Численное моделирование формирования изображения в проекционной фотолитографии
Диссертация
В четвертой главе диссертационной работы рассмотрен подход к созданию фазово-растровых масок (ФРМ) для оптической литографии, и основанный на дискретизации изображения и разложении отсчетов на три фазовые составляющие, заданных на специальном растре. Показано, что для ФРМ выполняется свойство локальности — отсчет функции пропускания в данной точке маски определяется положением ближайшего… Читать ещё >
Список литературы
- Ronen R., Mendelson A., Lai K., Lu S.-L., Pollack F., Shen J. P. Coming challenges in microarchitecture and architecture. // Proc. 1.EE. 2001. V. 89. No.3. P. 325−340.
- Моро У. Микролитография: принципы, методы, материалы: в 2-х ч. М.: Мир. 1990. 1239 С.
- Doering R., Nishi Y. Limits of integrated-circuit manufacturing. // Proc. IEEE. 2001. V. 89. No.3. P. 375−393.
- Rai-Choudhuri P., Handbook of microlithography, micromachining, and microfabrication. // V. 1: Microlithography. SPIE Optical Engineering Press. Bellingham. 1997. 754 P.
- Thompson L.F., Willson C.G., Bowden M.J. Introduction to microlithography. Washington. 1994. 527 P.
- Matsuoka G., Tawa T. Application of electron-beam direct-writing technology to system-LSI manufacturing. // Hitachi review. 2003. V. 52. No.3. P. 157−160.
- Электроника. Энц. слов. Под ред. Колесникова В. Г. М.: Сов. Энциклопедия. 1991. 688 С.
- Домненко В. М. Математическое моделирование формирования фотолитографического изображения. // Канд. Диссертация, Санкт-Петербург. 1999. 130 С.
- Ю.Проектирование оптических систем. Под редакцией Р. Шеннона, Дж. Вайанта. М. Мир. 1983. С. 178−320.
- П.Виноградова О. А., Зверев В. А., Кривопустова Е. В., Тимощук И. Н. // Труды VII Международной конференции «Прикладная оптика-2006», Санкт-Петербург. 2006. Т. 1. С. 264−269.
- Никитин А. В. Разрешение оптических систем и проблема воспроизведения минимальных элементов изображения. // Прикладная физика. 1997. Т. 4. С. 32−40.
- Cole D.C., Barouch Е., Hollerbach U., Orszag S.A. Derivation and simulation of higher numerical aperture scalar aerial images. // J. Appl. Phys. 1992. V.31. No. l2B. P. 4110−4119.
- Eib N.K., Croffie E. Strong phase shifting optical maskless lithography for the 65 nm node and beyond // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2005. V. 5754(1). P. 465−475.
- Greiner С. M., Mossberc T. W., Iazikov D. DUV nanolithography enables advanced diffraction-grating arrays. // Laser focus world. 2007. P. 113−116.
- Levenson M. Improving resolution in photolithography with a phase-shifting mask. // IEEE transactions on electron devices. 1982. V. ED-29, No. 12. P. 1828−1836.
- McCarthy Daniel C. Phase-shift techniques rewrite the semiconductor road map. //Photonics. 2001.V.35. P. 76−81.
- Aleshin S.V., Belokopitov G.V., Scepanovic R. Mask having an arbitrary complex transmission function. // US Patent No.: 6,197,456 Bl. CI. 430/5. Mar.6. 2001.
- Белокопытов Г. В., Короткова Ю. В. // Труды VII Международной конференции «Прикладная оптика-2006». Санкт-Петербург. 2006. Т. 3. С. 29−33.
- Белокопытов Г. В., Короткова Ю. В. // Труды X Всероссийской школы-семинара «Волновые явления в неоднородных средах». Звенигород. 2006. ч. 3. С. 5−7.
- Белокопытов Г. В., Короткова Ю. В. Фазово-растровые маски и их синтез. // Вестник Моск. Ун-та. Серия 3. Физика, астрон. 2007. № 3. С. 44.
- Котлецов Б. Н. Микроизображения: Оптические методы получения и контроля. Д.: Машиностроение. 1985. 240 С.
