Разработка научных и технологических принципов формирования адгезионных подслоев на твердосплавном инструменте для осаждения алмазных покрытий
Диссертация
Приоритетной задачей современного машиностроения является разработка ресурсосберегающих и экологически чистых технологий механической обработки материалов. Высокоскоростное резание без применения смазочно-охлаждающих жидкостей (СОЖ), в т.н. «сухих» условиях или с их минимальным количеством, позволяет избежать возникновениявредных аэрозолей, обычно образующихся при обработке, а также снизить… Читать ещё >
Список литературы
- Новиков С. А. Искусственные алмазы, образующиеся при детонации взрывчатых веществ // Соросовский образовательный журнал. 1999. вып. 2. С.104−109
- Гусев А.И. Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. М.: Физматлит, 2007. 416 с.
- Долматов В.Ю. Детонационные наноалмазы: синтез, строение, свойства и применение // Успехи химии. 2007. том 76. № 4. С.375−397
- Вуль А .Я., Соколов В. И. Исследования наноуглерода в России: от фуллеренов к нанотрубкам и наноалмазам // Российские нанотехнологии. 2007. том 3. № 3−4. С.8−22
- Попов В.А., Кобелев А. Г., Чернышев В. Н. Нанопорошки в производстве композитов. М.: Интермет Инжиниринг, 2007. 336 с.
- Структура алмазного нанокластера / А. Е. Алексенский, М. В: Байдакова, А. Я. Вуль, В. И. Сиклицкий // Физика твердого тела. 1999. том 41. № 4. С.740−743
- Angus J.C. A Short History of Diamond Synthesis // Diamond- Films Handbook / J. Asmussen, D.K. Reinhard. New York: Marcel Dekker, 2001. C. 17−26
- Патент 3 661 526 US, МКИ C30B25/02- C30B25/02. Process for the catalytic growth of metastable crystals from the vapor phase / J.C. Angus, N.C. Gardner 9 May, 1972
- A.c. № 339 134 СССР. Способ наращивания граней алмаза / Б. В. Спицын, Б. В. Дерягин. № 3 867 534/23−02. Заявл. 10.07.1956. Опубл. БИ. 1980. № 17. С.323
- Синтез кристаллов алмаза на неалмазных подложках / Б. В. Дерягин, Л. Л. Буйлов, Б. В. Спицын и др. // Докл. АН СССР. 1976. том 231. № 2. С.333−344
- Spitsyn B.V., Bouilov L.L., Derjaguin B.V. Vapor growth of diamond on diamond and other surfaces // Journal of Crystal Growth. 1981. vol. 52. part 1. P.219−226
- Davis R.F. Diamond films and coatings. Development, properties andapplication. New Jersey: Noyes Publications, 1993. 437 p.
- Рост поликристаллического алмаза в плазме СВЧ-факела / К. Ф. Сергейчев, Н. А. Лукина, А. П. Большаков и др. // Прикладная физика. 2009. № 6. С.107−113
- Moustakas T.D. Growth of diamond by CVD methods and effects of process parameters // Synthetic diamond: Emerging CVD science and. technology / K.E. Spear, J.P. Dismukes. New York: John Wiley and Sons, 1994. P.145−192.
- Получение алмазных пленок на кристаллическом кремнии методом термического газофазного осаждения / М. В. Байдакова, А. Ж Вуль, В. Г. Голубев и др. // Физика- и техника полупроводников. 2002. т. 36, № 6. G.651−657
- Hydrogen assisted heat transfer during diamond growth using carbon and tantalum filaments / W.A. Yarbrough, K. Tankala, M. Mecray, T. DebRoy // Applied Physics Letters. 1992. vol. 60. № 17. P.2068−2070.
