Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Разработка и исследование количественного и структурного контроля материалов методами спектрального анализа

Диссертация: Разработка и исследование количественного и структурного контроля материалов методами спектрального анализа
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

За последнее десятилетие значительно увеличился выпуск и номенклатура отечественного и зарубежного оборудования для эмиссионного спектрального анализа. Это связано как с ростом масштабов производства и научных исследований, так и с возрастанием роли эмиссионного спектрального анализа. Особенно заметно расширение выпуска автоматизированной аппаратуры с фотоэлектрической регистрацией спектра… Читать ещё >

Разработка и исследование количественного и структурного контроля материалов методами спектрального анализа (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • Глава 1. Методы и средства атомно-эмиссионного спектрального анализа
    • 1. 1. Сущность метода, его назначение, основные цели и задачи
      • 1. 1. 1. Основные принципы определения интенсивности излучения
      • 1. 1. 2. Фотографический метод регистрации излучения. а. Метод «трех» эталонов. б. Метод контрольного эталона
      • 1. 1. 3. Фотоэлектрический метод регистрации излучения
    • 1. 2. Принципы построения автоматизированных систем
    • 1. 3. Автоматизированные системы фотографического анализа
    • 1. 4. Автоматизированные системы фотоэлектрического анализа
    • 1. 5. Совершенствование фотоэлектрических систем.29 '
      • 1. 5. 1. Внедрение многоканальных приемников излучения
      • 1. 5. 2. Многоканальный анализатор атомно-эмиссионных спектров МАЭС
      • 1. 5. 3. Переносной оптический эмиссионный спектрометр
      • 1. 5. 4. Цифровой тандем VS-Ld-751 с камерой на линейном датчике
  • SONY ILX-751A
    • 1. 5. 5. Видео матрицы на основе диодных линеек
    • 1. 6. Выводы
  • Глава 2. Разработка и исследование аналитических методов структурного анализа
    • 2. 1. Особенности изолированных систем обработки данных
    • 2. 2. Принцип преобразования реальных систем в изолированные
      • 2. 2. 1. Общие уравнения для фазового смещения
      • 2. 2. 2. Принцип построения неравновесных систем
    • 2. 3. Преобразование параметров в системах обработки данных при изменении условий теплообмена с внешней средой
    • 2. 4. Разработка методики разделения количественного состава и структурных свойств материалов
      • 2. 4. 1. Экспериментальное подтверждение
      • 2. 4. 2. Структурная схема контроля механических свойств
    • 2. 5. Оценки степени гомологичности аналитических систем
      • 2. 5. 1. Метод оценки гомологичности по фазовым соотношениям
    • 2. 6. Разработка методики определения погрешностей при количественном и структурном анализе
    • 2. 7. Выводы
  • Глава 3. Разработка аналитических методов количественного анализа на основе использования контрольных эталонов
    • 3. 1. Цель исследований
    • 3. 2. Разработка методов многопараметрового анализа для оптимизации моделей анализа в широком диапазоне изменения содержания элементов
    • 3. 3. Способы создания измерительно-вычислительных систем обработки данных
    • 3. 4. Сущность метода последовательных приближений
    • 3. 5. Алгоритм метода последовательных приближений
    • 3. 6. Экспериментальная проверка метода вычислений
      • 3. 6. 1. Пример расчета при фотографическом анализе
      • 3. 6. 2. Пример расчета при фотоэлектрическом анализе (для диодных линеек)
      • 3. 6. 3. Экспериментальные данные фотоэлектрического анализа комплекта ГСО № 11 для сплава алюминия АК5М
    • 3. 7. Исследования многопараметровых моделей обработки информации
      • 3. 7. 1. Сущность многопараметровых методов и их значение
      • 3. 7. 2. Разработка способов количественных оценок достоверности получаемых результатов
    • 3. 8. Разработка и исследование входного экспресс контроля материалов
    • 3. 8. 1,Постановка задачи
      • 3. 8. 2. Основные принципы входного контроля
      • 3. 8. 3. Разработка способа расчета энергетических характеристик
    • 3. 9. Структурная схема входного контроля материалов
    • 3.
  • Выводы
  • Глава 4. Исследование, разработка и внедрение специализированных устройств спектрального анализа
    • 4. 1. Основные требования к разрабатываемым устройствам
      • 4. 1. 1. Общие характеристики разрабатываемых устройств
    • 4. 2. Устройство и принцип работы фотоэлектрического анализатора для контроля структурных особенностей
    • 4. 3. Устройство и принцип работы фотоэлектрического анализатора для входного контроля материалов
      • 4. 3. 1. Назначение системы SKCCD
      • 4. 3. 2. Технические характеристики и условия эксплуатации
    • 4. 4. Описание работы компонентов системы SKCCD
      • 4. 4. 1. Фоторегистрирующий блок
      • 4. 4. 2. Особенности конструкции узлов приемников излучения
      • 4. 4. 3. Структурная схема измерительного комплекса
      • 4. 4. 4. Разработка метода распознавания образов спектральных линий
    • 4. 5. Рабочая программа для системы SKCCD
      • 4. 5. 1. Интерфейс рабочей программы
      • 4. 5. 2. Описание режимов работы программного обеспечения
      • 4. 5. 3. Управление прожигом
    • 4. 6. Расчёт концентраций в системе SKCCD
    • 4. 7. Разработка базового анализатора фотографического типа
      • 4. 7. 1. Структура базового анализатора
      • 4. 7. 2. Принцип работы анализатора
      • 4. 7. 3. Методика определения концентрации элементов
    • 4. 8. Разработка модифицированного анализатора фотографического типа с умножением частоты
      • 4. 8. 1. Структура модифицированного анализатора
      • 4. 8. 2. Принцип работы анализатора
    • 4. 9. Разработка модифицированного анализатора фотографического типа с визуальной коррекцией
      • 4. 9. 1. Структура анализатора
      • 4. 9. 2. Состав модифицированного анализатора
      • 4. 9. 3. Принцип работы анализатора
      • 4. 9. 4. Поиск аналитических линий
      • 4. 9. 5. Вычисление концентрации
    • 4.
  • Выводы

