Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Моделирование процессов зарождения и роста тонкодисперсных фаз при осаждении металлов на индифферентных электродах

Диссертация: Моделирование процессов зарождения и роста тонкодисперсных фаз при осаждении металлов на индифферентных электродах
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Используя модельные представления, установлено, что при осаждении серебра из трилонатного, глицинового, роданидного электролитов и при осаждении висмута, меди и цинка реализуется прогрессирующее зародышеобразование, а при осаждении серебра из раствора нитрата калия — мгновенное и рост токов на начальных участках I-t кривых обусловлен образованием новых зародышей по мере протекания процессов… Читать ещё >

Моделирование процессов зарождения и роста тонкодисперсных фаз при осаждении металлов на индифферентных электродах (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • ГЛАВА 1. ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ МЕТАЛЛОВ И СПЛАВОВ (ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР)
    • 1. 1. Механизм электроосаждения металлов
      • 1. 1. 1. Монослойное осаждение
      • 1. 1. 2. Образование центров кристаллизации
      • 1. 1. 3. Многослойное осаждение
      • 1. 1. 4. Особенности электроосаждения металлов из комплексных электролитов
    • 1. 2. Электроосаждение сплавов
      • 1. 2. 1. Кинетические закономерности совместного электроосаждения металлов
      • 1. 2. 2. Влияние состава электролита и условий электролиза на состав сплава
    • 1. 3. Размерные эффекты в электрохимических системах
    • 1. 4. Возможности метода инверсионной вольтамперометрии
    • 1. 5. Закономерности электрохимического образования и поведения бинарных систем на твердых электродах
    • 1. 6. Моделирование процессов электроосаждения
  • ГЛАВА 2. МЕТОДИКА ЭКСПЕРИМЕНТА
    • 2. 1. Приготовление растворов
    • 2. 2. Исследования начальных стадий электроосаждения металлов и сплавов
      • 2. 2. 1. Метод инверсионной вольтамперометрии
      • 2. 2. 2. Потенциостатические измерения
      • 2. 2. 3. Гальваностатические исследования
      • 2. 2. 4. Микрофотографические исследования
  • ГЛАВА 3. ИССЛЕДОВАНИЕ ВЗАИМОДЕЙСТВИЙ МЕТАЛЛОВ В ТОНКОДИСПЕРСНЫХ БИНАРНЫХ СИСТЕМАХ МЕТОДОМ ИНВЕРСИОННОЙ ВОЛЬТАМПЕРОМЕТРИИ
    • 3. 1. Системы Ag-Cu и Cu-Ag
    • 3. 2. Системы Ag-Bi и Bi-Ag
    • 3. 3. Системы Ag-Co и Со-Ag
    • 3. 4. Системы Zn-Ni и Ni-Zn
    • 3. 5. Системы Zn-Co и Co-Zn
  • Выводы
  • ГЛАВА 4. ИЗУЧЕНИЕ МОРФОЛОГИИ ПОВЕРХНОСТИ ОСАДКОВ НА НАЧАЛЬНЫХ СТАДИЯХ ОСАЖДЕНИЯ
    • 4. 1. Морфология поверхности осадков Ag и Си
    • 4. 2. Морфология поверхности осадков Ag и B
  • Выводы
  • ГЛАВА 5. ПОТЕНЦИОСТАТИЧЕСКАЯ МОДЕЛЬ ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКОДИСПЕРСНЫХ ОСАДКОВ ПРИ ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИИ МЕТАЛЛОВ
    • 5. 1. Обоснование к построению модели
    • 5. 2. Образование и рост тонкодисперсных осадков при электроосаждении металлов
    • 5. 3. Экспериментальные потенциостатические кривые осаждения металлов
    • 5. 4. Модельная обработка результатов эксперимента
    • 5. 5. Потенциостатические кривые совместного осаждения металлов
  • Выводы
  • ГЛАВА 6. ИЗУЧЕНИЕ МЕХАНИЗМА ОБРАЗОВАНИЯ И РОСТА ОСАДКОВ ПРИ ГАЛЬВАНОСТАТИЧЕСКОМ ОСАЖДЕНИИ МЕТАЛЛОВ
    • 6. 1. Кинетика образования и роста тонкодисперсного осадка при постоянном токе
    • 6. 2. Диффузионный рост тонкодисперсного осадка при постоянном токе
    • 6. 3. Формирование тонкодисперсных осадков серебра на
  • СУ электроде
    • 6. 4. Формирование тонкодисперсных осадков висмута на
  • СУ электроде
    • 6. 5. Образование и рост тонкодисперсных осадков меди на
  • СУ электроде в гальваностатических условиях
    • 6. 6. Образование и рост дисперсных осадков цинка в гальваностатических условиях
  • Выводы

Актуальность работы.

Электроосаждение металлов является одним из эффективных методов получения покрытий с заданными свойствами.

В электрохимических процессах реализуются размерные эффекты различной природы. Наиболее выражены данные эффекты для нанои ультрадисперсных частиц [1−3]. В последние годы возрос интерес к размерным эффектам, поскольку процессы, протекающие в таких системах, лежат в основе технологий получения тонких, беспористых токонесущих, магнитных и защитных слоев.

Процесс формирования ультрадисперсных частиц начинается с образования зародышей металлов, после чего начинается рост новой фазы.

Изучение механизма образования зародышей новой фазы имеет большое теоретическое и прикладное значение, так как именно на начальных стадиях закладываются многие свойства гальванических покрытий и нанодисперсных материалов.

В настоящее время имеется тенденция вытеснения индивидуальных металлов их сплавами, имеющими более широкий спектр свойств.

Электрохимическое выделение двух и более элементов, сопряжено не только с взаимодействием каждого компонента образующейся системы, но и с возможными их взаимодействиями друг с другом при построении общей кристаллической решетки с образованием твердых растворов, интерметаллических (и.м.с.) и химических (х.с.) соединений, о чем свидетельствуют исследования в области гальванических сплавов.

Сложность обусловлена тем, что даже для простых случаев, когда на катоде разряжаются ионы одного вида, механизм восстановления ионов не выявлен до конца. Тем более трудно выяснить механизм разряда при совместном восстановлении нескольких ионов различного вида.

Поскольку структура и физико-химические свойства покрытий в значительной степени определяются особенностями начальных стадий электрокристаллизации, т. е. образованием кристаллических зародышей и их последующим ростом вплоть до формирования сплошного осадка, возникает необходимость более детального исследования данных процессов и их моделирование.

Цели работы: разработать модель формирования тонкодисперсных осадков металлов в потенциостатических условияхисследовать механизм образования и роста осадков в гальваностатических условияхизучить взаимодействия элементов в тонкодисперсных бинарных системах.

Научная новизна.

На основании изучения закономерностей образования и роста тонкодисперсных металлических осадков на поверхности индифферентного электрода и их морфологии дано описание потенциостатической модели формирования тонкодисперсного осадка. Дан расчет размеров и числа зародышей, найдено соответствие с микроскопическими наблюдениями.