- Chen C.-F., Hong T.-M., Wang T.-C. Homogeneous and large-area diamond film formed using multi-filament chemical vapor deposition // Scripta Metallurgica et Materialia. 1994. vol. 31. № 4. P:413−418
- Large area diamond1 films growth in multi-filament chemical vapor deposition- / J. Yu, R. Huang, L. Wen, G. Shi // Materials Science and Engineering B. 1999. vol. 57. P.255−258
- Okoli S., Haubner R., Lux B. Carburization of tungsten and tantalum filaments during low-pressure diamond deposition // Surface and Coatings Technology. 1991. vol. 47. № 1−3. P.585−599
- May P. W. Diamond thin films: a 21st century material // Philosophical Transactions of Royal Society A. 2000. vol. 358. P.473−495
- Грудинкин C.A. Термическое газофазное осаждение алмазных плёнок с использованием нанокластеров ультрадисперсного алмаза в качестве центров зародышеобразования: Дис.. канд. ф.-м. наук/ С-Пб, 2002.147 с.
- Liu Н., Dandy D.S. Studies on nucleation process in diamond CVD: an overview of recent developments // Diamond and Related Materials. 1995. vol. 4. № 10. P. l 173−1188
- Федосеев Д.В., Варнин В. П., Дерягин Б. В. Синтез алмаза в области его термодинамической метастабильности // Успехи химии. 1984. том 53. № 5: С.753−771
- Matsumoto S., Matsui Y. Electron microscopic observation of diamond particles grown from the vapour phase // Journal of Materials Science. 1983. vol. 18. № 6. P.1785−1973
- Mitura S. Nucleation of diamond powder particles in an RF methane plasma//Journal of Crystal Growth. 1987. vol. 80^ № 2. P.417−424
- Homogeneous nucleation" of diamond powder in the- gas phase / M. Frenklach, R. Kematick, D. Huang et al. // Journal of Applied Physics. 1989. vol. 66. № 1. P.395−399
- Buerki P.R., Leutwyler S. Homogeneous nucleation of diamond powder by CO2 laser-driven gas-phase reactions // Journal of Applied Physics. 1991. vol. 69. № 6. P.3739−3744*
- Stoneham A.M., Ford I.J., Chalker P.R. Diamond Films: Recent developments in theory and practice // MRS Bulletin. 1998. vol. 23. № 9. P.28−31
- Growth of CVD heteroepitaxial diamond on silicon (001) and its. electronic properties / X.C. He, H.S. Shen, Z.M. Zhang et al. // Diamond and Related Materials. 2000. vol. 9. № 9−10. P.1626−1631
- Singh J. Nucleation/ and growth mechanism of diamond during hot-filament chemical vapour deposition // Journal of materials science. 1994. vol. 29. № 10. P.2761−2766
- Badzian A.R. Superhard material comparable in hardness to diamond // Applied Physics Letters. 1988. vol. 53. № 25. P.2495−2497
- Joffreau P.O., Haubner R., Lux B. Low-pressure diamond growth on different refracteric metals // International Journal of Refractory Metals and Hard Materials. 1988. vol. 7. №. 4. P.186−194
- Haubner R., Lindlbauer A., Lux B. Diamond deposition on chromium, cobalt and nickel substrates by microwave plasma chemical vapour deposition // Diamond and Related Materials. 1993. vol. 2. № 12. P.1505−1515
- Lux B., Haubner R. Nucleation and Growth of Low-Pressure Diamond // Diamond and diamond-like films and coatings, NATO-ASI, Series B: Physics / Robert E. Clausing. New York: Plenum Press, 1991. P.579−609
- Early stages of plasma synthesis of diamond films / R. Meilunas, M.S. Wong, K.C. Sheng et al. // Applied- Physics Letters. 1989. vol. 54. № 22. P.2204−2206*
- Diamond nucleation by hydrogenation of the edges of graphitic precursors / W.R.L. Lambrecht, C.H. Lee, B. Segall et al. // Nature. 1993. vol. 364. № 6438. P.607−610.
