Рентгеноспектральный микроанализ тонких пленок на подложках с вариацией угла отбора рентгеновского излучения
Диссертация
Развитие материаловедения и микроэлектроники в последние десятилетия привело к широкому использованию в различных отраслях современной техники разнообразных многослойных структур, в состав которых могут входить металлы, полупроводники, диэлектрики. Одними из наиболее практически важных структур являются субмикронные пленки на массивных подложках. Это, прежде всего, защитные покрытия… Читать ещё >
Список литературы
- Боровский И.Б., Водоватов Ф. Ф., Жуков A.A., Черепин В. Т. Ло-кальше методы анализа материалов. — ГЛ.: Металлургия, 1973.- 296 с.
- Физические основы рентгеноспектрального локального анализа/ Пер. с англ. под ред. И. Б. Боровского. М.: Наука, 1973. -311 с.
- Электроннозондовый микроанализ./ Пер. с англ. под ред. И. Б. Боровского. М.: Мир, 1974. — 260 с.
- Практическая растровая электронная микроскопия./ Пер. с англ. под ред. В. И. Петрова. М.: Мир, 1978, — 656 с.
- Рид С. Электронно-зондовый микроанализ. М.: Мир, 1979. -423 с.
- Батырев В.А. Рентгеноспектральный электроннозондовый микроанализ. М.: Металлургия, 1982. — 151 с.
- Растровая электронная микроскопия и рентгеновский микроана1984/лиз./ Пер. с англ. под ред. В. И. Петрова. М.: Мир, — книги 1, П, 654 с.
- Гимельфарб Ф.А. Локальный анализ гетерогенных материалов с помощью электронного и ионного микрозондов. Дисс. докт. техн. наук. — Москва, 1979. — 456 с.
- Бернер А. И. Электроннозондовый анализ тонких слоев твердых растворов на основе арсенида галлия. Дисс. канд. техн. наук- Москва, 1979. 223 с.
- Ухорская Т.А. Исследование влияния эффектов флуоресценции на локальность микрорентгеноспектрального анализа гетерогенных материалов на основе GaAs. Дисс. канд. техн. наук. -Москва, 1978. — 126 с.440
- Тарасов В.К. Применение вариации энергии электронов в рент-геноспектральном микроанализе бинарных полупроводниковых систем. Дисс. канд. техн. наук. — Москва, 1982 — 154 с.
- Castaing R., Descamps J. On the Physical Bases of point analysis by X-ray spectrography. J. phys et Radium, 1955, v.16 U 3, p.304−317.
- Schmitz U., Ryder P.L., Pitsch W. An experimental method fordetermining the depth distribution of characteristic X-raysin electron microprobe specimens. In: Proc. of V-th Int.
- Cong, on X-ray Optics and Microanalysis, Tubingen, 1968.
- Berlin: springer-Verlag, 1968, p.104−113.depth
- Shimizu R., Murata K. The distribution of characteristic X-ray in X-ray microanalyzer target. Analysis of angular distribution of characteristic X-ray. Technol. Repts, Osaca Univ., 1967, v.17, IT 748−68, p.13−22.
- Shimizu R., Murata K. Uncertainty in the determination of depth distribution of characteristic X-ray in EPMA target. -Jap. J. Appl. Phys. 1969, v.8, IT 12, p. 1572−1573.
- Пиккеринг У.Ф. Современная аналитическая химия. М.: Химия, 1977. — 559 с.
- Физические методы анализа следов элементов./ Пер. с англ. под ред. И. П. Алимарина. М.: Мир, 1967. — 416 с.
- JDi Giacomo G. The microprobe method of thickness determination of thin metal films in multilayer structures. Thin solid films, 1975, v.26, N 2, p.311−320.
- Di Giacomo G. The microprobe technique using ARL for nonde-structively determing the concentration profile of Si in Al/4Cu thin films. In: Proc.9th Ann. Conf. Microbeam Anal. Soc., Ottawa, 1974, P.41A-41L.
- Рояк А.Я. Послойный рентгеноспектральный микроанализ полупроводниковых материалов на основе соединений типа АщБу. -Дисс. канд. хим.наук. Новосибирск, 1982. — 164 с.