Впервые предложена гальваностатическая модель образования и роста тонкодисперсного осадка на поверхности электрода. Показано, что определяющим фактором является соотношение между значениями поверхностной энергии осадка, подложки и межфазной поверхностной энергии на границе ультрадисперсная среда/подложка. Показано, что при гальваностатическом осаждении металлов на индифферентную подложку E-t кривые характеризуются минимумом на начальном участке.

Приведены расчеты размеров и числа зародышей в точке минимума на E-t кривой, дана оценка поверхностной энергии зародышей Bi и Ag.

— На основании изучения закономерностей роста тонкодисперсных осадков металлов в условиях инверсионной вольтамперометрии и метода I-t кривых показано, что формирование «островковых» пленок происходит по механизму сплошных пленок. В этих условиях подвижность атомов металла на поверхности электрода достаточна для образования равновесных фаз в виде «островков».

— Методом инверсионной вольтамперометрии исследовано формирование тонкодисперсных осадков Ag-Cu, Ag-Bi, Ag-Co, Zn-Ni, Zn-Co.

Практическая значимость.

Полученные в работе результаты вносят определенный вклад в изучение кинетики и механизма образования и роста ультрадисперсных осадков при электроосаждении металлов и сплавов и дают возможность целенаправленного получения покрытий с заданными свойствами.

Выражения для расчета размеров и числа зародышей могут найти применение в практике электроосаждения металлов.

Результаты работы дают также возможность планировать аналитический эксперимент при совместном осаждении металлов на твердых электродах.

На защиту выносятся:

1. Потенциостатическая модель формирования тонкодисперсных осадков металлов и их соединений на поверхности индифферентного электрода. Результаты расчета размеров и числа зародышей.

2. Гальваностатическая модель образования и роста тонкодисперсных осадков металлов на поверхности индифферентного электрода.

3. Способы расчета радиуса зародышей и их числа из гальваностатических кривых.

Рассмотрение закономерностей взаимодействия в системах, исходя из инверсионных вольтамперных измерений.

Уравнения гальваностатических кривых для диффузионных процессов осаждения металлов в виде тонкодисперсной фазы.

Анализ влияния поверхностного натяжения на рост изолированных зародышей в гальваностатических условиях.

ОБЩИЕ ВЫВОДЫ.

1. Предложена потенциостатическая модель формирования металлических тонкодисперсных осадков. Проведено сопоставление результатов модельных расчетов с экспериментальными данными.

2. Используя модельные представления, установлено, что при осаждении серебра из трилонатного, глицинового, роданидного электролитов и при осаждении висмута, меди и цинка реализуется прогрессирующее зародышеобразование, а при осаждении серебра из раствора нитрата калия — мгновенное и рост токов на начальных участках I-t кривых обусловлен образованием новых зародышей по мере протекания процессов.

3. Рассмотрены теоретические вопросы формирования тонко дисперсных осадков в условиях гальваностатического метода. Дано обоснование гальваностатической модели образования и роста тонкодисперсных осадков.

4. Проведены микроскопические исследования поверхности осадков серебра и меди из раствора роданида калия и серебра и висмута из раствора нитрата калия. Рассчитаны радиусы зародышей и число зародышей.

5. Предложены уравнения для расчета радиуса зародышей и их количества из потенциостатических и гальваностатических кривых. Найдено соответствие теоретических расчетов с микроскопическими наблюдениями.

