Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Исследование методов контроля параметров слоев в процессе осаждения многослойных систем

Диссертация: Исследование методов контроля параметров слоев в процессе осаждения многослойных систем
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Наиболее существенное влияние параметры металлических слоев t оказывают на характеристики металлодиэлектрических светофильтров, т. е. фильтров сформированных из тонких слоев металла (алюминий, серебро) и диэлектрика. Пропускание в максимуме, степень гашения в нерабочей области (фон) и полуширина этих фильтров определяются не только оптическими параметрами диэлектрика и металла, но и скачком фаз… Читать ещё >

Исследование методов контроля параметров слоев в процессе осаждения многослойных систем (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • ГЛАВА 1. Оптические постоянные металлов и методы их измерения
    • 1. 1. Методы измерения оптических параметров (n, k, d) тонких пленок
      • 1. 1. 1. Измерения при нормальном падении света
      • 1. 1. 2. Фотометрические и интерферометрические измерения
      • 1. 1. 3. Эллипсометрические измерения
        • 1. 1. 3. 1. Оптимальные условия элипсометрических измерений
        • 1. 1. 3. 2. Методы точного решения
        • 1. 1. 3. 3. Идеальная граница между полубесконечными средами
        • 1. 1. 3. 4. Однородный изотропный слой на изотропной подложке
        • 1. 1. 3. 5. Аналитическое решение обратной эллипсометрической задачи для однослойной системы
        • 1. 1. 3. 6. Приближенные методы решения. Тонкий проводящий слой
      • 1. 1. 4. Методы, основанные на измерении разности фаз поляризованных компонент, возникающей при отражении
    • 1. 2. Оптические постоянные металлов
  • Выводы по главе
  • ГЛАВА 2. Методы контроля оптических постоянных тонких пленок в процессе осаждения
    • 2. 1. Методы описания многослойных оптических покрытий
    • 2. 2. Методы контроля оптических постоянных и толщины пленок во время осаждения слоя
      • 2. 2. 1. Фотометрические методы контроля
      • 2. 2. 2. Обработка фотометрического сигнала с использованием производной по толщине и оценка точности контроля
  • Выводы по главе
  • ГЛАВА 3. Измерение оптических постоянных тонких пленок в процессе осаждения и эксплуатации
    • 3. 1. Теоретические и методические основы проведения эллипсометрических измерений на ЛЭФ-ЗМ
    • 3. 2. Определение величины погрешности полученных экспериментальных результатов
    • 3. 3. Исследование фотометрических методов определения оптических постоянных тонких пленок
    • 3. 4. Контроль оптических параметров слоя во время осаждения пленки в вакууме
  • Выводы по главе

Внедрение оптических приборов и методов исследования в различные области науки и техники приводит к необходимости создания многослойных диэлектрических, металлодиэлектрических систем не только с расширяющимися требованиями к их свойствам, но и возможному их сочетанию. Это в первую очередь оптические, физико-механические, химические и другие свойства. Из оптических свойств следует упомянуть непрерывно расширяющийся спектральный диапазон работы приборов, ужесточение требований к лучевой стойкости и * прочности покрытий, сочетание возможности отражения (пропускания) и формирования волнового фронта отраженного (прошедшего) излучения. В некоторых случаях требуется работа покрытия со сходящимися или расходящимися пучками, т. е. ужесточаются требования к их поляризационным свойствам.

Пленки, нанесенные на преломляющие и отражающие грани оптических элементов позволяют формировать требуемые, разнообразные спектральные кривые, которые могут быть получены благодаря уникальным свойствам тонкопленочных систем. Незначительная масса и относительная простота реализации (например, путем термического или электронно-лучевого испарения вещества в вакууме) позволяют широко применять интерференционные покрытия.