- Growth, characterization, optical and X-ray absorption, studies of nano-crystalline diamond films / L.C. Chen, T.Y. Wang, J.R. Yang et al. // Diamond and Related Materials. 2000: vol. 91 № 3−6. P.877−882
- Enhanced nucleation and post-growth investigations on HFCVD diamond films grown on silicon single crystals pretreated with Zr: diamond mixed slurry / A. K. Dua, M. Roy, J. Nuwad, V. C. George // Applied Surface Science. 2004. vol. 229. № 1−4. P.254−262
- Chakk Y., Brener R., Hoffman A. Enhancement of diamond nucleation by ultrasonic substrate abrasion with a mixture of metal and diamond particles // Applied Physics Letters. 1995. vol. 66. № 21. P.2819−2821
- Buijnsters J. G., Vazquez L., Meulen J. J. Substrate pre-treatment by ultrasonication with diamond powder mixtures for nucleation enhancement in diamond film growth // Diamond and Related Materials. 2009. vol. 18. № 10. P.1239−1246.
- Optical monitoring of nucleation and growth of diamond films / A. A. Smolin, V.G. Ralchenko, S.M. Pimenov et al. // Applied Physics Letters. 1993. vol. 62. № 26. P.3449−3451
- Исследование агрегации кластеров ультрадисперсного алмаза методом атомно-силовой микроскопии / А. Е. Алексенский, В. Ю. Осипов, А. Т. Дидейкин и др. // Письма в ЖТФ. 2000. том 26. № 18. С.28−35
- Прямое наблюдение изолированных кластеров ультрадисперсного алмаза' методом атомно-силовой микроскопии / А .Я. Вуль, А. Т. Дидейкин, З. Г. Царева и др. // Письма в ЖТФ. 2006. том 32. № 13. С.12−18
- Unusually tight aggregation in detonation nanodiamond: Identification and disintegration / A. Kruger, F. Kataoka, M. Ozawa et al.// Carbon. 2005. vol. 43. № 8. P. 1722−1730
- Термическая -6чистка. детонационного 'алмаза- / А. В: Тюрнина, И. Л. Аполлонская, И. И. Кулакова и др. // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования- 2010: № 5. С.106−112
- Shenderova О., Hens S., McGuire G. Seeding slurries- based: om detonation nanodiamond in DMSO // Diamond: and Related Materials. 2010. vol. 19. № 2−3. P.260−26 756. Enhanced diamond nucleation on monodispersed nanocrystalline diamond /
- O.A. Williams, O. Douheret, M. Daenen. et al. // Chemical’Physicsi Letters. 2007: vol- .445: № 4−6: P:255−258K
- Preparation and behavior of brownish, clear nanodiamond colloids / M! Ozawa-.Mi Inaguma-.M:"Takahashi- et: al. // Advanced Materials. 2007. vol. 19. P.1201−1206
- Лякишев H .П. Диаграммы состояния двойных металлических систем. Справочник в 3 томах т.1. М.: Машиностроение, 1996. 992 с.
- Polini R., Barletta M. От the use of CrN/Cr and CrN interlayers in hot-. filament- chemical! vapour depositiom (HE-CV (c)) — of diamondi filmsi onto?
- WC-Co substrates // Diamond, andl Relateds Materials. 2008. vol. 17. № 9: P.325−335
- Haubner* R., Kalss W. Diamond deposition on- hardmetal substrates. -Comparison of substrate pre-treatments and industrial applications // International Journal of Refractory Metals and? Hard- Materials: 2010: vol. 28. № 4. P.475−483
- Murakami and II2SO4/H2O2 pretreatment of WC-Co hard metal substrates to. increase the adhesion of CVD diamond coatings / R. Haubner, S. Kubelka,
- B. Lux et al. //Proceedings ofthe Tenth European Conference on Chemical Vapour Deposition. Journal dc physique IV.1995. vol: 5: № C5. P. C5−753-C5−760
- Adhesion strength of diamond films on cemented carbide substrates / K. Shibukia, M. Yagia, K. Saijoa, S. Takatsu // Surface and Coatings Technology. 1988. vol. 36. № 1−2. P.295−302
- Uliram S., Haubner R. Temperature pre-treatments of hardmetal substrates to reduce the cobalt content and improve diamond deposition // Diamond and Related Materials. 2006. vol. 15. № 4−8. P.994−999
- Diamond deposition on hardmetalsubstrates after pre-treatment with aluminium or aluminium-compounds / A. Kopf, M. Sommer, R. Haubner,
- B. Lux // Diamond and Related Materials. 2001. vol. 10. № 3−7. P.790−796
- Николенко C.B., Верхотуров А. Д. Новые электродные материалы для электроискрового легирования. Владивосток: «Дальнаука», 2005, 219 с.