6. Методом инверсионной вольтамперометрии изучены взаимодействия в тонкодисперсных бинарных системах Ag-Cu, Ag-Bi, Ag-Co, Zn-Ni, Zn-Co. Показано, что: в системе серебро-медь образуются две фазы типа твердого растворав системах висмут-серебро и кобальт-серебро происходит образование новой фазы типа пересыщенного твердого растворав системах цинк-никель и цинк-кобальт образуются новые фазы типа твердого раствора с различным содержанием компонентов. Образование новых фаз при совместном осаждении металлов подтверждено гальваностатическим и потенциостатическим методами.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Н.Ф., Болдырев В. В. Размерные эффекты в химии гетерогенных систем // Успехи химии. — 2001. — Т. 70. — № 4. — С. 307−329.
  2. Г. Б. Нанохимия металлов // Успехи химии. 2001. — Т. 70. — № 10. -С. 915−933.
  3. О.А., Цирлина Г. А. Размерные эффекты в электрохимии // Успехи химии. 2001. — Т. 70. — № 4. — С. 330−343.
  4. Дж., Дамьянович А. Механизм электроосаждения металлов. В сб.: Современные аспекты электрохимии. М. :Мир. 1967. — С.259−391.
  5. Л.И. Теоретическая электрохимия. М.: Высшая школа. 1984.519 с.
  6. Р.П., Юзялюнас Э. Э. Кинетические закономерности при прямом встраивании в местах роста и наличии медленной стадии поверхностной диффузии ионов промежуточной валентности // Электрохимия. — 1990. — Т. 26.-№ 7.-С. 809−814.
  7. Ю.Д. Электрохимическая кристаллизация металлов и сплавов. — М.: Янус-К. 1997.-384 с.
  8. С.М. Текстура электроосажденных металлов М.: Металлургиздат. I960.- 127 с.
  9. С.М., Леонтьев А. В. Образование текстур при электрокристаллизации металлов. М.: Металлургия. 1974. — 184 с.
  10. Ю.Пангаров Н. А. Ориентация кристаллитов при осаждении металлов В сб.: Рост кристаллов. М. Наука. 1974. — С. 71−86.
  11. М. Кинетика электроосаждения металлов из комплексных электролитов. М.: Наука. 1969. — 244 с.
  12. Н.Т. Электролитические покрытия металлами. -М.: Химия. 1979. -351 с.
  13. В.А. Цинкование, кадмирование, лужение, свинцевание. Д.: Машиностроение. 1977. — 94 с.
  14. С.П., Рилкина М. В., Решетников С. М. Особенности анодного растворения кобальта в присутствии ЭДТА // Электрохимия. 1997. — Т.ЗЗ. -№ 7. — С. 804−808.
  15. Т.Х. Применение комплексонов в теплоэнергетике М., Энергоатомиздат. 1986. 280 с.
  16. Brockman СЛ., Mote J.M. Copper plating from solutions containing ethelenediamins // Trans. Electrochem. Soc. 1988. 01. 73. — № 4. — P. 365−369.
  17. B.H., Душан Ю. В., Моисеева B.B., Федоренко Р. А. Исследование кинетики разряда ионов меди на твердом электроде из комплексных трилонатных электролитов // Кинетика и электродные процессы в водных растворах. Киев 1983. С. 84−89.
  18. Т., П., Рахматуллина И. Д. Электролиты висмутирования электроосаждения висмута из трилонатно-сульфосалицилатного электролита. Казань: Казанский гос. Технолог, ун-т., 1999. 23 с.
  19. К.Н., Бузина И. И. Влияние комплексона III на процесс электроосаждения Bi при механическом перемешивании электролита // Функциональные органические соединения и полимеры. Волгоград. -1974.-С 213−218.
  20. В.В., Захаров М. С., Муслимов P.P. Электроосаждение сплавов Cu-Zn из трилонатных электролитов // Журнал прикладной химии. -1999.-72.-№ 8.-С. 1297−1300.
  21. В.В., Девяткова О. Р., Захаров М. С. Инверсионно-вольтамперометрическое изучение взаимодействия элементов в электроосажденных системах подгруппы железа // Электрохимия. 1999. -Т.35. — № 9. — С. 1146−1148.
  22. Н.А., Поветкин В. В., Захаров М. С. Электролит для осаждения сплава Cu-Bi Ас № 1 010 162(СССР) БИ, 1983, № 13, с. 175.
  23. Н.А., Поветкин В. В. Осаждение сплавов медь-висмут из трилонатных электролитов // Журнал прикладной химии. 1983. — Т. 56. -С. 197−198.
  24. В.В., Ермакова Н. А. Электроосаждение и свойства сплавов Ni-Bi из трилонатного электролита // Защита металлов 1985. № 4. — С. 643−645.
  25. Н.А., Поветкин В. В., Исследование возможности электроосаждения висмута и кобальта из трилонатного электролита // Физико-химические методы исследования и анализа. Тюмень. 1982. -С.83−89.
  26. В.В., Ермакова Н. А. Электроосаждение, структура и свойства сплавов кобальт-висмут из трилонатного электролита // Защита металлов. 1986. Т. 22. — № 3. — С.463−465.
  27. В.В., Ковенский И. М., Установщиков Ю. И. Структура и свойства электролитических сплавов. М.: Наука. 1992. — 254 с.
  28. А.Т., Жамагорцянц М. А. Электроосаждение металлов и ингибирующая адсорбция. М.: Наука. 1969. 198 с.
  29. К.М., Полукаров Ю. М. Электроосаждение сплавов // Электрохимия. Итоги науки и техники. М.: ВИНИТИ АН СССР. 1964. — Т. 1.-С. 59−113.
  30. Н.П., Бибиков Н. Н., Вячеславов П. М. Электролитические сплавы. М.: Машгиз. 1962. — 312 с.
  31. Е.П., Багрий В. А., Ремез С. В. Электроосаждение высокодисперсных порошков сплава железо-никель // Укр. хим. журнал. 1993. — Т. 59. — № 9. -С. 961−965.
  32. Какипо Е.М., Mosca D.H., Mazzaro J. Structure, composition, and morphology of electrodeposited CoxFej. x alloys // J. Electrochem. Soc. 1997. — V. 144. — № 9. -P. 3222−3226.
  33. Yin K.-M., Wei J.-H., Fu J.-R., Popov B.N., Popova S.N. Mass transport effects on the electrodeposition of iron-nickel alloys at the presence of additives // J.Appl.Electrochem. 1995. — V. 25. — № 6. — P. 543−555.
  34. М.И., Зинченко B.M. Изучение влияния солей щелочных металлов на электроосаждение кобальта и меди из разбавленных растворов // Мелитоп.гос.пед.ин-т.-Мелитополь. 1999. — 8 с.
  35. Г. И., Шмачкова И. Г. Электроосаждение сплава олово-никель из сернокислого электролита с органическими добавками // Журнал прикладной химии. 1994. — Т. 67. — № 9. — С. 1431−1436.
  36. Ramachandran A., Mayanna S.M. Electrodeposition of Ni-Fe alloys from sulphate-citrate-amino acid bath // Indian. J. Technol. 1993. — V. 31. — № 11. -P. 791−795.
  37. Stankovic Z.D., Vukovic M. The influence of thiorea on kinetic parameters on the cathodic and anodic reaction at different metals in H2S04 solution // Electrochim. Acta. 1996. — V. 41. — № 16. — P. 2529−2535.