- Дорохов А.Н., Рояк А. Я., Мазалов JT.H., Юделевич Й. Г. Микро-рентгеноспектральный метод исследования профиля распределения основных компонентов в тонких пленках. Известия Сиб. отд. ния АН СССР, сер. хим. наук, 1980, № 2, вып.1, с.135−138.
- Рояк А.Я., Чернявский Л. И., Дорохов А. Н., Мазалов Л. Н. Юделевич И.Г. Микрорентгеноспектральный.послойный анализ пленок. Изв. Сиб. отд-ния АН СССР, сер. хим. наук, 1981, № 7, вып. З, с.118−123.
- РагоЪек Ь., Brown J.D. The atomic number and absorption correction in electron microprobe analysis at low electron energies. X-ray spectrometry, 1978, v.7, IT 1,.p.26−30.. .
- Duncamb p., shields P.K. Effect of critical exitation potential on the absorption correction. Ш: The Electrone Microprobe, T.D.McKinley, K.P.J.Heinrich, D.B.Wittry, eds. — IT.-Y* J. Wiley, 1966, part II, p.284−295.
- Rehme H. Absolutbestimmung der Dicke and Zusammensetzung von Oberflachensichten mit der Microsonde. Uaturwissenschaften, 1966, Bd. 53, h.13, s.329.
- Burk D.L. Some observation on X-ray emission as a function of accelerating voltage in the microprobe. Adv. in X-ray analysis. — N.-Y.: Plenum Press, 1965, v.8, p.384−399.
- Hower W.O. Dunnschicht analysen in der Electronen-sonde. -Microchimica Acta, 1977, suppl. VTl, N 8, p.185−196.
- Andersen C.A. Electron Probe microanalysis of thin layers and small particles with emphasis on light element determination. J.Electrochem. Soc., 1964, v.111, К 8, p.201 c.
- Krigler R., Schumacher B"W. Thickness measurements on plantings by means of an electron probe. Plating, 1960, v.47, ЕГ 4, p.393−395.
- Куприянова T.A., Дицман C.A. Электронно-зондовый микроанализ эпитаксиальных слоев и пленок с переменной толщиной. Аппаратура и методы рентгеновского анализа, 1971, выд.1Х, с.233−238.
- Ухорская Т.А., Бернер А. И., Гимельфарб Ф. А., Куприянова Т. А. О влиянии рассеяния первичных электронов на результаты рент-геноспектрального микроанализа гетероструктур. Зав.лаб. 1978, т.44, В II, с.1027−1331.
- Куприянова Т.А., Дицман С. А. Использование зависимости интенсивности линий от ускоряющего напряжения для определения концентрации в рентгеновском микроанализе. Зав.лаб. 1970, т.36, В II, с.1340−1342.
- Куприянова Т.А., Дицман С. А. Использование зависимости интенсивности линий от ускоряющего напряжения для определения концентрации в рентгеновском микроанализе. В кн.: /32/, с. I7I-I79.
- Wittle D.P., Wood G.C. Film thickness determination by electron probe microanalysis. Corrosion Science, 1966, v.6, H5, p. 397−420.
- Hantsche H., Koschnick p. zur quantitativen Bestimmung dimner Metallaufdamfschichten mit der Electronenstrahl-Microsonde.-Microchimica Acta, 1974, Suppl.5, ii 1−2, s.73−78.
- Ichinokawa Т., Yamada Y. Measurements of evaporated films thickness and concentration by electron probe X-ray microa-nalyser. J.Phys.Soc.Japan, 1963, v.18, и 8, p.1223″
- Di Giacomo G. Microprobe technique for defermination of thickness and phosphorous concentration of gate oxide phosphosili-cate glass in PET devices. In: /37/, Р.74А-74С.
- Качаякина M.H., Малюков B.A., Хромов А. Д. Рентгеноспектраль-ное определение толщины одноэлементных слоев, нанесенных на массивную подложку. -Зав.лаб., 1981, т.47, № 9, с.60−63.
- Качалкина М.М., Малюков Б. А., Маркова Т. И. Исследование гра-дуировочяой кривой при рентгеноспектральном микроанализе ненасыщенных слоев. Зав.лаб., 1984, т.50, № 4, с.32−34.