- Верхотуров А.Д. Обобщенная модель электроискрового легирования // Электрофизические и электрохимические методы обработки. 1983. № 1.1. C.3−6
- Золотых Б.Н. Основные вопросы^ теории электроискровой эрозии в импульсном разряде в жидкой диэлектрической среде. Автореферат дис. .д-ратехн. наук/М- 1968. 52 с.
- Взрывная эмиссия электронов / С. П. Бугаев, Е. А. Литвинов, Г. А. Месяц, Д. И. Проскуровский // Успехи физических наук. 1975. том- 115. № 1. С.101−120
- Намитоков К.К. Электроэрозионные явления. М.: Энергия, 1978^ 456 с.
- Особенности взаимодействия частиц порошка с разрядом при электроискровом легировании / Б. Р. Лазаренко, Н. Я. Парканский,
- А.Е. Гитлевич, В. М. Ревуцкий // Электронная обработка материалов. 1979. № 1.С.29−31
- Золотых Б.Н. О некоторых закономерностях электрической эрозии металлов. Автореф- дис.канд. техн. наук/М, 1947. 20 с.
- Зингерман A.C. Роль тепла Джоуля-Ленца в электрической- эрозии металлов // Журнал технической физики. 1955- том 25.. № 11. С. 1931−1943″.
- Лебедев С.В. О механизме: обработки- материалов электроискровым способом // Известия* АН Армянской ССР- серия физ.-мат., естественные и технические науки. 1950. томЗ.№ 1. С.33−49.
- Верхотуров А.Д., Муха И.М: Технология- электроискрового легирования. Киев: Техника,. 1982. 182 с.
- Трефилов В.И., Мильман Ю. В., Фирстов С. А. Физические: основы прочности тугоплавких металлов. Киев: Наук. Думка, 1975. 316 с.
- Игнатенко Э.П., Верхотуров А. Д., Маркман М. З. Формирование поверхностного слоя при электроискровом легированиислегкоплавкими металлами // Электронная обработка материалов: 1979. № 3. С.18−20:
- Электродные материалы для электроискрового легирования- / А. Д. Верхотуров, И. А. Подчерняева, Л. Ф. Прядко, Ф. Ф. Егоров. М: Наука. 1988: 224 с.
- Электроискровое легирование металлических поверхностей/ Г. В. Самсонов, А. Д. Верхотуров, Г. А. Бовкун, B.C. Сычев. Киев: Наукова думка, 1976. 219 с
- Верхотуров А.Д., Курдюмова Г. Г., Подчерняева И. А. Электронно-микроскопическое исследование поверхности карбидов после электроискрового легирования стали У8 // Электронная обработка материалов: 1983. № 3. С.26−30
- Верхотуров А.Д. Формирование поверхностного слоя металлов при ЭИЛ. Владивосток: Дальнаука, 1995. 320 с
- Влияние электроискрового легирования на повышение жаростойкости вольфрамсодержащих твёрдых сплавов- / А. Д*. Верхотуров, A.M. Шпилёв, П. С. Гордиенко и, др. // Порошковая^ металлургия. 2008. № 1,2. С. 145−150'.