  38. Han K., Fang J. Механизм стабилизирующего влияния тиомочевины на процесс химического осаждения никеля // Diandu yu jingshi=Plat. And Finish. 1996. — V. 18. — № 3. — P. 22−24.
  39. В.Н., Бобрикова И. Т., Молчанов С. В. Особенности механизма электроосаждения цинка из цинкатного электролита с добавкой полиэтиленполиамина // Электрохимия. 1997. — Т. 33. — № 2. — С. 179−183.
  40. Adb El Rehim S.S., Refaey S.A., Schwitzgelel G., Taha F. Electrodeposition of Sn-Co alloys from gluconate bath // J.Appl.Electrochem. 1996. — V. 26. — № 4. -P. 413−418.
  41. Shimizu Torn, Ishizuka Toshio. Электроосаждение никеля из растворов, содержащих замещенные пиридины и (или) сахарин // Nagoya Kogya gijitsu KenKyujo hokoku=Repts Nat.Ind.Res.Inst.nagoya. 1994. — V. 43. — № 1. -P. 17−24.
  42. Banovic S.W., Barmak K., Marder A.R. Microstrucural characterization and hardness of electrodeposited nickel coatings from a sulphamate bath // J.Mater.Sci. 1998. — V. 33. — № 3. — P. 639−645.
  43. Xia S., Zuo Z. Влияние противоорганических добавок на катодную поляризацию в растворе для электроосаждения никеля // Wuhan daxue xuebao. Ziran Kexue ban=J.Wuhan Univ. Natur. Sci. Ed. 1996. — V. 42. — № 6. -P. 681−685.
  44. Yin K.-M. Potentiostatic deposition model of iron-nickel alloys on the rotating disk electrode in the presence of organic additive // J.Electrochem.Soc. 1997. -V. 144.-№ 5.-P. 1560−1566.
  45. Yu Jingxian, Chen Yongyan, Yang Hanxi. The influence of organic additives on zinc electrocrystallization from KC1 solutions // J.Electrochem.Soc. 1999. — V. 146.-№ 5.-P. 1789−1793.
  46. Г. И., Журавлев В. И., Фурсова Н. Ю. Электроосаждение сплава Sn-Co из сульфатного электролита с органическими добавками // Журнал прикладной химии. 1998. — Т. 71. — № 6. — С. 937−940.
  47. Г. И., Журавлев В. И., Фурсова Н. Ю. Электроосаждение сплава олово-сурьма из сульфатных электролитов с органическими добавками // Журнал прикладной химии. 2000. — Т. 73. — № 4. — С. 673−676.
  48. Г. И., Журавлев В. И., Фурсова Н. Ю. Электроосаждение сплавов олово-сурьма и олово-висмут из сульфатных электролитов с органическими добавками // Журнал прикладной химии. 1998. — Т. 71. — № 7. -С. 1113−1120.
  49. Х.З. Инверсионная вольтамперометрия твердых фаз. М.: Химия. 1972.- 192 с.
  50. Е.Я. Некоторые закономерности метода инверсионной вольтамперометрии твердых фаз и его перспективы в аналитической химии // Журнал аналитической химии. 1974. — Т. 29. — № 3. — С. 438−455.
  51. А.А., Синякова С. И. Электрохимические методы анализа материалов. М.: Металлургия. — 1972. —150 с.
  52. Х.З., Нейман Е. Я., Слепушкин В. А. Инверсионные электроаналитические методы. М.: Химия. 1988. — 238 с.
  53. Е.Я., Фигельсон Ю. А. Упрощенная модель образования и ионизации двух и трехкомпонентных осадков в методе инверсионной вольтамперометрии // Журнал аналитической химии. — 1978. — Т. 33. — № 8. -С. 1720−1725.
  54. Х.З., Нейман Е. Я. Твердофазные реакции в электроаналитической химии. — М.: Химия. 1982. 245 с.
  55. Е.Я. Некоторые закономерности электрохимического образования и ионизации бинарных осадков на твердых индифферентных электродах // Журнал аналитической химии. 1975. — Т. 30. — № 10. — С. 2293−2297.
  56. Njau K.N., Jassen LJ. Electrochemical redaction of nickel ions from dilute solutions // J. Appl. Electrochem. 1995. — V. 25. — № 10. — P. 982−986.
  57. Vandenbrande P., Dumont В., Wihand R. Nucleation and growth of nickel by electrodeposition under galvanostatic conditions // J.Appl.Electrochem. 1994. -V. 24. — № 3. — P. 201−205.
  58. Ellkhatabi F., Benballa M., Sarret M. Dependence of coating characteristis on deposition potential for electrodeposited Zn-Ni alloys // Electrochim. Acta. 1999. — V. 44. -№ 10.-P. 1645−1653.
  59. Kalantary M.R., Wilcox G.D., Gabe D.R. The production of compositionally modulated alloys by simulated high speed electrodeposition from a ingle solution // Electrochim. Acta. 1995. — V. 40. — № 11. — P. 1609−1616.
  60. Ф.И., Шевляков И. А., Скнар Т. Е. Электроосаждение сплава Zn-Ni из щелочного электролита // Электрохимия. 1999. — Т. 35. — № 10. -С.1178−1183.
  61. Ф.И., Шевляков И. А., Мандрыка М. М. Исследование фазового состава и коррозионных свойств Zn-Ni-покрытий, осажденных из щелочного электролита // Электрохимия. 1999. — Т. 35. — № 12. — С. 1494−1498.
  62. Elkhatabi F., Sarret М., Muller С. Chemical and phase compositions of zinc-nickel alloy determined by stripping techniques // J. Electroanal. Chem. 1996. -V. 404. -№ i.p. 45−53.
  63. Popov B.N., Ramasubramanian M., Popova S.N. Galvanostatic pulse and pulse reverse plating of zinc-nickel alloys from sulfate electrolytes on a rotating disk electrode // J. Chem. Soc. Faraday Trans. 1996. — V. 92. — № 20. — P. 4021−4028.
  64. Bruet-Hotellaz, Bonino J.P., Rousset A. Structure of zinc-nickel alloy electrodeposits //J.Mater.Sci. 1999. — V. 34. — № 4. — P. 881−886.
  65. Xang Fangzu, Xu Shukai, Zhou Shaomin. Адсорбционное поведение добавок и их влияние на структуру электроосажденных сплавов Zn-Ni // Xiamen daxue xuebao. Ziran Kexue ban=J.Xiame Univ.Natur.Sci. 1995. — V. 34. — № 4. -P. 572−576.
  66. Режим высокоскоростного электроосаждения сплава Zn-Ni // Cailiao baohu=Mater.Prot. 1994. — V. 27. — № 5. — С. 18−21.
  67. А.И., Кешнер ТД., Добреньков Н. Г. Концентрационные изменения в приэлектродном диффузионном слое при электроосаждении сплава Zn-Niиз этилендиаминовых электролитов // Каз. Гос. Технол. Ун-т. Казань. -1994.- Юс.
  68. В.Г., Гудин Н. В. Механизм начальных стадий электроосаждения сплава цинк-никель // Электрохимия. 1995. — Т. 31. — № 5. — С. 532−534.
  69. Venkatesha T.V. Bright Zn-Ni alloy plating from sulphate-chloride bath // J.Electrochem.Soc. India. 1997. — V. 46. — № 1. — P. 15−21.
  70. Electrodeposition of Zn-Ni alloy from an acid sulphate bath containing ethanol amines // J.Electrochem.Soc.India. 1997. — V. 46. — № 1. — C. 7−14.