- Sweney W.E., Seebold R.E., Birks H.S. Electron probe measurements of evaporated metal films. J.Appl. Phys., 1960, v.31, И 6, p.1061−1064.
- Goclett G.H., Davis C.D. Coating thickness measurement by electronprobe microanalysis. Brit. J.Appl. Phys., 1963, v.14, N 11, р.813−81б.
- Colby J.W. Quantitative microprobe analysis of thin insulating films. In: Adv. in X-ray analysis. — U.Y.: Plenum Press., 1968, v.11, p.287−305.
- Oda Y. jUakajama K. Thin films analysis by electron probe microanalyser. J.Jap. Inst. Met., 1973, v.37, H 7, p.673−677.
- Reuter W. The ionization function and its application to the electronprobe analysis of thin films. In: /37/, Р-34А-34С.
- Рыдник В.И., Боровский И. Б. Определение толщины и состава тонких пленок с помощью рассеянных электронов и характеристического рентгеновского излучения. Зав.лаб., 1968, т.34,1. В 8, с.960−965.
- Боровский И.Б., Рыдник В. И. Распределение интенсивности рентгеновского излучения в массивном аноде. Изв. АН СССР, сер. физическая, 1967, т. 31, № 6, с. I009-I0I5.
- Yakowitz Н., Newbury D.E. A simple analytical method for thin film analysis with massive pure element standards. -In: SEM/1976 (part.1), Proc. the 9-th Annual SEM Symposium,
- TRI, Chicago, 111., 1976, p.151−162.
- Hutchins G.A. Thickness determination of thin films by electron probe microanalysis. in:26/, p.390−405.
- Hutchins G.A. Electron probe microanalysis. In: Surface and colloid science, Good R.J., Stromberg A.R. — N.-Y., L.: Plenum Press, 1979, v.11, p.217−304.
- Brown J.D., Short J.M., LaPorce R.W. Electron probe microanalysis in inhomogeneous thin films. In: Proc. the 8-th Int. Conf. X-ray Optics and Microanalysis, Boston, 1977, p.150a-150C.
- Gartzman K.G., Dedegkaev T.T., Efimov A.N. Quantitative Electron-probe Microanalysis of thin layers. Hicrochimica Acta, 1983, Suppl. Ill, N 1−2, s.45−51.
- Kyser D.P., Murata K. Quantitative electron microprobe analysis of thin films with Monte-Carlo calculation. in: proc. 8-th ETat. Conf. on Electron Probe Analysis, EPASA, Hew Orlean, 1973, p.28A-28D.
- Murata K. Quantitative electron probe analysis of thin films with Monte-Carlo calculation. In: Proc. 7-th Int.Conf. of X-ray Optics and Microanalysis, Borovsky I., Komijak IT., eds., Leningrad, 1974, p.95−98.
- Гунько Н.А., Конников С. Г., Попова Т. Е., Тропп Э. А. Применение метода Монте-Карло при решении задач рентгеноспект-рального микроанализа тонких гетероэпитаксиапьных слоев и структур на их основе. Автометрия, 1980, № 6, с.45−53.
- Попова Т.Б. Электронно-зондовые исследования полупроводниковых гетероструктур на основе твердых растворов Gazinn-XAsyPi-y . Дисс. канд. физ.-мат. наук. — Ленинград 1980, — 233 с.
- Bishop Н.Б., Pool D.M. A Simple method of thin film analysis in the electron probe. J.Phys. D: J.Appl. Phys., 1973, v.6, N 9, p.1142−1158.
- Armigliato A., Desalvo A., Rinaldi R., Rosa R. Application of Monte-Carlo technique to the electron probe microanalysis of ternary Si-B-0 films on silicon. J.phys. D.: J. Appl. Phys., 1979, v.12, H 8, p.1299−1308.
- Armigliato A., Berti M., Desalvo A., Drigo A.V., Garulli А", Rosa R. X-ray and nuclear microanalysis of films containing interfering elements. In: Electron Microsc., 1982, 10-th1.t. Congr., Hamburg, 1982, Frankfurt/M., 1982, v.1, p.699−700.