Особый интерес представляют интерференционные покрытия, включающие в себя слой металла, оказывают значительное влияние параметры тонких металлических слоев (показатель преломления, главный показатель поглощения и толщина). К этой группе оптических элементов относятся: зеркала, как металлические, так и металлодиэлектрические, ослабляющие светофильтры для широкого спектрального диапазона, градиентные ослабители (оттенители) и металлодиэлектрические узкополосные светофильтры. Этот тип светофильтров обладает рядом достоинств по сравнению с другими: широкая полоса гашения в нерабочей зоне спектра, относительная простота в изготовлении, возможность получения светофильтров для ультрафиолетовой области спектра. На характеристики каждого из перечисленных элементов (пропускание, отражение) в той или иной степени влияют оптические параметры металлических слоев, которые в свою очередь зависят не только от чистоты осаждаемого материала, но и от условий формирования покрытия.

Наиболее существенное влияние параметры металлических слоев t оказывают на характеристики металлодиэлектрических светофильтров, т. е. фильтров сформированных из тонких слоев металла (алюминий, серебро) и диэлектрика. Пропускание в максимуме, степень гашения в нерабочей области (фон) и полуширина этих фильтров определяются не только оптическими параметрами диэлектрика и металла, но и скачком фаз на границе раздела — металл-диэлектрик. Этот скачок определяется только значением показателя преломления и главного показателя поглощения металлических слоев. Оценка значения этих величин и ^ определение их связи с характеристиками технологического процесса позволят получить светофильтры с характеристиками, близкими к теоретическим.

Зависимость оптических постоянных металлических слоев от толщины оказывает существенное влияние на распределение коэффициента пропускания градиентных ослабителей, используемых в телевизионных камерах, работающих в условиях значительного перепада освещенности. Знание истинного значения этого распределения позволит улучшить надежность и качество объективов, обеспечивающих работу камер слежения.

Настоящая диссертационная работа посвящена: 1) систематическому анализу и обобщению литературных данных в области исследования оптических покрытий на основе металлов- 2) методике определения оптических постоянных металлических слоев- 3) экспериментальным исследованиям оптических постоянных тонких пленок- 4) разработке метода контроля оптических постоянных и толщины слоя в процессе нанесения.

В первой главе рассмотрены литературные данные по оптическим постоянным тонких пленок металлов. Исследованы методы проведения оптических измерений и определения оптических постоянных слоев металлов. Проанализированы точностные возможности различных (г методов.

Во второй главе приведены формулы для расчета оптических характеристик тонкопленочных интерференционных систем содержащих поглощающие слои. Рассмотрены методы контроля оптических постоянных и толщины тонких пленок во время осаждения в вакууме.

В третьей главе приводятся параметры используемого в экспериментах технологического оборудования. Приводятся экспериментально полученные оптические постоянные металлических f слоев металлов разной толщины и полученные при различных технологических параметрах. Рассмотрено влияние технологических факторов и толщины на оптические постоянные металлических слоев. Рассмотрена методология контроля оптических постоянных и толщины слоев в процессе нанесения. В ней описывается аналитический и математический аппарат обработки прямых измерений.

Выводы по главе 3.

1. Проведенные исследования показывают возможность определения оптических постоянных слоя по измеренным значениям R, R', Т и d после осаждения.

2. При проведении измерений оптических постоянных слоя на воздухе удобнее воспользоваться эллипсометрическими измерениями.

3.Для определения оптических постоянных и толщины слоя во время осаждения реализуемы два метода контроля — это измерение коэффициентов отражения и пропускания при формировании покрытия на двух подложках с различным показателем преломления и измерение коэффициентов отражения и пропускания на двух длинах волн (наиболее эффективен для не поглощающих слоев).

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

.

1. В работе проведен полный анализ литературных данных по оптическим постоянным металлов (Al, Си, Ag, Аи).

2. Отработана методика определения оптических постоянных металла, по спектрофотометрическим измерениям и толщине, а также по эллипсометрическим измерениям.

3. Проведен ряд экспериментов по определению оптических постоянных металлических пленок никеля в видимой области спектра при различных толщинах слоев и условиях осаждения. Исследования показали, что у всех приведенных металлов оптические постоянные зависят от толщины и условий осаждения.