  71. Fan C., Piron D.L. Study of anomalous nickel-cobalt electrodepoition with different electrolytes and current densities // Electrochim. Acta. 1996. — V. 41. -№ 10.-P. 1713−1719.
  72. Correia A.N., Machado S.A.S. Electrodeposition and characterization of thin layers of Ni-Co alloys obtained from dilute chloride baths // Electrochim. Acta. -2000.-V. 45.-№ 11.-P. 1733−1740.
  73. Jovic V.D., Tosic N., Stojanovic M. Characterization of electrodeposited Co-Ni alloys by application of the ALSV technique Professor A. Despic to commemorate his 70th birthday // J.Electroanal. Chem. 1997. — V. 420. — № 1−2. — P. 43−51.
  74. Harris Thomas M., Wilson Jennifer L. (St. Clair). Effect of ethylendiamine on the electrodeposition of Ni-Fe alloys // J.Electrochem.Soc. 1999. — V. 146. — № 4. -P. 1461−1464.
  75. Г. В. Исследование структуры и химического состава электроосажденных сплавов Ni-Fe // Журнал прикладной химии. 1994. -Т. 67. — № 12. — С. 2062−2067.
  76. Czerwinski F. In situ measurement of stress generated during electrocrystallization of Fe-Ni alloys // Thin Solid Films. 1996. — V. 280. — №-1−2.-P. 199−203.
  77. Zech N., Podlaha E.J., Landolf D. Anomalous codeposition of iron group metals.
  78. Experimental results // J.Electrochem. Soc. 1999. — V. 146. — № 8. -P. 2886−2891.
  79. Zech N., Podlaha E.J., Landolf D. Anomalous codeposition of iron group metals.1. Mathematical model // J.Electrochem. Soc. 1999. — V. 146. — № 8. -P. 2892−2900.
  80. Czerwinski F. The microstructure and internal stress of Fe-Ni nanocrystalline alloys electrodeposited without a stress-reliever // Electrochim. Acta. 1998. — V. 44. — № 4. — P. 667−675.
  81. Younan M.M., Oki T. Electrodeposition of Zn-Ni-Fe alloy in acidic chloride bath with separated anodes // J.Appl.Electrochem. 1996. — V. 26. — № 5. -P. 537−541.
  82. А.П. Электроосаждение сплавов системы Fe-Ni из травильных растворов на основе хлорного железа // Пробл. Химии и хим. технол.: Тез. Докл.4 Центр. Чернозем.регион. конф., Тамбов, 1996. 99с.
  83. Harris Т.М., Clair J.St. Testing the role of metal hydrolysis in the anomalous electrodeposition of Ni-Fe alloys // J.Electrochim.Soc. 1996. — V. 143. — № 12. -P. 3918−3922.
  84. Baker Breft C., West Alan C. Electrochemical impedance spectroscopy study of nickel-iron deposition. Experimental results. II. Theoretical interpretation // J.Electrochem.Soc. 1997. — V. 144. — № 1. — P. 164−175.
  85. Krause Till, Arulnayagam Lazar. Model for nickel-iron alloy electrodeposition on a rotating disk electrode // J. Electrochem.Soc. 1997. — V. 144. — № 3. -P. 960−966.
  86. Yin K.-M. Anomalous codeposition of Fe-Ni alloys and Fe-Ni-Si02 composites under potentiostatic conditions. Experimental study and mathematical model // J.Electrochem.Soc. 1996. — V. 143. — № 7. — P. 2164−2172.
  87. Liebscher H. Some practical aspects of the electrodeposition of iron group metal alloys // Z.phys. Chem. 1999. — V. 208. — № 1−2. — P. 183−194.
  88. Leith Steven D., Ramli Shirley Schwartz Daniel T. Characterization of NixFetx (0,10
  89. Fabri Miranda F.J., Barcia O.E., Mattos O.R., Wiart R. Electrodeposition of Fe-Ni alloys in sulfate electrolytes. I. Experimental approach // J.Electrochem.Soc. -1997. V. 144. — № 10. — P. 3441−3449.
  90. Fabri Miranda F.J., Barcia O.E., Mattos O.R., Wiart R. Electrodeposition of Fe-Ni alloys in sulfate electrolytes. II. Reaction modeling // J.Electrochem.Soc. -1997. V. 144. — № 10. — P. 3449−3457.
  91. Podlaha E.J., Bonhote Ch., Landolf D. A mathematical model and experimental study of the electrodeposition of Ni-Cu alloys from complexing electrolytes // Electrochim. Acta. 1994. — V. 39. — № 18. — P. 2649−2657.
  92. Bonhote Ch., Landolf D. Microstructure of Ni-Cu multilayers electrode posited from a citrate electrolyte // Electrochim.Acta. 1997. V.42. № 15. P.2407−2417.
  93. Ю., Ёньян Чен, Ханси Ян. Влияние меди на электроосаждение никеля//Электрохимия. 1999. — Т. 35. — № 11.-С. 1333−1336.
  94. Bradley Р.Е., Landolf D. A surface coverage model for pulse-plating of binary alloys exhibiting a displacement reaction // Electrocheim. Acta. 1997. — V. 42. -№ 6. -P. 993−1003.
  95. Yoang Chun-Chen, Chen Huk Y. Pulsed electrodeposition of copper/nickel multilayers on a rotating disk electrode. Potentiostatic deposition // J.Electrochem.Soc. 1995. — V. 142. — № 9. — P. 3040−3043.
  96. Roy Sudipta, Landolf D. Effect of off-time on the composition of pulse-plated Cu-Ni alloys //J.Electrochem.Soc. 1995. — V. 142. — № 9. — P. 3021−3027.
  97. Lebbad N., Voiron J., Ngugen В., Chainet E. Depot electrolytique de multicouches Cu/Ni en regimes electriques pulses // Ann.chim.(fr.). 1995. — V. 20.-№ 7−8.-P. 391−394.
  98. Crousier j., Bimaghra I. Effect of nickel on the electrodeposition of copper // J.Appl.Electrochem. 1993. — V. 23. — № 8. — P. 775−780.
  99. Л.И., Пуровская О. Г., Азарко B.H. Особенности электроосаждения сплавов Ni-Mo из цитратных электролитов // Весщ АН Беларус! Cep.xiM.H. BecuiAHBCCP.Cep.xiM.H. 1997. — № 1. — С. 38−43.
  100. Chassing Е., Roumegas М.Р., Trichet M.F. Electrodeposition of Ni-Mo alloys with pulse reserve potentials // J.Appl.Electrochem. 1995. — V. 25. — № 7. -P. 667−670.
  101. Jovic V.D., Tosic N. Qualitative and quantitative assesment of phases in electrodeposited Ni-Cd alloys by the ALSV technique // J.Electroanal.Chem. -1998. V. 441. — № 1−2. — P. 69−76.
  102. H.A., Лабяк O.B. Математическое моделирование процессов импульсного электроосаждения сплавов // Электрохимия. 1995. — Т. 35. -№ 5. — С. 492−495.
  103. Obradovic М., Stevanovic J., Despic A.R., Stevanovic R. Electrochemical deposition and phase structure of electrodeposited Ni-W alloy // J.Serb.Chem.Soc. 1999. — V. 64. — № 4. — P. 245−257.
  104. Р.Ф., Лукомский Ю. Я., Жуков Ю. А. Электроосаждение железа из оксалатных комплексов // Известия Вузов. Химия и химическая технология. 1996. — Т. 39. — № 6. — С. 72−75.
  105. Narasimhamurthy V., Sheshadri B.S. Physiko-chemocal properties of Zn-Fe alloy depositis from an alkaline sulphate bath containing triethanolamine // J.Appl.Electrochem. 1996. — V. 26. — № 1. — P. 90−94.