Современные спектральные методы являются эффективным инструментом для анализа химического состава различных веществ. Существенным достоинством этих методов является то, что соответствующие приборы сопрягаются с ЭВМ, позволяют анализировать очень малые количества вещества в процессе накапливания регистрируемого сигнала. Применение ЭВМ позволило не только ускорить получение данных и повысить надежность аналитического контроля, но и создать оригинальные, принципиально новые методы исследования. Широкое распространение получили методы, основанные на использовании информационно-поисковых систем, экспертных систем и принципов распознавания образов.

За последнее десятилетие значительно увеличился выпуск и номенклатура отечественного и зарубежного оборудования для эмиссионного спектрального анализа. Это связано как с ростом масштабов производства и научных исследований, так и с возрастанием роли эмиссионного спектрального анализа. Особенно заметно расширение выпуска автоматизированной аппаратуры с фотоэлектрической регистрацией спектра. Применение методов фотоэлектрической регистрации позволило разработать спектральную аппаратуру, сочетающую в себе высокую чувствительность, точность и экспрессность проводимых анализов. Достижения последних лет в области спектрального приборостроения объясняется следующими факторами:

— быстрым совершенствованием вычислительной техники, позволившей оснастить практически каждый выпускаемый прибор мощной ЭВМ, обеспечивающей все необходимые виды математической обработки, полную автоматизацию процесса измерений и управления анализами;

— разработкой новых компактных оптических схем;

— прогрессом в разработке новых источников возбуждения спектра;

— созданием малогабаритных высокочувствительных и стабильных фотоприемников спектрального излучения;

— разработкой линейных и координатно-чувствительных матричных многоканальных приемников.

Несмотря на преимущественное развитие аппаратуры с фотоэлектрической регистрацией спектра, сохранились и даже непрерывно возрастают масштабы производства приборов с визуальной и фотографической регистрацией. Это связано как с потребностями народного хозяйства страны, так и со спецификой некоторых отраслей, таких, например, как геология, медицина и т. д., где часто необходимо иметь компактный документ, дающий представление обо всем спектре образца (фотопластинка, пленка). Кроме того, ограниченные возможности производства автоматизированных установок с фотоэлектрической регистрацией спектра, их высокая стоимость, а также недостаточная пока надежность, зачастую заставляют потребителя использовать приборы либо с фотографической регистрацией, либо устройства с визуальной регистрацией спектров. Здесь следует отметить, что основным недостатком этих методов является необходимость фотографирования и последующей обработки фотоприемников (фотопластинок). Такая обработка данных измерений является одной из самых трудоемких этапов анализа и сопровождается наличием субъективных погрешностей. Однако, с развитием и совершенствованиемэлементной базы и в целом возможностей ЭВМ стала возможной автоматизация процессов фотографических методов анализа и повышение их эффективности.

Технический прогресс используемых систем анализа и контроля качества, в том числе и атомно-эмиссионных средств спектрального анализа, во многом определяется масштабностью внедрения автоматизированных систем в различные сферы деятельности. При этом, основой эффективности внедрения устройств анализа является наличие следующих элементов: первичных преобразователей, способных с наибольшей эффективностью и качеством обеспечивать надежный прием информации от низкотемпературной плазмы и последующее преобразование интенсивности спектрального излучения в регистрируемые импульсы с минимальным уровнем помехвычислительных устройств, способных с максимальной эффективностью обеспечивать автоматизацию процесса контроля, осуществлять хранение информационных параметров, производить дальнейшее преобразование и передачу этих параметров в блоки математической обработки результатов измерений.

Следует отметить, что на этапах приема, хранения и обработки информации важным является наличие этапа распознавания. Для этих целей целесообразно использовать персональный компьютер в качестве измерительной телевизионной системы. В этом случае предварительная обработка получаемых на мониторе спектрограмм является одним из основных этапов этого процесса распознавания. Он включает в себя операции преобразования оптического изображения для уменьшения в нем информационной избыточности.

Оптимальное распределение операций по обработке сигналов в элементах телевизионных измерительных систем, входящих в состав аппаратуры эмиссионного спектрального анализа, позволяет, на наш взгляд, повысить эффективность систем измерения и контроля. В диссертационной работе этот важный элемент аналитического контроля нашел применение при создании систем входного контроля и определения марок неизвестных материалов. отдельных блоков математической обработки информационных параметров, обеспечивающих на основе физического моделирования процессов в источнике информации (низкотемпературной плазме) расширение области практического применения методов спектрального анализа, получение конечных результатов исследований с оценкой их достоверности, точности и соответствия государственным стандартам. Способы решения указанных проблем изложены во второй и третьей главах диссертации.

Целью диссертационной работы является дальнейшее совершенствование и развитие атомно-эмиссионных методов аналитического контроля за счет разработки и создания новых методов и средств математической обработки результатов измерений, обеспечивающих: уменьшение информационной избыточности на этапе преобразования информацииоптимальную и адаптивную обработку сигналов на этапе распознавания, повышение за счет этого точности и достоверности на конечных этапах расчета процентного содержания элементов в материалах и изделиях с количественной оценкой этих параметров и соответствия получаемых результатов государственным стандартамрасширение сферы использования существующих методов спектрального анализа за счет совершенствования математической обработки и создания на этой основе новых способов входного контроля химсостава образцов и распознавания марок неизвестных объектовразработку и внедрение методик, алгоритмов и устройств спектрального анализа, обеспечивающих на основе достижения современных информационных технологий качественный анализ содержания элементов в пробах, а также входной контроль и структурный анализ материалов.