- Gutmann R. J. Advanced silicon 1С interconnect technology and design: present trends and RF wireless implications. // IEEE transactions on microwave theory and techniques. 1999. V. 47. No6. P 667−674.
- Валиев K.A., Раков A.B. Физические основы субмикронной литографии в микроэлектронике. М.: Радио и связь. 1984. 350 С.
- Пресс Ф. П. Фотолитографические методы в технологии полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. М.: Сов. Радио. 1978. 96 С.
- Фотолитография и оптика. Под ред. Поля Г. и Федотова Я. А. М.: Сов. Радио. 1974. 389 С.
- Домненко В. М., Базовый алгоритм для быстрого моделирования микроизображений при частично-когерентном освещении. // Опт. журнал. 1998. Т.65. В.1. С. 58−63.
- Борн М., Вольф Э. Основы оптики. М.: Наука. 1970. 856 С.
- Гудмен Дж. Статистическая оптика. М.: Мир. 1988. 528 С.
- Маск С. A. Reducing proximity effects in optical lithography. // J. Appl. Phys. 1996. V. 35 (1). No. l2B. P. 6379−6385.
- Chen J. F., Laidig Т., Wampler К. E., Caldwell R. Practical method for full-chip optical proximity correction. // SPIE. 1997. V. 3051. P. 790−803.
- Harriott L. R. Limits of lithography // Proc. IEEE. 2001. V. 89. No.3. P. 366 374.
- Watanabe H., Higashikava I. Mask cost and specification // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2003. V. 5256. P. 423−430.
- Website ASM Lithography, http:// www.asml.com
- Sandstrom Т., Bleeker A., Hintersteiner J.D., Troost K., Freyer J., Van Der Mast K. OML: Optical Maskless Lithography for economic design prototyping and small-volume production. // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2004. V. 5377(2). P. 777−787.
- Бельский А. Б., Ган M. А., Миронов И. A., // Труды VTI Международной конференции «Прикладная оптика-2006». Санкт-Петербург. 2006. Т. 3. С. 9−17.
- Dauderstadt U., Diiir P., Karlin Т., Schenk H., Lakner H. Application of Spatial Light Modulators for Microlithography // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2004. V. 5348. P. 119−126.
- Esser H. G. Excimer laser speed microlithography mask writing // Europhotonics. 2006. V. 11. No.5. P.24−26.
- Ljungblad U., Askebjer P., Karlin Т., Sandstrom Т., Sjoberg H. A high-end mask writer using a spatial light modulator // Progress in Biomedical Optics and Imaging-Proc. SPIE. 2005. V. 5721. P. 43−52.
- Sandstrom Т., Ljungblad U. Phase-shifting optical maskless lithography enabling ASICs at the 65 and 45 nm nodes. // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2004. V. 5567 (1). P. 529−544.
- Sandstrom Т., Eriksson N. Resolution extensions in the Sigma 7000 imaging pattern generator// Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2002. V. 4889. P. 157−167.
- Ljungblad U., Durr P., Sandstrom T. A method and apparatus for spatial light modulator // International Patent. 2002. WO 02/71 127 Al.
- Martinsson H. j Sandstrom Т., Bleeker A., Hintersteiner J. D. Current status of optical maskless lithography. // Jour, of Microlithography, Microfabrication and Microsystems. 2005. V. 4(1). P. 1−15.
- Pease R.F. Maskless Lithography. II Microelectronic Engineering. 2005. 78−79 (1−4). P. 381−392.
- Mounier E., De Charentenay Y., Eloy J.-C. New applications for MOEMS. // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2006. V. 6114, art. no. 611 405.
- Chan К. F., Feng Z., Yang R., Mei W. High resolution maskless lithography by the integration of microoptics and point array technique // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2003. V. 4985. P. 37−43.
- Liu C., Guo X., Gao F., Luo В., Duan X., Du J., Qiu C. Imaging simulation of maskless lithography using a DMD™. // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2005. V. 5645. P. 307−314.
- Menon R., Gil D., Carter D.J.D., Patel A., Smith H.I. Zone-Plate Array Lithography (ZPAL): A maskless fast-turn-around system for microoptic device fabrication. // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2003. V. 4984. P. 10−17.
