., Flamm D.L., J.Appl.Phys., vol.56, p. 1522, (1984).
  73. Д.И. в сб. Химия плазмы.10 (Энергоатомиздат, Москва, 1983), с. 108.
  74. Park S.K., Economou D.J., J. Electrochem. Soc,.vol.138, p.1991, (1991).
  75. Winters H., Inokuti M., Phys.Rev. A., vol.25, p. 1430, (1982).
  76. Bruce M.R., Ce Ma, Bonham R.A., Chem.Phys.Lett., vol.190, p.285, (1992).
  77. Nakano Т., Sugai H., Jpn.J.Appl.Phys., vol.31, p.2919, (1992).
  78. L.Mi, R.A.Bonham, J.Chem.Phys., vol. 108 p.1910, (1998).
  79. H.Nishimura, W.M.Huo, M.A.Ali, Y.-K.Kim, J.Chem.Phys., vol. 110, p.3811, (1999).
  80. M. C. Bordage, P. Segur, and A. Chouki, J. Appl. Phys., vol 80, p. 1325, (1996).
  81. L.G.Christophorou, J.K.Otthoff, and M.V.V.S.Rao, J.Phys.ChemRef.Data, vol. 25, p.1341, (1996).
  82. M. C. Bordage, P. Segur, L.G.Christophorou and J.K.Otthoff, J. Appl. Phys., vol 86, p.3558, (1999).
  83. Nakano Т., Toyoda H., Sugai H., Jpn.J.Appl.Phys., vol.30, p.2908, (1991).
  84. Nakano Т., Toyoda H., Sugai H., Jpn.J.Appl.Phys., vol.30., p.2912, (1991).
  85. M.R. Bruce and R.A. Boham, Intern. J. Mass Spectrom. Ion Process, vol. 123, p.97 (1993).
  86. R. A. Boham, Jpn. J. Appl. Phys., vol.33, p.4157 (1994).
  87. H. Sugai, H. Toyoda, T. Nakano, and M. Goto, Contrib. Plasma Phys., vol. 35, p.415 (1995).
  88. G. Cunge and J. P. Booth, J. of Appl. Phys., vol. 85, p. 3952 (1999).
  89. E.Stoffels, W.W.Stoffels, D. Vender, M. Kondo, G.M.W.Kroesen and F.J. deHoog, Phys.Rev.E, vol.51, p.2425, (1995).
  90. E.Gogolides, M. Stathakopoulos and A. Boudouvis, J. Phys. D: Appl. Phys., vol.27, p.1878, (1994).
  91. R.N.Franklin, P.G.Daniels and J. Snell, J .Phys. D: Appl. Phys., vol.26, p.1638, (1993).
  92. OftD.P.Lymberopoulos and D.J.Economou, IEEE Trans. Plasma sci., vol.23, p.573, (1995).
  93. О/.V.V.Ivanov, K.S.Klopovsky, D.V.Lopaev, Yu.A.Mankelevich, A.T.Rakhimov and T.V.Rakhimova, in Electron Kinetics and Applications of Glow Discharges ed. by Uwe Kortshagen and Lev D. Tsendin NATO ASI Series, Series B: Physics vol .367, p.37, (1997).
  94. D.V.Vender, W.W.Stoffeels, E. Stoffels, G.M.W.Kroesen and F.J.deHoog, Phys.Rev.E, vol.51, p.2436, (1995).
  95. V.A.Feoktistov, D.V.Lopaev, K.S.Klopovsky, A.M.Popov, O.B.Popovicheva, A.T.Rakhimov, T.V.Rakhimova, J.ofNucl.Mater, vol.200, p.309, (1993).
  96. C.M.Ferreira, G. Gousset and M. Touzeau, J.Phys.D:Appl.Phys., vol.21, p. 1403, (1998).
  97. A.J.Lichtenberg, V. Vahedi and M.A.Liberman, J.Appl.Phys., vol.75, p.2339, (1994).
  98. I.G.Kouznetsov, A.J.Lichtenberg and M.A.Liberman, Plasma Sourc.Sci. Technol, vol.5, p.662, (1996).
  99. M.Shibata, N. Nakano and T. Makabe, J.Phys.D:Appl.Phys» vol.30, p.1219, (1997).
  100. D.Hayashi and K. Kadota, J.Appl.Phys., vol.83, p.697, (1998).
  101. D. Pagnon, J. Amorim, J. Nahorny, M. Touzeau and M. Vialle, J. Phys. D, vol. 28, p.1856 (1995).
  102. G. Gousset, C.M. Ferreira, M. Pinheiro, P.A. Sa, M. Touzeau, M. Vialle and J. Loureiro, J. Phys. D, vol. 24, p.290 (1991).
  103. H.V.V.Ivanov, K.S.Klopovsky, D.V.Lopaev, A.T.Rakhimov and T.V.Rakhimova, IEEE Trans. Plasma sci., vol.27, p. 1279, (1999).
  104. Franklin R.N., Snell J., J.Phys. D, vol. 27, p. 2102, (1994).
  105. V.A.Feoktistov, V.V. Ivanov, A.M.Popov, A.T.Rakhimov, T.V.Rakhimova, D. I Slovetsky and V.N. Volynets, J.Phys. D: Appl.Phys., vol. 30, p.423, (1997).
  106. Мак-Даниэль И. и Мэзон Э., «Подвижность и диффузия ионов в газах», М., Мир, 1976, с. 142.
  107. L. Magne, Н. Coitout, G. Chernogora and G. Gousset, J. Phys. Ill France, vol.3, p. 1871 (1993).
  108. Y.C. Kim and M. Boudart, Langmuir, vol. 7, p.2999 (1991).
  109. H. Sabatil, S. Pfau, Plasma Chem. Plasma Process, vol.5, p.67 (1985).
  110. G. Carty, L. Magne and G. Cernogora, J. Phys. D, vol. 32, p. L53 (1999).
  111. K.S. Klopovskiy, D.V. Lopaev, N.A. Popov, A .T. Rakhimov amd T.V. Rakhimova, J. Phys. D» vol. 32, p. 3004 (1999).
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!