Очевидно, что в спектральном анализе определение химсостава материалов не является самоцелью. Так как в результате изменения процентного содержания отдельных компонентов изменяются и численные значения отдельных механических параметров (твердости, пластичности, текучести и т. д.), то в целом изменяется механическое состояние исследуемых объектов. Таким образом, изменение количественного содержания элементов является косвенным признаком определенного физико-механического состояния объектов и поэтому конечной целью проводимых анализов должно являться не только установление соответствия определенным маркам материала, но и его механического состояния. Только в этом случае можно говорить об эффективности используемых средств анализа и контроля качества, в том числе и спектральных методов.

С позиций изложенного, наиболее оптимальным в спектральном анализе является не просто определение количественного состава элементов материалов, ни и их механического состояния, определяемого структурными особенностями.

Другой важной проблемой в этой связи является разработка методов и средств реализации входного контроля материалов и определения марок неизвестных материалов.

Решение всех этих проблем является актуальным и способствует более эффективному использованию существующих спектральных методов.

Как показано в диссертации, большая роль в решении этих вопросов принадлежит многопараметровым методам исследований, не используемым до настоящего времени в спектральном анализе.

Основные результаты диссертационной работы. 1. Показано, что с целью повышения точности и достоверности результатов количественного спектрального анализа, обработку информационных параметров следует проводить в изолированных равновесных системах для элемента пробы и стандартного образца. Определены условия получения этих систем путем преобразований относительных многопараметровых функциональных зависимостей в предлагаемой физической модели. Предложена методика определения содержаний элементов в равновесных системах вычислений.

2. Доказано, что мерой количественного изменения структурных свойств материалов является изменение полученного в модели относительного энергетического параметра при переводе анализируемой пары эталон-проба либо из неизолированной (реальной) системы в изолированную, либо при ее переводе из изолированного состояния в равновесное. Причем, во втором случае уровень сигнал-помеха увеличивается. Приведены алгоритмы преобразований этих систем.

3. Впервые разработаны и предложены новые методики и алгоритмы количественных расчетов изменений структурных особенностей материалов, определяющих физико-механические состояния контролируемых объектов.

4. Предложена методика разделения информационных параметров, определяющих количественные и структурные составляющие при проведении комплексных атомно-эмиссионных спектральных анализов.

5. Предложены методики определения отдельных механических параметров материалов и готовых изделий по изменению структурных свойств, определяемых величиной углового смещения выходной характеристики.

6. Разработана и предложена структурная схема контроля изменения механических свойств материалов на основе спектральных методов количественного анализа.

7. Разработана методика оценки отдельных составляющих общей погрешности при определении структурных свойств и количественного состава ис-ледуемых объектов.

8. Разработан и предложен новый способ математической обработки с помощью многопараметровых функциональных зависимостей в физической модели источника спектрального излучения для единой системы анализа в виде «контрольный эталон — исследуемая проба». Это позволяет повысить точность, быстродействие и экономическую эффективность аналитического контроля.

9. Предложена методика и алгоритм вычислений для повышения точности и достоверности получаемых результатов анализа за счет уменьшения влияния структурных особенностей пробы и образца, влияния внешней среды и условий проведения эксперимента, а также влияния «третьих» элементов и не идентичности процессов самопоглощения элементов пробы и контрольного эталона в облаке низкотемпературной плазмы.

10. Определены условия гомологичности аналитической пары в стандартном образце и пробе с точки зрения законов сохранения энергии, выраженных через параметры предлагаемой физической модели. Это позволяет минимизировать погрешности вычислений при использовании одного контрольного эталона для всех возможных интервалов изменения процентного содержания элементов.

11. Разработан и предложен метод последовательных приближений для повышения эффективности и качества результатов спектрального анализа. Метод предусматривает наличие промежуточных этапов вычислений, на каждом из которых в качестве вспомогательных образцов используются виртуальные эталоны.

Предложенный метод позволяет прогнозировать получаемые погрешности по значениям относительных ошибок между измеренными и вычисленными информационными параметрами (плотности почернений или относительными напряжениями).

12. Впервые предложен метод многопараметрового анализа, позволивший оптимизировать широкий перечень задач спектрального анализа путем использования определенной совокупности исследуемых параметров для решения конкретной задачи.

Таким образом определен перечень используемых параметров в физической модели низкотемпературной плазмы, позволяющий решить проблему входного контроля и определения марок неизвестных арок материалов.

13. Предложен алгоритм выбора определенного материала из всего перечня материалов, находящихся в базе данных персонального компьютера.

14. Разработана и предложена структурная схема входного экспресс контроля и определения марок неизвестных материалов.

15. Разработан и предложен способ количественной оценки достоверности результатов спектрального анализа, основанный на вероятности попадания измеренного интервала концентраций в интервал, предусмотренный государственными стандартами на проведение спектрального анализа.

16. Разработан автоматизированный анализатор для контроля структурных свойств контролируемых материалов. Он включает промышленный спектрограф ИСП-30, промышленный источник возбуждения спектров УГЭ4 и регистратор интенсивности спектрального излучения на основе линейных CCD с ПЗС фотодиодными линейками.

17. Разработано автоматизированное фотоэлектрическое устройство для входного контроля и определения марок неизвестных материалов.

В основу предлагаемого устройства положена система SKCCD, которая представляет собой полупроводниковый оптический многоканальный анализатор и предназначена для регистрации атомно-эмиссионных спектров и последующей компьютерной обработки получаемых данных. Система является стационарной и используется как регистрирующая часть спектральных установок. Основой регистрирующей части систем SKCCD являются многоканальные полупроводниковые фотоэлектрические приемники.