4. Разработан и апробирован метод контроля толщины не поглощающих слоев по смене знака первой производной коэффициента пропускания.

5. Разработан и реализован метод контроля оптических постоянных и толщины слоя во время осаждения по измерению коэффициентов отражения и пропускания при формировании покрытия на двух подложках с различным показателем преломления.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Н.Н. Прибыткова, Оптика и спектроскопия 11, 1957, с. 623.
  2. Male D., C.R. Acad. Sci., 230,1950, p. 1349.
  3. Umrath W., Z. Angew. Phys., 22, 1967, p. 406.
  4. Croce P., Gandais M., Marraud A., Rev. Opt. Theor. Instrum., 40, 1961, p 555.
  5. Croce P., Devant G., Gandais M., Marraud A., Acta Crystalogr., 15, 1962, p. 424.
  6. Dyson F., Physica, 24, 1958, p. 532.
  7. Т.Н., Интерференционные покрытия. Л.: Машиностроение, 1973,224с.
  8. Scott G.D., McLauchlan T.A., Sennett R.S., J. Appl. Phys., 21, 1950, p.843.
  9. Г. Хасс, Р. Э. Тун, Физика тонких пленок, т. 4, М, Мир, 1970, 440с.
  10. Б.М. Комраков, Б. А. Шапочкин, Измерение параметров оптических покрытий, М, Машиностроение, 1986, с. 132.
  11. Hass G., Waylonis J.E., Optical Constants and Reflectance and Transmittance of Evaporated Aluminum in the Visible and Ultraviolet. — J. Opt. Soc. Amer., 1961, v. 51, № 7, p. 719.
  12. Bennett J.M., Booty M.J., Appl Opt., 5, 1966, p. 41.
  13. Abeles F., Theye M.L., Surface Sci, 5, 1966, p. 325.
  14. Bazin С., C. R. Acad. Sci, 260, 1965, p. 83.
  15. Ward L., Nag A., Brit. J. Appl Phis., 18, 1967, p. 277.
  16. Nilsson P.O., Appl Opt., 7,1968, p. 435.
  17. C.B., Карасев H.H., Определение оптических постоянных тонких металлических покрытий по спектрофотометрическим измерениям, НТКППС, СПбИТМО (ТУ), тезисы докладов, часть 1, Санкт-Петербург, 2000, с. 41−42.
  18. Schopper Н., Z. Phys., 131, 1952, р. 215.
  19. Г. Хасс, Р. Э. Тун, Физика тонких пленок, т. 2, М, Мир, 1967, 396с.
  20. Bor J., Proc. Phys. Soc. (London), 65, 1952, p. 753.
  21. Archard J.F., Clegg P.L., Taylor A. M., Proc. Phys. Soc. (London), 65, 1952, p. 758.
  22. Hartman R.E., J. Opt. Soc. Amer., 41, 1951, p. 244.
  23. McCrackin F.L., Passaglia E., Stromberg R.R., Steinberg H.L., J. Res. Nail. Bur. Std, 76A, 1963, p. 363.
  24. Beattie J.R., Phil. Mag., 46, 1955, p. 235.
  25. S., в кн. «Ellipsometry in the Measurement of Surfaces and Thin Films», Passaglia E., Stromberg R.R., Kruger J., eds., Natl. But. Std. Misc. Publ. 256 U. S. Govt. Printing Office, Washington, D. C., 1964, p. 119.
  26. Lenham A.P., Treherne D.M., J. Opt. Soc. Amer., 56,1966, p. 752.
  27. Hass G., Waylonis J.E., J. Opt. Soc. Amer., 51, 1961, p. 619.
  28. Burge D.K., Bennett H.E., J. Opt. Soc. Amer., 54, 1964, p. 1428.
  29. McCrackin F.L., Colson J.P., в кн. «Ellipsometry in the Measurement of Surfaces and Thin Films», Passaglia E., Stromberg R.R., Kruger J., eds., Natl. But. Std. Misc. Publ. 256 U. S. Govt. Printing Office, Washington, D. C., 1964, p. 61.