  106. B.H., Казаков B.A., Явич A.A. Кинетические особенности выделения ионизации цинка и железа в щелочных электролитах // Электрохимия. 1999. — Т. 35. — № 1. — С. 134−137.
  107. Gomez Е., Pelaez Е., Valles Е. Electrodeposition of zinc-iron alloys. Analysis of the initial stages of the anomalous codeposition // J.Electroanal.Chem. 1999. -V. 469.- № 2. -P. 139−149.
  108. Bojinov M., Betova I., Raicheff R. Influence of molybdenium on the anodic dissolution of iron in acidic solutions // J. Appl. Electrochem. 1996. — V. 26. -№ 9. — P. 939−946.
  109. Kang J.-C., Lalvani S.B., Melendres C.A. Electrodeposition and characterization of amorphous Fe-Ni-Cr-based alloys // J.Appl.Electrochem. -1995. V. 25. — № 4. — P. 376−383.
  110. Harris Thomas M., Whitley Gina M., Croll Lan M. The electrodeposition of Ni-Fe-Cr alloys for magnetic thin film applications // J.Electrochem.Soc. 1995. -V. 142.-№ 4.-P. 1031−1034.
  111. Trejo G., Ortega B.R., Meas V.Y. Ozil P. Nucleation and growth of zinc from chloride concentrated solutions // J.Electrochem.Soc. 1998. — V. 145. — № 12. -P. 4090−4097.
  112. B.B., Медведева И. А. Предельный ток электроосаждения цинка из цинкатного раствора с добавкой полимерной тетраалкиламмониевой соли // Укр.хим.ж. 1999. — Т. 65. — № 1−2. — С. 114−18.
  113. Kirilova I., Ivanov I., Rashkov S. Electrodeposition of zinc in a weakly acidic electrolyte containing monoalkylated polyethyleneglycol and benzylidene acetone (Az-2) as additives // Bulg.Chem.Commun. 1996−1997. — V. 29. — № 2. -P. 355−369.
  114. Ю.М., Костин Н. А. Особенности структуры и некоторых свойств цинковых покрытий, электроосажденных импульсным током из щелочных электролитов // Электрохимия. 1994. — Т. 30. — № 10. -С. 1287−1290.
  115. Ю., Ханзи Я., Зинлинь А., Енгян Ч. Влияние природы анионов на электроосаждение цинка на СУ электроде // Электрохимия. 2002. — Т. 38. -№ 3.-С. 363−367.
  116. Gomez Е., Valles Е. Electrodeposition of Zn-Co alloys: initiations and development of anomalous co-deposition //J.Electroanal.Chem. 1997. — V. 421. -№ 1−2.-P. 157−163.
  117. Wang H.M., Okeefe T.J. Effect of additives on anomalous deposition in zinc cobalt alloy electrogalvanizing // J.Appl.Electrochem. 1994. — V. 24. — № 9. -P. 900−905.
  118. Nikolova Maria S., Bachvarov Vasil D., Raichevski Georgi M. The behaviour of electrodeposited zinc-cobalt alloy coatings under anodic potentials // Bulg.Chem.Commun. 1994. — V. 27. — № 1. — P. 154−161.
  119. Alcala M.L., Gomez E., Valles E. Electrodeposition of zinc-cobalt alloys. Reaction between the electrochemical response and the composition and morphology of the deposits // J.Electroanal.Chem. 1994. — V. 370. — № 1−2. -P. 73−85.
  120. Gomez E., Valles E., Gorostiza P., Servat J., Sanz F. Electrodeposition of zinc-cobalt alloys. Tapping mode AFM technique applied to study the initial stages of deposition // J.Electrochem.Soc. 1995. — V. 142. — № 12−2. — P. 4091−4096.
  121. Atchison S.N., Burford R.P., Hibbert D.B. Chemical effects on the morphology of supported electrodeposited metals // J.Electroanal.Chem. 1994. — V. 371. — № 1−2.-P. 137−148.
  122. Bonou L., Eyroud M. Nucleation and growth of copper on glassy-carbon and steel // J.Appl.Electrochem. 1994. — V. 24. — № 9. — P. 906−910.
  123. Heerman Lac., Tarallo Anthony. Electrochemical nucleation on microelectrodes. Theory and experiment for diffusion-controlled growth // J.Electroanal.Chem. 1998. — V. 451. — № 1−2. — P. 101−109.
  124. San Martin V., Sanllorente S. Optimization of influent factors on nucleation process of copper in solutions containing thiourea using an experimental design // Electrochim. Acta. 1998. — V. 44. — № 4. — P. 579−585
  125. The effect of different concentrations of chloride on the structure of Cu upd on Pt (III) // Electrochim. Acta. 1999. — V. 45. — № 4−5. — P. 809−817.
  126. Alodan M., Smyrl W. Effect of thiorea on copper dissolution and deposition // Electrochim. Acta. 1998. — V. 44. — № 2−3. — P. 299−309.
  127. Fricoteaux P., Savadogo O. Electrocatalytic parametrs of the electrodeposition of copper with silicotungstic acid (STA) // Electrochim. Acta. 1999. — V. 44. -№ 17.-P. 2927−2940.
  128. Haidue H., Ilea P., Nicoara A. Kinetic study of copper electrocrystallization // Stud.Univ.Bales-Bolyai.Chem. 1996. — V. 41. — № 2. — P. 173−183.
  129. Dudek David A., Fedwiw Peter S. Electrodeposition of copper from cuprous cyanide electrolyte. I. Current distribution on a stationary disk // J.Electroanal.Chem. 1999. — V. 474. — № 1. — P. 16−30.
  130. Dudek David A., Fedwiw Peter S. Electrodeposition of copper from cuprous cyanide electrolyte. I. Current distribution on a rotating disk // J.Electroanal.Chem. 1999. — V. 474. — № 1. — P. 31−42.
  131. А. И. Молодкина Е.Б., Полукаров Ю. М. Природа активных центров при электрокристаллизации меди на платине // Электрохимия. -2000. Т. 36. — № 9.. с. 1130−1140.
  132. А.И., Молодкина Е. Б., Полукаров Ю. М. Начальные стадии электрокристаллизации меди из сульфатных электролитов. Циклическая вольтамперометрия на платиновом дисковом электроде с кольцом // Электрохимия. 2000. — Т. 36. — № 9. — С. 1118−1129.
  133. А.И., Молодкина Е. Б., Полукаров Ю. М. Начальные стадии электрокристаллизации меди из сульфатных электролитов. Циклическая вольтамперометрия на платиновом дисковом электроде с кольцом // Электрохимия. 2000. — Т. 36. — № 10. — С. 1236−1244.
  134. Galdikiene О., Mockus Z. Cathodic process in copper-tin deposition from sulphate-solutions //J.Appl.Electrochem. 1994. — V. 24. — № 10. — P. 1009−1012.
  135. Xue Jiangyun, Wu Jixum. Электроосаждение слоистых пленок Cu-Co двухимпульсным потенциостатическим методом // Diandu yu Jingshi=Plat and Finish. 1997. — V. 19. — № 2. — P. 8−11.
  136. Bradley P.E., Landolf D. Pulse-plating of copper-cobalt alloys // Electrochim. Acta. 1999. — V. 45. — № 7. — P. 1077−1087.