18. Разработаны анализаторы фотографического типа. Основой анализаторов являются автоматизированные микрофотометры, обеспечивающие поиск спектральных линий по координатам реперных линий.

С целью повышения эффективности и качества съема и обработки информации предложены две модификации анализаторов:

— анализаторы с умножением частоты;

— анализаторы с визуальной коррекцией.

19. Отличительными особенностями предложенных устройств спектрального анализа являются следующие:

— устройства снабжены системами автоматизированного поиска контролируемых спектральных линий. Для облегчения поиска линий гистограммы напряжений представляются в виде эквивалентных спектрограмм с нормированными коэффициентами;

— определение процентного содержания элементов производится с помощью только одного контрольного эталона (стандартного образца) для всего интервала изменения количественного содержания;

— в конечных блоках устройств предусматривается нахождение погрешности и достоверности полученного результата с учетом требований государственных стандартов.

Все разработанные анализаторы прошли производственные испытания по предприятиях г. Омска.

Анализатор входного контроля внедрен на предприятии «Омскагрегат».

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

.

Показать весь текст

Список литературы

  1. А. Н. Техника и практика спектроскопии. М.: Наука, 1976. — 392 с.
  2. В.В., Белянин В. Б. Современное состояние и перспективы развития спектрального анализа / Новые методы спектрального анализа. — Новосибирск: Наука, 1983.
  3. К. И. Исследование возможности повышения чувствительности эмиссионного спектрального анализа при фотографической регистрации спектров: Автореф. канд. дис. — Минск, 1965.
  4. С. А. и др. Состояние и перспективы развития отечественных оптических квантометров // Заводская лаборатория. 1982. — № 2.
  5. Метод определения процентного содержания элементов при фотографическом спектральном анализе / Ю. В. Селезнев, В. П. Кузнецов, К. П. Кор-нев, Б. Ф. Никитенко // Изв. вузов СССР. Приборостроение. 1991. — № 2.
  6. В. Н., Цой Е. В., Коваль К. К. Об алгоритме построения градуировочных графиков в автоматизированных системах обработки результатов спектрального анализа // Заводская лаборатория. 1986. — № 6.
  7. С. В. Математическое обеспечение автоматизированных систем аналитического контроля: Дисс.. канд. техн. наук. М.: 1986.
  8. Н. В., Рюхин В. В., Горбунов С. А. Эмиссионный спектральный анализ. — Л.: Машиностроение, 1971.-214 с.
  9. А. Г. Методы расчета в количественном спектральном анализе. — Л.: Недра, 1977.-108 с.
  10. Л. П., Шеверда Б. А. Оптимизация параметров градуировочных функций для квантометров фирмы ARL // Заводская лаборатория. — 1988. — № 2.
  11. . Ф., Казаков Н. С., Кузнецов В. П. Пути повышения достоверности и точности анализа эмиссионной спектроскопии. — М.: ЦНИИИ и ТЭИ, 1989.-53 с.
  12. Chamberlain J. The principles of interferometric spectroscopi. -Chichester- New York- Brisbane- Toronto: Awiley-Inter-science publication, 1979.
  13. Т. Оценка точности результатов измерений. —М.: Энерго-атомиздат, 1988. 88 с.
  14. А. И. Математические методы исследования и диагностика материалов (обобщающая статья) / Заводская лаборатория. Диагностика материалов, 2003, № 3, с. 53
  15. А. Д. Метод повышения точности измерений, основанный на распознавании УФ-спектров / Измерительная техника, № 4, 2003
  16. B.C. Точностный расчет при проектировании измерительных приборов. // Измерительная техника. № 12, 2000.
  17. Automated multicomponent analysis with corrections for interferences and mattrix effects. / J.N. Kalivas, B.R. Kowalski // Analytical chemistry. 1983. — № 55.
  18. Хоц M. С. Компьютерные методы в качественном спектральном анализе многокомпонентных смесей / Заводская лаборатория, 1990, № 6, с. 31−38
  19. Марпл-мл C.JI. Цифровой спектральный анализ и его приложения. -М.: Мир, 1990.
  20. Методы анализа, применяемые на Златоустовском металлургическом заводе // Заводская лаборатория. 1982. — № 6.
  21. Ю.М. Автоматизированная обработка результатов атом-но-эмиссионного спектрального анализа //Заводская лаборатория. — 1988.— N9.
  22. Н.С., Перелыгин С. Ф., Казанцева Т. И. Автоматизированная система обработки фотографических спектров // Аналитика Сибири-90: Тез. докл. на 111 регион, конф. — Иркутск, 1990.
  23. А. А., Копелев О. Н., Никитенко Б. Ф. Автоматизированный комплекс для фотографического спектрального анализа. // Тез. докл. 111 Всесоюз. науч.-техн. конф. Омск, 1993.
  24. A.M., Сабеняк В. И. Количественный эмиссионный спектральный анализ без сопровождающих эталонов // Журн. прикладной спектроскопии. — 1984. № 5.
  25. Tai M.N., Harwitt М., Sloane N.J.A. //Appl. Opt.,-1975. V. 14, P. 2678.
  26. А.Б., Шубина С. В. Промышленные методы спектрального анализа. М.: Металлургия, 1965. — 224 с.