  30. Archer R.J., J. Electrochem. Soc., 104,1957, p. 619.
  31. M.A., в кн. «Ellipsometry in the Measurement of Surfaces and Thin Films», Passaglia E., Stromberg R.R., Kruger J., eds., Natl. But. Std. Misc. Publ. 256 U. S. Govt. Printing Office, Washington, D. C., 1964, p. 213.
  32. Kruger J., Yolken H.T., Corrosion, 20,1964, p. 29.
  33. Roberts R.W., Vanderslice T.A., Ultrahigh Vacuum and Its Applications, Prentice-Hall, Engewood Cliffs, Nev Jersey, 1963, p. 4.
  34. В.И., Абаев М. И., Лызлов Н. Ю., Эллипсометрия в физико-химических исследованиях, Л., Химия, 1986.
  35. Schulz L. G., Tangherlini F. R., Optical Constants of Silver, Copper, and Aliminium. II. The Index of Refraction n. —J. Opt. Soc. Amer., 1954, v. 44, p.362.
  36. Schulz L. G., Tangherlini F. R., Optical Constants of Silver, Copper, and Aliminium. I. The Absorption Coefficient k. —J. Opt. Soc. Amer., 1954, v. 44, p.357.
  37. Hass G., Waylonis J. E., Optical Constants of Evaporated Aluminum in the Visible and Ultraviolet — J. Opt. Soc. Amer., 1960, v. 50, p. 1133.
  38. И. H., Яровая Р. Г., Квантовое поглощение в алюминии и индии. — Опт. и спектр., 1964, т. 16, с. 85.
  39. G. В., Huen Т., Wooten F., Optical Constants of Silver and Gold in the Visible and Vacuum Ultraviolet. — J. Opt. Soc. Amer., 1971, v. 61, № 1, p.128.
  40. TaftE. A., Phillip H. P. — Phys. Rev., 1961, v. 121, p. 1100.
  41. В. M., Морозов В. Н., Смирнова Е. В., Оптические постоянные природных и технических сред, Справочник, JI., Химия, 1984.
  42. В., Merke R. — Optik, 1965, Bd. 22, p. 435.
  43. J. R. — Physica, 1957, v. 23, p. 898.
  44. К. — Z Naturforsch., 1948, Bd. 3a, p. 143.
  45. L. R. — Astrophys. J., 1910, v. 32, p. 282.
  46. Bennett H. E., Bennett J. M., Optical Propeties and Electronics Structure of Metals and Alloys / Ed. F. Abeles, Amsterdam: Nort—Holland, 1966.
  47. Hagemann H. J., Gudat W., Kunz C., Optical constans from the far infrared to the x-ray region: Mg, Al, Cu, Ag, Au, Bi, and AI2O3. — J. Opt. Soc. Amer., 1975, v. 65, p. 742.
  48. J. R., Canu G. К. Т.—Phil. Mag., 1955, v. 46, p. 989.
  49. Canfield L. R., Hass G., Reflectance and Optical Constants of Evaporated Copper and Silver in the Vacuum Ultraviolet from 1000 to 2000 A. — J. Opt. Soc. Amer., 1965, v. 55, № 1, p. 61.
  50. И. H., ПадалкаВ. Г. — Опт. и спектр., 1959, т. 6, с. 78.
  51. М. — Z. Physik, 1961, Bd. 161, p. 163.
  52. P. F., Braunstein R. — Phys. Stat. Sol (B), 1981, v. 107, p. 443.
  53. Roberts S.—Phys. Rev., 1960, v. 118, p. 1509.
  54. L. R., Hass G., Hunter W. R. — J. Phys., 1964, v. 25, p. 124.
  55. Г. П., Шубин А. А ,—ЖЭТФ, 1964, т. 47, вып. 9, с. 840.
  56. В. Г., Шкляревский И. Н. — Опт. и спектр., 1961, т. 11, с. 285.
  57. J. Н., Krafka С., Lynch D. W. et al. Physics Data, Optical Properties of Metals. Karlsruhe: Fach-Information Zentrum, 1981.
  58. Ф. И., Мотулевич П. П., Шубин А. А. — ЖЭТФ, 1960, 38, с. 51.