- Астапов И. А., Верхотуров А. Д. Моделирование процесса модифицирования поверхности твердых сплавов методом ЭИЛ // Информатика и системы управления. 2007. № 2. С.20−30
- Верхотуров- А.Д., Астапов А. И., Ванина* Е. А. Формирование поверхностного слоя при электроискровом легировании твердых сплавов металлокерамикой на основе TiC // Физика и химия обработки материалов. 2009. № 1. С.65−69
- Влияние электроискрового легирования вольфрамового твердого"сплава на его стойкость к износу и коррозии / И. А. Подчерняева, А. Д. Панасюк, В. А. Лавренко и др. // Порошковая металлургия. 1999. № 5/6. С.42−47
- Электроискровое легирование конструкционных сплавов композиционным материалом- на основе TiCN-AIN / И. А. Подчерняева, А. Д. Панасюк, В. А Лавренко и др. // Порошковая металлургия- 2000. № 5/6. С.21−29' -
- Влияние комбинаци газофазного, осаждения- с электроискровым легированием- на износостойкость твердого сплава ВК8 / О. В. Степанова, И. А. Подчерняева, ИіИ. Тимофеева и др: // Порошковая^ металлургия. 2006. № 7/8. С.49−55 — >
- Влияние электроискрового легирования на износостойкость режущих пластин из сплава ВК8- / О-В. Степанова- И-А. Подчерняева, А. Д. Панасюк и др: // Порошковая металлургия:. 2007. № 11/12. С.29−34
- Харламов Е: И:.Разработка метода термореакционного электроискрового упрочнения.Дис.. канд.техн.наук/М, 2001. 164 с.
- Петржик М: И., Левашов Е. А. Современные методы. изучения функциональных поверхностей перспективных, материалов в условиях механического контакта // Кристаллография. 2007. том- 52. № 6. С.1002−1010
- Prawer S., Nemanich R. Raman spectroscopy of diamond and doped diamond // Philosophical Transactions of the Royal Society A. 2004. vol., 362: .№>1824, P:2537−2565''
- Eogothetidis S: Hydrogen-free amorphous carbon films approaching diamond prepared by magnetron sputtering //Applied Physics betters. 1996. vol. 69. № 2. P.158−160
- Influence:of Cr-N interlayer properties on the initial stages of CVD diamond growth on steel substrates / O. Glozman, A. Berner, D. Shechtman, A. Hoffman I I Diamond and Related Materials. 1998. vol. 7. № 2−5.1. Р.597−602
- A comparative study of CrN, ZrN, NbN and TaN layers as cobalt diffusion barriers for CVD diamond deposition on WC-Co tools / J.P. Manaud, A. Poulon, S. Gomez, Y. Le Petitcorps // Surface and Coatings Technology. 2007. vol. 202. № 2. P.222−231
- Hot filament chemical vapour deposition and wear resistance of diamond films on WC-Co substrates coated using PVD-arc deposition' technique / R. Polini, F. Mantini, M. Barletta et al. // Diamond and Related Materials. 2006. vol. 15. № 9. P.1284−1291
- Константы взаимодействия металлов с газами. Справ, изд. / Я. Д. Коган, Б. А. Колачев, Ю. В. Левинский и др. М.: Металлургия, 1987. З68'с.
- Munz W.-D. Titanium aluminium nitride films: a new alternative to TiN coatings // Journal of Vacuum Science and Technology A. 1986. vol. 4. № 6. P.2717−2725
- Mechanical behavior of TiN/CrN nano-multilayer thin film deposited by unbalanced magnetron sputter process / P: Sun,.G. Su, T. Liou et al. // Journal of Alloys and Compounds, vol. 509. № 6i P.3197−3201
- Xiao X., Lev L.C., Lukitsch MJ:' Material transfer during' machining of aluminum* alloys with polycrystalline diamond1 cutting tools // Journal, of Materials Processing Technology, vol. 209. № 17. P!5760−5765
- Кипарисов С.С., Либенсон Г. А. Порошковая' металлургия, 2 изд. М.: Металлургия, 1980. 496 с.