  27. А. А., Корнаушенко И. И., Никольский А. П. Автоматизированные системы спектрального анализа на Челябинском металлургическом комбинате // Заводская лаборатория. № 5. — 1985.
  28. Н.А., Мельников В. И., Никольский А. П. Автоматизированные системы оптического спектрального анализа металлов и сплавов // Заводская лаборатория,. — 1986.-№ 6.
  29. Н.А. Совершенствование методов атомно-эмиссионного спектрального анализа металлов и сплавов с помощью ЭВМ // Заводская лаборатория. — 1991. № 8.
  30. В. Б., Недлер В. В. Проблемы и перспективы спектрального анализа. // Заводская лаборатория. — 1984. — № 10.
  31. Современные методы химико-аналитического контроля в машиностроении.-М.: МДНТП, 1981.- 157 с.
  32. А.Н., Калитевский Н. И., Липис Л. С., Чайка М. П. Эмиссионный спектральный анализ атомных материалов. -М.: Физматгиз, 1960.
  33. Я.Д. Физические основы спектрального анализа. — М.: Наука, 1980.-158 с.
  34. .Ф., Казаков Н. С., Кузнецов А. А. Повышение эффективности атомно-эмиссионного экспресс-анализа // Передовой производственный опыт. 1991.
  35. А.П., Замараев В. П., Бердичевский Г. В. Автоматизированный экспресс-контроль состава материалов в черной металлургии. — М.: Металлургия, 1985. 104 с.
  36. Н. А. Механические свойства металлов в проблемах продления ресурса безопасной эксплуатации высокорисковых объектов / Заводская лаборатория. Диагностика материалов, 2000, № 1, с. 9
  37. М. Н., Зажогин А. П., Чекан В. А., Маркова Л. В., Коледа В. В., Турутин А. Ф. Применение атомно-эмиссионного спектрометра «ЭМАС-200Д» в многоэлементном анализе металлов и сплавов / Заводская лаборатория, 1999, № 4, с.24
  38. Kalivas J.N., Kowalski B.R. Automated multicomponent analysis with corrections for interferences and mattrix effects // Analytical chemistry. — 1983. — N55.
  39. Г. Н., Дубровин A.H. Разработка и выпуск приборов эмиссионного спектрального анализа (обзор) // Заводская лаборатория. — № 4. — 1989.
  40. Е. Ф., Сычева С. В., Моисеева В. В. Оценка воспроизводимости спектрального анализа проволоки различного диаметра в зависимости от способа подготовки проб // Заводская лаборатория. 1989. — № 1.
  41. А. А., Бажулин П. А., Королев Ф. А., Левшин Л. В., Прокофьев В. К., Стриганов А. Р. Методы спектрального анализа. М.: Изд-во МГУ 1962.
  42. Л. А. Исследование и изучение плазмы и эрозии в искровых источниках света для спектрального анализа: Автореферат канд. диссерт. — Минск, 1975.
  43. И.Н. Процессы поступления материала электродов в зону разряда при спектральном анализе металлов и сплавов: Автореф. доктор, дисс. — Одесса, 1984−39 с.
  44. В. К. Фотографические методы количественного спектрального анализа металлов и сплавов. М.: Гостехиздат, 1961.
  45. В.Д., Таганов И. Н., Таганов К. И. К вопросу оптимизации поиска аналитических зависимостей при спектральном анализе // Журн. прикладной спектроскопии. — 1968. N 3.
  46. I.A., Harwitt М. // Appl. Opt.-1969. V. 7.
  47. А.с. СССР 1 017 982, кл. МКИ G 01 N21/65. Способ определения концентрации нефтепродуктов в сточных водах / С. Л. Ощепков и др. // Открытия и изобретения. 1982. — № 18.
  48. А.с. СССР 1 092 391, кл. МКИ G 01 N21/67. Способ эмиссионного спектрального анализа порошковых материалов / В. Р. Огнев, В. П. Шевченко, Э. Я. Огнева // Открытия и изобретения. 1982. — № 18.
  49. И. М., Прокофьев В. К. Спектральные приборы и техника спектроскопии. Изд. 2-е. — Л.: Машиностроение, 1967. — 324 с.
  50. Д. П. О построении характеристических кривых фотопластинок по спектральным линиям железа //Заводская лаборатория. — 1983. -№ 9.
  51. Ф. Г., Лякишева В. И. Сопоставление возможностей экспрессивных фотографических методов спектрального анализа сплавов // Заводская лаборатория. 1985. -№ 3.
  52. Картер Джон, Третьякова Е. Е. Комплексный подход к контролю химического состава сырья и готовой продукции металлургического производства // Spectro Analytical Instruments. — 1999.
  53. М. П. Разработка и совершенствование методик и алгоритмов обработки информации в атомно-эмиссионном экспресс-анализе: Дис.. канд. техн. наук. Пермь, 2001.
  54. Ю. И., Павлинский Г. В., Ревенко А. Г. Программа расчета и’нтенсивностей аналитических линий рентгеновского спектра флуоресценции // Заводская лаборатория. 1977. — № 4.
  55. И. М., Михайловский Ю. Е. Фотографические и фотоэлектрические спектральные приборы и техника эмиссионного спектрального анализа. Л.: Машиностроение, 1981. — 247 с.
  56. В. С., Янковский А. А, Практическое руководство по спектральному анализу. Минск: Изд-во Акад. наук БССР, 1960. — 232 с.
  57. А. С., Фалькова О. В. Спектральный анализ. — М.: Ме-таллургиздат, 1958. 360 с.
  58. X. И. Современные источники света для оптического эмиссионного спектрального анализа (обзор) // Заводская лаборатория, 1986. -№ 12.
  59. В. М. Введение в молекулярный спектральный анализ. — М.: Гостехиздат, 1951. 416 с.
  60. А.Н., Шрейдер Е. Я. Вакуумная спектроскопия и ее применение. М.: Наука, 1976. — 342 с.