- Murata K., Cvikewichs., Kuptsis J.D. A Monte Carlo similation approach to thin film electron microprobe analysis based on the use of Mott Scattering cross-sections. «J.phys."(Fr.),-w1984, v.45, IT 2, p.13−16.
- Castaing R. Electron probe microanalysis. In: Advances in Electronics and Electron Physics, — N.-Y., L.:Academic Press, 1960, v.13, p.317−386.
- Кастен P., Энок Ж. Распределение по глубине характеристического рентгеновского излучения: В кн.: /2/, с.85−91.
- Vignes A., Dez G. Distribution in depth of primary X-ray emission anticathodes of titanium and lead. Brit. J.Appl. Phys. (J.Phys.D.), 1968, ser.2, v.1, Ж 10, p.1309−1322.
- Brown J.В., Ph D. Thesis, University of Maryland, 1966, U.S.A.
- Brovm J.D., Parobek b. The samsrich technique applied to the atomic number effect. Щ: /51/, p.163−167.
- Brown J.D., Parobek L. X-ray production as a function of depth for low electron energies. X-ray spectrometry, 1976, v.5, IT 1, p.36−40.
- Brown J.D., Parobek L. A comparison of curves measured on instruments of different geometries. In: /37/, p.5A-5C.
- Buchner A"R., Pitsch W. A new correction for absorption and for atomic number in quantitative microprobe analysis of metals. Z. Metallkunde, 1971, Bd., 62, h.5, s.392−400.
- Куприянова T.A. Исследование распределения рентгеновского излучения при электроннозондовогл возбуждении. Дисс. канд. физ'^-мат.наук, Москва, 1970, — 145 с.
- Gennai П., Murata К., Shimizu R. The j-(ft) ~ curves for FeKoi and AlKot X-ray in inclined EPMA targets. of Fe, Al and Fe-Al alloys. — Jap. J.Appl. Phys., 1971, v.10, N 4, p. 491−495.
- Everhart Т.Е., Hoff P.H. Determination of kilovolt electron energy dissipation vs penetration distance in solid materials. J.Appl. Phys., 1971, v.42, Ж 13, p.5837−5846.
- Philibert J. Ъ*analyse quantitative en microanalyse par sonde electronique. Metaux Corrosion-Industries, 1964, v.39, H465, p.157−176- H 466, p.217−240- H 469, p.325−339.
- Green M. The target absorption correction in X-ray microanalysis. In: /25/, p.361−378.
- Green M. The angular distribution of characteristic X radiation and its origin within a solid target. Proc. Phys. Soc., 1964, v.83, part.3, Ж 533, p.435−451.
- Heinrich K.F.J. Common Sources of error in electron probe microanalysis. In* /49/, p.40−55.
- Heinrich K.F.J. Electron probe microanalysis by specimen current measurement. In: X-ray Optics and Microanalysis, Cas-taing R., Descamps J., Philibert J., eds., Paris-Hermann, 1966, p.159−167.
- Cosslett V.E., Thomas R.bT. Multiple scattering of 5−30 electrons in evaporated metal films.-Brit. J. Appl. Phys., 1964, v.15, H 8, p.883−907.
- Рыдник В.И., Боровский И. Б. К методике количественного локального рентгеноспектрального анализа. Зав.лаб., 1967, т. 33, В 8, с.955−961.
- Махов А.Ф. О проникновении электронов в твердые тела. Физика твердого тела, I960, т.2, & 9, с.2161−2173.
- Green М., Cosslett V.E. The efficiency of production of characteristic X-radiation in thick targets of a pure element. -Proc.Phys.Soc., 1961, v.78, part 6(1), N 505, p.1206−1214.
- Blanchard C.H., Fano U. A formula for multiple scattered electrons. Phys. Rev., 1951, v.82, U 5, p.767.95» Dekker A.J. Secondary electron emission. Solid State Physics. — U.Y. and L.: Academic Press Inc., 1958, v.6, p.251−311.
- Панкратов A.A. Формула расчета функции. В кн.: Тез. доклада 8ой Всесоюзной Конференции по локальным рентгеноспектральным. исследованиям и их применению, Черноголовка, 1982, книга 1,6.757??.