  137. Stevanovic R.M., Despic A.R. Electrochemical formation and reduction of Cu (III) in oxide layers on Cu and Cu-Bi alloys in alkaline solutions. Part I. Cyclic voltammetry //J.Serb.Chem.Soc. 1995. — V. 60. — № 5. — P. 411−421.
  138. Beltowska-Lehman Ewa, Ozga Piotr Effect of complex formation on the diffusion coefficient of Cu in citrate solution containing Ni2+ and Mo2+ // Electrochim. Acta. 1998. — V. 43. — № 5−6. — P. 617−629.
  139. Lu Da-ling, Tanaka Ken-ichi Cu-Au alloy particles formed in the underpotential deposition region of copper in acid solutions // J.Electroanal.Chem. 1997. — V. 430. — № 1−2. — P. 69−76.
  140. Г. М., Гринина В. В. Некоторые вопросы теории электроосаждения сплавов. Влияние поверхностно-активных веществ нафазовое строение электроосажденных сплавов медь-кадмий // Электрохимия. 1965. — Т. 1. — № 2. — С. 350−353.
  141. О.В., Воробьева Т. Н., Свиридов В. В. Осаждение наноструктурированных композиционно-модулированных покрытий Cu-Sn и Cu-Zn в условиях периодического изменения плотности тока // Электрохимия. 1999. — Т. 35. — № 9. — С. 1070−1075.
  142. Galdikiene О., Moscus Z. Cathodic process in copper-tin deposition from sulphate solutions // J.Appl.Electrochem. 1994. — V. 24. — № 10. — P. 1009−1012.
  143. Martins M.E., Henandezcreus A., Salvarezza R.C., Arvia A. Dynamics of surface alloying promoted by cadmium underpotential deposition anodic stripping cycles on irregular silver electrodeposits // J.Electroanal.Chem. 1994. — V. 375. -№ 1−2.-P. 141−155.
  144. Г. JI., Буткявичус Ю. П., Шивицкас Ю. П. Кинетика обмена в системе Cd/Cd в сульфатном электролите // Электрохимия. 1996. — Т. 32. -№ 5. — С. 642−644.
  145. Schmidt N.E., Mercer Е.Е., Philp R.H. A differential-pulse polarographic study of the cadmium (2+)-nitrilotriacetic acid system. Application of a simple and versatile simulation // J.Electroanal.Chem. 1993. — V. 359. — № 1−2. -P. 115−124.
  146. Murase Kuniaki, Uchida Hidenori, Hirato Tetsuji, Awakura Yasuhiro. Electrodeposition of Cd-Te films from ammonical alkaline aqueous solution at low cathodic overpotentials // J.Electrochem.Soc. 1999. — V. 146. — № 2. -P. 531−536.
  147. Mastai Yitzak, Hodes Gary. Size quantization in electrodeposited CdTe nanocrystalline films // J.Phys.Chem.B. 1997. — V. 101. — № 14. — P. 2685−2690.
  148. М.И., Карбасов Б. Г., Тихонов К. И. Образование поверхностных электролитических сплавов в системах Ag-Cd и Cu-Cd в области «недонапряжения» // Электрохимия. 1996. — Т. 32. — № 6. — С. 778−780.
  149. Soto A.B., Arse E.M., Paloma-Pardave M. Electrochemical nucleation of cobalt onto glassy carbon electrode from ammonium chloride solutions // Electrochim. Acta. 1996. — V. 41. — № 16. — P. 2647−2655.
  150. Ambardekar D.S., Anyapanawar R.V. Studies on electrodeposition of cobalt in ammonical acetate bath // Indian J.Pharm.Sci. 1996. — V. 58. — № 4. — P. 476−477.
  151. Gomez E., Marin M., Sanz F., Valles E. Nano-and micrometric approaches to Co electrodeposition on carbon substrates // J.Electroanal.Chem. 1997. — V. 422. — № 1−2.-P. 139−147.
  152. Palomar-Pardave Manuel, Ignacio Gonzalez, Ana B. Soto Influence of the coordination sphere on the mechanism of cobalt nucleation onto glassy carbon // J.Electroanal.Chem. 1998. — V. 443. — № 1. — P. 125−136.
  153. Juzikis P., Gudaviciute L. The electrodeposition of artificially structured Co/Ru alloys // 2nd Nat.Lith.Conf.Chem.95-Vilnius, Oct. 12−13,1995. P. 87−88.
  154. Czerwinski Andrej, Zelazowska Maldorzata Electrochemical behavior of lead deposited on reticulated vitreous carbon // J.Electroanal.Chem. 1996. — V. 410. -№ l.-P. 55−60.
  155. А.Б., Гиренко Д. В., Данилов Ф. И. Механизм электроосаждения диоксида свинца на платиновом электроде // Электрохимия. -1997. Т. 33. — № 1. — С. 104−107.
  156. Bharathi S., Yegnaraman V., Rao G.P. Simultaneous underpotential deposition of lead and thallium on polycrystalline silver // J.Appl.Electrochem. 1994. — V. 24.-№ 10.-P. 981−988.
  157. Chen C.S., Wan C.C., Wang X.X. Electrodeposition of tin-lead alloy on a rotating disk electrode in methane sulphonic acid solutions // Trans. Inst. Metal Finish. 1998. — V. 76. — № 2. — P. 54−58.
  158. Sousa J.P., Fleischmann M., Pons S. Studies of silver electronucleation onto carbon microelectrodes // J.Chem.Soc.Faraday.Trans. 1994. — V. 90. — № 13. -P. 1923−1929.
  159. Potzschke R.T., Gervasi С.A., Vinzelbery S., Staikov G., Lorenz W.J. Nanoscale studies of Ag electrodeposition on HOPG (OOOl) // Electrochim. Acta.1995. V. 40. — № 10. — P. 1469−1474.
  160. В.П., Турин B.C., Кунцевич Н. И. Моделирование кинетики процесса катодного осаждения серебра на поверхность Ti-TiC>2 электродов // Электрохимия. 1995. — Т. 31. — № 1. — С. 30−36.
  161. Manuel Palomar-Pardave, Ma. Teresa Ramirez Silver electrocrystallization on vitreous carbon from ammonium hydroxide solutions // J.Electrochem.Soc.1996.-V. 143.-№ 5.-P. 1551 1558.
  162. Reents В., Plieth W., Macagno V.A., Lacconi G.S. Influence of thiorea on silver deposition. Spectroscopic investigation // J.Electroanal.Chem. 1998. -V. 453. -№ 1−2.-P. 121−127.
  163. Radmilovic V., Popov K.I., Pavlovic M.G., Dimitrov A. The mechanism of silver granular electrodeposits formation // J. Solid State Electrochem. 1998. -V. 2.- № 3.- P. 162−169.
  164. Miranda-Hernandez Margarita, Palomar-Pardave Manuel. Identification of different silver nucleation processes on vitreous carbon surfaces from an ammonia electrolytic bath//J.Electroanal.Chem. 1998. — V. 443. — № 1. — P. 81−93.
  165. Vandeputte S., Tribollet В., Hubin A., Vereecken J. Electrohydrodynamic impedance investigation of silver electrodeposition in a thiosulphate ligand system //Electrochim. Acta. 1994. — V. 39. — № 18. — P. 2729−2741.
  166. Fukunako Y., Kondo Y. Ionic mass transfer associated with electro-crystallization of silver // Electrochim. Acta. 1989. — V. 34. — № 10. -P. 1393−1400.
  167. И.Н., Трофименко В. В., Лошкарев Ю. М. Стадии разряда и кристаллизации электроосаждения серебра из роданидного раствора. «Монослойное осаждение» // Электрохимия. 1991. — Т. 27. — № 1. — С. 43−49.