  61. А.К. Основы количественного спектрального анализа руд и минералов. М.: Недра, 1978.
  62. М.И., Ковалева Т. М. Спектрографический метод определения химического состава алюминиевых сплавов // Заводская лаборатория. 1985. -№ 11.
  63. В.К. Фотоэлектрические методы количественного спектрального анализа металлов и сплавов. — М.: Гостехиздат, 1951, 318 с.
  64. А. Н. Основы спектрального анализа. -М.: Наука, 1965.-322 с.
  65. И. С. Методы количественного спектрального анализа. — Казань: Изд-во Казанского университета, 1961. 179 с.
  66. С. JI. Введение в спектральный анализ. — М., JL: ОГИЗ, 1946.
  67. Т., Мика И., Гегеуш Э. Эмиссионный спектральный анализ / Пер. с англ. -М.: Мир, 1982,. 159 с. — Т.2.
  68. Ю. М. Фотоэлектрические методы спектрального анализа металлов и сплавов. М.: Металлургия, 1984. — 225 с.
  69. А. Е. Методы спектрального анализа. — JL: Машиностроение, 1975.- 330 с.
  70. Г., Ватт JI. Спектральный анализ и его приложения. М.: Мир, 1971.-291 с.
  71. В.В. Применение математической статистики при анализе вещества. -М.: Наука, 1960.
  72. Г. В. //Уральская конференция «Применение математических методов и ЭВМ при обработке информации на геологоразведочных работах».: Тез. докл., Свердловск, 1982, с. 16−17.
  73. И. И., Малыхина JI. А. Алгоритм использования спектральной информации при аттестации стандартных образцов состава сплавов // Заводская лаборатория. 1989. -№ 2.
  74. А. Н., Островская Г. В., Островский Ю. И. Техника и практика спектроскопии. М.: Наука, 1976. — 392 с.
  75. Статистическая обработка результатов эксперимента на микроЭВМ. / Костылев П. В., Миляев Ю. Д., Доровский и др. — JL: Энергоатомиз- дат, 1991.-304 с.
  76. Canas A. Interactive contrast enhancement using an electronic hardware system // Journal Physics E. 1984. — Vol.
  77. В. И. Введение в экспериментальную спектроскопию. —М.: Наука, 1979.-420 с.
  78. Н. М., Саенко О. А., Слепченко Н. И. Спектральное определение титана в лигатуре алюминий-титан с применением стандартных образцов предприятия //Заводская лаборатория, — 1989.— № 4.
  79. В. Р., Петров JL JL Спектральный анализ элементов примесей в горных породах. М.: Наука, 1972. — 342 с.
  80. И.В. Оптические спектральные приборы: Учеб. пособие для Вузов. -М.: Машиностроение, 1984. 240 с.
  81. В.Н., Косенко А. И., Усов В. А., Джураев В. Б. Система автоматизированной обработки результатов спектрального анализа проб металлов // Заводская лаборатория. — 1985. № 2.
  82. М. С., Фекличев В. Г. Диагностика состава материалов рентгенодифракционными и спектральными методами. — JL: Машиностроение, 1990.-357 с.
  83. А. И. Основы атомного спектрального анализа. — М.: Эди-ториал УРСС, 2002. 284 с.
  84. А. А., Данилова Д. А. Атомно-эмиссионный спектральный анализ с индуктивносвязанной плазмой и тлеющим разрядом по Гриму — Изд-во УГТУ, Екатеринбург, 2002. 270 с.
  85. S. Mallat. A theory for multiresolution signal decomposition: the wavelet representation. IEEE Pattern Anal. And Machine Intell. 1989. vol. 11, no. 7, pp. 674 693.
  86. L. Shumaker, G. Webb, editor. Recent Advances in Wavelet Analysis. New York.: Academic Press. 1993.
  87. ГОСТ 7727–81. Спектральный анализ. Метод трех эталонов. М.: Изд-во стандартов, 1981.
  88. Ф. И., Ибрагимов С. Г. Контроль металлов и сплавов в машиностроении: Справочник. М.: Машиностроение, 1983. — 248 с.
  89. Пат. 1 828 696 Россия, МКИ (З), G01 N 21/67. Способ определения содержания массовых долей элементов в материалах и сплавах / Б. Ф. Никитенко, А. И. Одинец, Н. С. Казаков, В. П. Кузнецов, А. А. Кузнецов. Бюлл., № 5, 1995.
  90. . Ф., Руденко Е. Г., Корзунин Г. С. Экспресс-анализ структурных свойств материалов атомно-эмиссионным методом спектрального анализа. // Тезисы доклада на XIV Уральской конференции по спектроскопии. Заречный, 1999.
  91. . Ф., Казаков Н. С., Руденко Е. Г. Экспресс-анализ количественного состава и структурных особенностей на основе спектрального анализа. // Тезисы доклада на XIV Уральской конференции по спектроскопии — Заречный, 1999.
  92. А. И., Казаков Н. С., Руденко Е. Г. Методы количественных анализов с двумя стандартными образцами предприятия // Омский научный вестник, Омск, 2000. вып. ll. — c. 69−71.
  93. С.А., Подмошенская С. В., Трилесник И. И. Фотоэлектрическая система с ЭВМ для эмиссионного спектрального анализа // Материалы семинара по спектральному анализу. — Л.: ЛДНТП, 1985.
  94. Н. В., Киреев А. Д. Квантометрический анализ металлов и сплавов. Новосибирск: Наука, 1986. — 124 с.
  95. А.П., Голяс Ю. Е. Персональные ЭВМ в заводской лаборатории (возможности и перспективы) // Заводская лаборатория. — 1988. — № 5.
  96. Е.Г. Модернизация фотоэлектрической установки металлургического производства // Заводская лаборатория. — 1986. — № 6.
  97. Bunch Р.С., Metter R.V. Noise power spectrum analysis of a scanning microdensitometer//Applied optics. 1988. — Vol. 27, N 16.