- Criss J., Birks L"S. Intensity formula1 for computer solution of multicomponent electronprobe speciment. In: /26/, part II, p.217−237.
- Браун Д. Методы расчета возбуждения рентгеновского излучения электронами.'- В кн.: /2/, с.69−84.
- Brown D.B., Ogilvie R.E. An electron transport model for the prediction of X-ray production and electron microanalysis. -J.Appl. Phys., 1966, v.37, IT 12, p.4429−4433.
- Brown D.B., Wittry D.B., Kyser D.F. Prediction of X-ray production and electron scattering in electronprobe analysis using a transport equation. J.Appl. Phys. 1969, v.40, IT 4, p.1627−1636.
- Bishop H.E. Calculations of electron penetration and X-ray production a solid target.-In: 89, p.112−119.
- Bishop H.E. A Monte Carlo calculation on the scattering of electrons in copper. Proc.Phys.Soc., 1965, v.85, part 5, N 547, p.855−866.
- Shinoda G., Murata K., Shimizu R. Scattering of electron in metallic targets. Quantitative Electron Probe Microanalysis, Heinrich K.P.J., eds., NBS Spec. Publ., 1968, N 298, p.154−157.
- Nishigory N., Shimizu R., Murata K. Application of Monte Carlo calculation to quantitative microanalysis of alloy systems. J.Appl.Phys., 1972, v.43, N 9, p.3889−3890.
- Matsukawa T., Murata K., Shimizu R. Investigation of electron penetration and X-ray production in solid targets. -Phys.Stat.Solidi, 1973, B.55, N 1, p.371−383.
- Shimizu R., Ikuta T., Nishigori N., Murata K. Calculation of X-ray production in alloy targets by new approach using Monte Carlo method. ?Jap.J.Appl. Phys., 1970, v.9, N 11, p.1429−1430.
- Соломонова Л.А., Афонин Б. П. Расчет результатов рентгено-спектрального микроанализа методом Монте-Карло. В кн.: Тез. доклада 7-ой Всес.конф. по локальным рентгеноспект-ральным исследованиям и их применению, Черноголовка, 1979, с.60−61.
- Соломонова Л.А., Афонин В. П. Способ расчета функций в образцах сложного химического состава. в Кн.: /III/, с, 59−60.
- ИЗ. Афонин В. П., Лебедь В. И., Парадина Л. Ф. Развитие численных методов моделирования процессов взаимодействия электронного зонда с исследуемым вещзством. 'В кн.: /96/, с. 5−6.
- Лебедь В.И., Афонин В. П. Исследование методом Монте-Карло поведения электронного пучка в многослойных средах и расчет интенсивности первичного рентгеновского излучения. -В кн.: /96/, с.63−64.
- Худсон Д. Статистика для физиков. М., Мир, 1970, 266 с.
- Крылов В.И., Скобля Н. С. Справочная книга по численному обращению преобразования Лапласа. Минск: Наука и техника, 1968, 295 с.
- KiieenKCtmpf Н., Spu/ra w. EnergievtriziZun§ mcKdiffiuiciier-ier EteKironen. Z. Phys., 4954, ?d. Ш, hA, S. 446−425.
- Корн Г., Корн Т. Справочник по математике. /Пер. с англ. под ред. Арамановича И. Г. М.: Наука, 1984, 831 с.
- Хованский Г. С. Основы номографии. -М.: Наука, 1976, 352 с.
- Основные результаты диссертации опубликованы в следующихработах:
- Бернер А.И., Костылева О. П., Тарасов В. К., Фатюшина Е. В. Диагностические возможности контроля неоднородности состава поверхностных слоев методами ионного и рентгеноспектрального микроанализа. Электронная промышленность, 1984, № 2,с. 13−17.
- Гимельфарб Ф.А., Бернер А. И., Костылева О. П., Тарасов В. К., Сиделева О. П. Способ послойного контроля распределений элементов. АС СССР № 1 130 783, опубл. бей 1 47, 1984.1. Н54
- Бернер А.И., Костылева О. П., Тарасов В, К. Исследование распределения характеристического рентгеновского излучения по глубине образцов при электронном возбуждении. Изв. АН СССР, сер. физическая, 1984, т.48, J* 12, с.2345−2349.