  59. И. Н., Яровая Р. Г. — Опт. и спектр., 1963, т. 14, с. 252.
  60. Е., Sasaki Т., Inokuti М., Smith D. Y. —Phys. Rev. (В), 1980, v. 22, p. 1612.
  61. Г. Хасс, Физика тонких пленок, т. 1, М, мир, 1967, с. 343.
  62. К. Шефер, Теоретическая физика, т. III и II, ГОНТИ, 1938.
  63. А. I. Mahan, J. Opt. Soc. Amer., 46,1956, p 913.
  64. А. В. Соколов, Оптические свойства металлов, 1961.
  65. B.C. Вакуумное нанесение тонких пленок. Изд-во «Энергия», 1967.
  66. С.В., Карасев Н. Н., Определение оптических постоянных тонких металлических покрытий по спектрофотометрическим измерениям // НТКППС Тез. док. (Санкт-Петербург, 2000) 2000. -Ч. 1.- С. 41−42.
  67. С.В., Исследование оптических постоянных металлических покрытий, Сборник научных трудов молодых ученых и специалистов, вып. 1, часть 1, СПбИТМО (ТУ), 2000, с. 14−15.
  68. С.В., Губанова JI.A., Исследование оптических постоянных металлов, Оптические и лазерные технологии, сборник статей, Санкт-Петербург, 2001, с. 74−83.
  69. С.В., Губанова JI.A., Определение оптических постоянных металлических слоев, Оптические и лазерные технологии, сборник статей, Санкт-Петербург, 2001, с. 198−205.
  70. С.В., Антистатические покрытия из смесей металла с диэлектриком на оптических деталях из полимерных материалов, Сборник научных трудов молодых ученых и специалистов, вып. 1, часть 1, СПбИТМО (ТУ), 2000, с. 15−17.
  71. Г., Франкомб М., Гофман Р., Физика тонких пленок, т. 8, Москва, Мир, 1978, 359 с.
  72. Ю.А., Простое устройство ввода аналогового сигнала в компьютер, Приборы и техника эксперимента, 2003, № 5, с. 64−67.
  73. А.Н., Бровченко В. Г., Кириченко А.М, Петров Н. А., Толпекин И. Г., Федоренко В. В., Спектрометрический усилитель. Гибридный микроузел., Приборы и техника эксперимента, 2003, № 3, с. 84−87.
  74. С.В., Карасев Н. Н., Путилин Э. С., Шакин А. О., Автоматизация фотометрического контроля толщины осаждаемых слоев, Известия вузов. ЭЛЕКТРОНИКА, № 6, 2003.
  75. Л., Гленг Р., Технология тонких пленок, спр., М., Советское радио, 1977.
  76. А.С., Основы оценки погрешности измерений, уч. пособие, СПб, ИПЦ, С-Пб ГТУ, 1995, с. 4.
  77. А.Н., Погрешности измерений физических величин, Ленинград, Наука, 1985, с. 67.
  78. Г. И., Ильина Р. С., Новицкий Л. А., Гоменюк А. С., Лабораторные оптические приборы, Уч-ное пособие для приборостроительных и машиностроительных вузов, 2-ое изд., Москва, Машиностроение, 1979.
  79. ГОСТ 8.207−76 Прямые измерения с многократными наблюдениями. Методы обработки результатов наблюдений.
  80. Паспорт, Установка вакуумная модели ВУ-1А, 1984−84, 00.00.000.ПС.
  81. Г. А., Халлиулина Н. З., Шаяхметова Р. Х., Мансурова Л. И., Чистка оптических деталей из полимерных материалов, ОМП, № 7, 1981, с. 26−28.
  82. Э.С., Старовойтов С. Ф., Способ определения лучевой прочности оптических покрытий, авт. свид. СССР № 1 370 531 от 01.10.87.
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!