  98. Ч. Голографическая интерферометрия. — M.: МИР, 1982. 504 с.
  99. Ю. А. Спектрально-эмиссионный метод определения водорода в металлах с фотоэлектрической регистрацией спектра. — Л.: ЛДНТП, 1971.
  100. В. И., Введение в экспериментальную спектроскопию. — М.: Наука, 1979.-420 с.
  101. В. М. Измерительно управляющая система на базе микроЭВМ // Измерительная техника. — 1985. — № 11.
  102. ГОСТ 18 895–81. Сталь. Метод фотоэлектрического спектрального анализа. -М.: Изд-во стандартов, 1982.
  103. Г. Я. Разработка и исследование установки для визуального спектрального анализа: Автореф. канд. дисс. Минск, 1967.
  104. Ю.А. Новые спектральные приборы. — Л.: ЛГУ, 1976. -125 с.
  105. Т.И. Автоматизированная система эмиссионного спектрального анализа. // Автоматика: РЖ. — 1988. № 5.
  106. Fogg A.G., Mariott D.R. Thorburn Buns D. // Analyst. 1970. — V. 95. N 1135.
  107. J. // Spectrochim. Acta. Ser. B. 1969. V. 24.
  108. T. // Josa. 1959. — № 5.
  109. Д.Н., Емельянова И. В. Определение положения спектральных линий при автоматизированной расшифровке спектрограмм // Журн. прикладной спектроскопии. — 1990. — Т. 52, № 2.
  110. B.L., Birks F.T. / /Analyst. 1972, V. 97, N 1158.
  111. А. В., Емельянов А. И., Мандрыгин В. В. //Приборы и системы управления. 1983. — № 11.
  112. В.И. Автоматизация аналитического контроля в металчлургии // Заводская лаборатория. 1982. — № 2.
  113. . Ф., Казаков Н. С., Кузнецов А. А Автоматизация фотографического спектрального анализа // Аналитика Сибири-90: Тез. докл. 3 регион, конф. — Иркутск, 1990.
  114. В. В., Мамаев М. А. О коррекции разброса темновых токов ячеек фотодиодной линейки с помощью ЦАП. / Автометрия, № 3, 1996
  115. Р. Р., Гришин М. П., Курбанов Ш. М., Маркелов В. П., Свя-тославская Т. А., Святославский Н. Л. Многоканальная прецизионная система фотометрирования для ввода фотоизображений в ЭВМ. / Автометрия, № 1, 1996
  116. . Д., Плотников Р. И. Рентгенофлуоресцентный анализ следов вещества (обзор) / Заводская лаборатория, 1998, № 2, с. 16
  117. В. А., Федоров А. В. Диагностика свойств материалов с использованием СУБД / Заводская лаборатория, 1998, № 6, с.62
  118. В. Г., Шелпакова И. Р. О погрешностях регистрации и обработки спектров эмиссии многоканальным анализатором эмиссионных спектров / Заводская лаборатория, 1998, № 9, с.23
  119. Питер Янтш OneSpark Универсальный атомно-эмиссионный спектрометр с полупроводниковым детектором СЮ для анализа металлов / Заводская лаборатория. Диагностика материалов, 2000, № 6, с.67
  120. Л. Л. Закономерности распределения результатов в аналитических интервалах методик выполнения измерений при количественных методах элементного анализа / Заводская лаборатория. Диагностика материалов, 2001, № 12, с.49
  121. Л. И., Силькис Э. Г. Определение фосфора в сталях спектральным методом с регистрацией на фотоэлектронную кассету / Заводская лаборатория. Диагностика материалов, 2003, № 8, с. 13−15
  122. Ю. В. Акустический спектральный дефектоскоп для обнаружения дефектов композиционных материалов / Приборы и системы. Управление, контроль, диагностика, № 2, 2004
  123. Л. Приборы с зарядовой связью. Прецизионный взгляд на мир / Интернет публикация www.autex.spb.ru
  124. И. Е. Дуговой атомно-эмиссионный анализ твердых образцов как задача искусственного интеллекта / Аналитика и контроль № 5, Т. 6, 2002
  125. А. М., Онищенко А. Ю. Анализ погрешностей приборов контроля состава и свойств веществ / Автометрия, № 2, 2001 (стр. 112)
  126. Е. В., Грановский Ю. В. Метрологические особенности количественного химического анализа / Заводская лаборатория, 1999, № 12, с. 48.
  127. В. И. Единство измерений и количественный химический анализ / Заводская лаборатория, 1999, № 12, с. 49.
  128. В.М., Петрова А. А., Соловьев А. А. Состояние и перспективы развития оптического спектрального метода анализа неорганических газов (Обзор) // Заводская лаборатория. 1984. — № 2.
  129. Автоматизированная система обработки спектрограмм при спектральном анализе / Ю. X. Иордано, С. М. Беличев, И. В. Цапов, Р. К. Злажев // 77. Квантометр Polyyac Е600: Рекламный проспект фирмы Rank Precion Industries (Англия), 1969.
  130. Ким А.А., Катакова Б. А. Из опыта освоения спектрометра «Поливак Е970» // Заводская лаборатория. 1987. — № 12.
  131. Т.А., Сакалис О. М. Спектральный анализ сталей с использованием автоматизированной системы «Поливак Е-970» // Заводская лаборатория. 1986. -№ 11.
  132. В. А., Исаев В. Е. Рентгенофлуоресцентный анализ с использованием внутреннего стандарта для учета фона в коротковолновой области // Заводская лаборатория. Диагностика материалов. 1998. — Т. 65, №
  133. М. Н., Зажогин А. П. Применение атомно-эмиссионного спектрометра «ЭМАС-200Д» в многоэлементном анализе металлов и сплавов // Заводская лаборатория. Диагностика материалов. 1999. — Т. 65, N 4.