  168. Schroter С., Solomun Т. Sequential electrodeposition of silver and bismuth on a gold surface // Ber. Bunsen-Ges.phys.Chem. 1996. — V. 100. — № 7. -P. 1257−1261.
  169. Н.Ю., Медведев Г. И. Электроосаждение сплава Sn-Sb из разбавленного сульфатного электролита с органическими добавками // Научн.-техн. конф. Новомоск. ин-та Рос. хим-техн. ун-та Новомосковск, 23−26 марта 1999 г. 1999. — С. 5−7.
  170. Н.Ю., Медведев Г. И. Электроосаждение сплава Sn-Sb из разбавленного сульфатного электролита с органическими добавками // Научн.-техн. конф. Новомоск. ин-та Рос. хим-техн. ун-та Новомосковск, 23- 26 марта 1999 г. 1999. — С. 41−43.
  171. Ю.Д. Распределение вероятности зародышеобразования по поверхности электрода при неравномерном распределении концентрации адатомов // Электрохимия. 1999. — Т. 35. — № 5. — С. 658−660.
  172. Ю.Д. Кинетика начального этапа роста зародышей при электрокристаллизации металлов // Электрохимия. — 2002. Т. 38. — № 10. — С. 1273−1275.
  173. Ю.Д. Рост изолированных трехмерных кристаллических зародышей в режиме смешанной кинетики // Электрохимия. 2002. — Т. 38. -№ 11.-С. 1402−1405.
  174. Ю.Д. Перекрытие диффузионных зон при росте кристаллических зародышей в процессе электрохимического осаждения // Электрохимия. -2003. Т. 39. — № 3. — С. 352−354.
  175. Sluyters J.H., Wijenberg J.H., Mulder W.H., Sluyters-Rehbach M., Bedeaux D. A computer simulation of nucleation an understanding of the induction time // J.Electroanal.Chem. 1989. — V. 261. — №-2A. — P.-263−272.
  176. Vilaseca Eudald, Triqueros Pedro Pablo. A computer simulation model for the diffusion controlled nucleation and growth processes on electrode surface of two-dimensional study // J.Electroanal.Chem. 1998. — V. 458. — № 1−2. — P. 55−72.
  177. Marshall G., Mocskos P. Growth model for ramified electrochemical deposition in the presence of diffusion, migration and electroconvection // Phys.Rev.E. 1997. — V. 55. — № 1. — P. 549−563.
  178. Huang W., Hibbert D.B. Computer modelling of electrochemical growth with convection and migration in a rectangular cell // Phys.Rev.E. 1996. — V. 53. -№ 1. — P. 727−730.
  179. Landolf D., Podlaha E.J., Zech N. Mathematical modeling of electrochemical alloy deposition // Z.Phys.Chem. 1999. — V. 208. — № 1−2. — P. 167−182.
  180. Strutwolf J., Wunsche M., Meyer H., Schumacher R. Model calculation to characterize kinetic effects for electrochemical phase formation // Z.Phys.Chem. 1999. — V. 208. — № 1−2. — P. 239−251.
  181. Fujioka J. A mathematical model for electrocrystallization under linear sweep voltammetry conditions//J. of Crystal Growth/ 1988. -V. 91.-P. 147−154.
  182. Verbrugge Mark W., Tobias Charles W. A mathematical model for the periodic electrodeposition of multicomponent alloys // J.Electrochem.Soc. 1985. — V. 132.-№ 6.-P. 1298−1307.
  183. Abyaneh M.Y., Fleischmann M. General models for surface nucleation and three-dimensional growth: the effects of concurrent redox reactions and of diffusion//J.Electrochem.Soc. 1991. -V. 138.-№ 9.-P. 2491−2496.
  184. A.M., Полукаров Ю. М. Современные представления о процессах образования и роста зародышей новой фазы в потенциостатических условиях // Успехи химии. 1987. — Т. VLI. — № 7. — С. 1082−1103.
  185. В.А., Барабошкин А. Н. Кинетика формирования осадка в потенциостатических условиях // Электрохимия. 1985. — Т. XXI. — № 7. -С. 960−963.
  186. Gunawardena G.A., Hills G.J., Montenegro Irene. Potentiostatic studies of electrochemicalnucleation // Electrochim. Acta. 1978. — V. 23. — P. 693−697.
  187. Scharifker B, Hills G. Theoretical and experimental studes of multiple nucleation // Electrochim. Acta. 1983. — V. 28. — № 1. — P. 879−889.
  188. Isaev V.A. Non-steady-state electrochemical nucleation under potentiostatic conditions // J.Electroanal.Chem. 1998. — V. 453. — P. 25−28.
  189. Isaev V.A., Baraboshkin A.N. Three-dimensional electrochemical phase formation //J.Electroanal.Chem. 1994. — V. 377. — P. 33−37.
  190. А., Стоянов С., Каишев P. Теоретические аспекты электролитического зародышеобразования при высоких пересыщениях // Электрохимия. 1977. — Т. XIII. — № 6. — С. 855−860.
  191. В.Е., Гинзбург А. С., Лепин Е. А., Миронова Л. Н. Математическая модель гетерогенной твердофазной электрохимической реакции внедрения лития в алюминий // Кинетика и катализ. 1998. — Т. 39. — № 4. -С. 505−512.
  192. В.Е., Надолин К. А. Компьютерное моделирование зависимостей ток-время при неизотропном росте ядер продукта // Электрохимия. 2001. — Т. 37. — № 1. — 76−86.
  193. Milchev A. Role of the substrate state in electrochemical nucleation // Electrochim. Acta. 1983. — V. 28. — № 7. — P. 947−953.
  194. Milchev A., Heerman L. Electrochemical nucleation and growth of nano- and microparticles: some theoretical and experimental aspects // Electrochim. Acta. -2003.-V. 48. P. 2903−2913.
  195. Ф.А. Структуры двойных сплавов. М.:Металлургия. 1973. — С. 37.
  196. М., Андерко К. Структуры двойных сплавов. Т. 1. М.: Металлургиздат. 1962. — С. 31.
  197. В.М. Адсорбция газов. М.: Химия. 1976. — 655 с.
  198. Г., Ватте Д. Спектральный анализ и его применение. — М.: Мир. 1971. -Т.1. С. 104.
  199. А.Н. Электрокристаллизация металлов из расплавленных солей. М.: Наука. 1976. 279 с.
  200. А.Н., Исаев В. А. Кинетика образования слоя электродного осадка // Электрохимия. 1983. — Т. XIX. — № 6. — С. 806−808.
  201. И.В. Молекулярная физика. М.: Наука. 1965. — 479 с.
  202. В.В., Ковенский Ю. И. Структура электролитических покрытий. М.: Металлургия. 1989. 130 с.
  203. Ю.И., Поветкин В. В. Методы исследования электролитических покрытий. М.: Наука. 1994. — 234 с.
  204. М.С., Петрова Т. П. Кинетика электродных реакций с участием ионов меди (II) в водных растворах. В сб.: Электродные процессы в водных растворах. Киев.: Наукова думка. 1979. — С. 44−78.
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!