  134. М. В., Кабанова О. В. Применение математического планирования эксперимента при моделировании процессов цветной металлургии. М.: ЦНИИцветмет экономики и информации, 1984. — 48 с. Вып. 4.
  135. JI. П., Шеверда Б. А. Оптимизация параметров градуировочных функций для квантометров фирмы ARL // Заводская лаборатория. — 1988.-№ 2.
  136. Г. И., Анапомян С. А. Пакет программ «АСАК» для УВК М-6000 // Автоматизация горнообогатительных и металлургических производств. -М.: НПО «Союзцветметавтоматика», 1983.
  137. О. В., Слободчикова Р. И. Нетрадиционный метод поиска параметров нелинейных моделей // Заводская лаборатория. — № 3.
  138. В. М., Механников А. И. Гибкие измерительные системы // Измерительная техника. 1986. — № 12.
  139. А. А., Мосичев В. И., Шушканов В. М. Пакет прикладных программ для автоматических расчетов в атомно-эмиссионном спектральном анализе. Л.: О-во «Знание», ЛДНТП. — 1990. — 32 с.
  140. А. В., Черницкий А. И. Приемники излучения автоматических оптико-электронных приборов. М.: Энергия, 1972.
  141. В. Г. Фотоэлектрические сканирующие устройства преобразования информации. Киев: Высш. школа, 1979.
  142. Л. Применение операционных усилителей и линейных ИС. М.: Мир, 1985. — 572 с.
  143. Е. Н. Статистические методы построения эмпирических формул. -М.: Высш. школа, 1988.
  144. Н.С., Морев С. А. Современная промышленная диагностика состава и физико-механических свойств материалов методом спектрального анализа. Владимир «Демиург», 2003. — 296 с.
  145. П.В., Миляев Ю. Д. и др. Статистическая обработка результатов эксперимента на микро-ЭВМ. Л.: Энергоиздат, 1991. — 1991.
  146. А.А. Математические методы и ЭВМ в химии.- М.: Наука, 1989.-354 с.
  147. Ю. П. Методы математического моделирования измерительно-вычислительных систем — М.: Физматлит, 2004. 400 с.
  148. Ю. М. Об одном подходе к обобщенному представлению множества планов эксперимента на симплексе / Заводская лаборатория. Диагностика материалов, 2002, № 7, с. 58
  149. М. А. Феноменологические уравнения связи в рентгеноспек-тральном анализе // Заводская лаборатория. 1973. — № 9.
  150. Crosse P., Harbecke В., Heinz В. et. al.//Applied Physics A. -1986. -V.39.
  151. Дж., Пирсол А. Прикладной анализ случайных данных. М.: Мир, 1989.
  152. С.М., Жиглявский А. А. Математическая теория оптимального эксперимента. М. Наука. 1987. с. 320.
  153. Ю. И., Забродин А. Н. Теоретический выбор формы уравнения связи при РСА пульповых продуктов цветной металлургии / Автоматизация горно-обогатительных процессов цветной металлургии. М.: ВНИКИ «Цветметавтоматика», 1981.
  154. И. Е., Шабанова Е. В., Васильев И. J1. Оптимизационные задачи при выборе методических условий анализа вещества / Заводская лаборатория. Диагностика материалов, 2001, № 5, с.60
  155. .Ф., Казаков Н. С. Информационно-измерительные системы в атомно-эмиссионном спектральном анализе, ч.1, (Автоматизированный метод контрольного эталона для всего диапазона анализа), -Дефектоскопия, N 10, 1998, с. 64−88.
  156. Ш. И. Использование рассеянного первичного излучения при РСА методом теоретических поправок // Заводская лаборатория. — 1984. -№ 11.
  157. Учет изменения эффективной длины волны в рентгеноспектральном анализе способом теоретических поправок / Б. Д. Калинин, Н. И. Карамышев, Р. Н. Плотников, А. С. Вершинин // Заводская лаборатория. — 1985.
  158. В.А., Сорокин И. В. Использование метода фундаментальных параметров при РСА //Заводская лаборатория. — 1984.- Т. 50, № 4.
  159. Mantler M. LAMA III-a computer program for quantitative XRFA of bulk specimens and thin film layers // Advances in X-ray analy sis. 1984. — V. 27.
  160. H. В., Голубев А. А., Мосичев В. И. О возможностях повышения точности метода фундаментальных параметров // Заводская лаборатория. 1991.-№ 11.
  161. Р.В. Оптика и атомная физика. М., 1966. — 552 с.
  162. М. Физика оптических явлений. М.: Энергия, 1967. — 374 с.
  163. М. Z. // Physik. 1926.
  164. М. Z. // Physik. 1926.
  165. К. М. Ферромагнетики. М- Л.: ГЭИ, 1957. — 419 с.
  166. И. Е. Основы теории электричества. -М.: Гос. изд-во техн.-теорет. лит., 1956. 620 с.
  167. В. Э., Чаплыгин А. Г. Исследование эффективности регрессионного метода и D-критерия для построения оптимальных метрических моделей многопараметрового контроля // Методы и приборы автоматического контроля. — Рига: Риж. политех, ин-т, 1986.
  168. В. Э. О статистическом подходе к решению многопарамет-ровых метрических задач неразрушающего контроля // Дефектоскопия. — 1984.-№ 3.
  169. И. Добеши. Десять лекций по вейвлетам. Пер. с англ. Е. В. Мищенко. Под ред. А. П. Петухова. М.: РХД, 2001
  170. В. П. Вейвлеты. От теории к практике. М.: COJIOH-P, -2002. 448 с.
  171. Gilbert Strang & Truong Nguyen. Wavelets and Filter Banks. Wellesley-Cambridge Press, 1996.
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!