- Menon R., Patel A., Smith H.I. Maskless optical lithography using MEMs-based spatial-light modulators. // Progress in Biomedical Optics and Imagin -Proc. SPIE. 2005.V. 5721. P. 53−63.
- Yoshimoto Т., Miyaki I., Yaze H., Maruka Y., Ri N., Teramoto Т., Morohoshi K., Koyagi Y. Micro-stereo-lithography system. // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2006. V. 6151 (2), art. no. 615 131.
- Qinjun Peng, Yongkang Guo, Shijie Liu. Real-time gray-scale photolithography for fabrication of continuous microstructure. // Optics letters, 2002. V. 27. No. 19. P. 1720−1721.
- Bakke Т., Volker В., Rudloff D., Friedrichs M., Schenk H., Lakner H. Large scale, drift free monocrystalline silicon micromirror arrays made by wafer bonding // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2006. V. 6114, art. no. 611 402.
- Su Guo-Dung J., Toshiyoshi H., Wu Ming C. Surface-micromachined 2-D optical scanners with hign-performance single-crystalline silicon micromirrors. // IEEE photonics technology letters. 2001. V. 13. No.6. P. 606−608.
- Ryf R., Stuart H.R., Giles C.R. MEMS tip/tilt & piston mirror arrays as diffractive optical elements. // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2005. V. 5894, art. no. 58940C. P. 1−11.
- Shroff Y., Chen Y., Oldham W.G. Optical analysis of mirror based pattern generation. //Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2003. V. 5037 (I). P. 550−559.
- Shroff Y.A., Chen Y., Oldham W.G. Image optimization for maskless lithography. // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2004. V. 5374 (2). P. 637−647.
- Stone E.M., Hintersteiner J.D., Cebuhar W.A., Albright R., Eib N.K., Latypov A., Baba-Ali N., (.), Croffie E.H. Achieving mask-based imaging with optical maskless lithography. // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2006. V. 6151 (2), art. no. 61512E.
- Granik Y. Solving inverse problems of optical microlithography. // Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2005. V. 5754(1). P. 506−526.
- Виноградова M. Б., Руденко О. В., Сухоруков А. П. Теория волн. М.: Наука. 1979. С. 251.
- Гудмен Дж. Введение в Фурье-оптику. М.: Мир. 1970. 364 С.
- Валиев К. А., Кудря В. П., Махвиладзе Т. М. Обратная задача фотолитографии как задача нелинейного программирования. // Микроэлектроника, 1986. Т. 15. В. 6. С. 514−518.
- Karnowski Т., Joy D., Allard L., Clonts L. System considerations for maskless lithography. //Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 2004. V. 5374(2). P. 1080−1091.
- Martinsson H., Sandstrom T. Rasterizing for SLM-based mask-making and maskless lithography. // Proc. of SPIE. 2004. V. 5567. P. 557−564.
- Burkhardt C.B. A simplification of Lee’s method of generating holograms by computer //Appl. Opt. 1970. V.9. P.1949.
- Chavel P, Hugonin J. P. High quality computer holograms: the problem of phase representation. // JOSA. 1976. V. 66. No. 10. P. 989.
- Lee W.H. Sampled Fourier transform hologram generated by computer. // Appl. Opt. 1970.V.9. P. 639.
- Власенко В. А., Лаппа Ю. И., Ярославский Л. П. Методы синтеза быстрых алгоритмов свертки и спектрального анализа сигналов. М.: Наука. 1990. 179 С.
- Парыгин В. Н., Балакший В. И. Оптическая обработка информации. М.: Изд-во Моск. ун-та. 1987. 142 С.
- Старк Г. Применение методов Фурье-оптики. М.: Радио и связь. 1988. 536 С.
- Стюард И. Г. Введение в Фурье-оптику. М.: Мир. 1988. 182 С.
- Белокопытов Г. В., Рыжикова Ю. В. Дифракция Фраунгофера на многоугольнике и расчет изображений бинарных масок. // Вестник Моск. Ун-та. Серия 3. Физика, астрон. 2008 (в печати).
- Анго А. Математика для электро и радиоинженеров. М.: Наука. 1967. С. 146.
- Тихонов А. Н., Самарский А. А. Уравнения математической физики. М.: Изд-во Моск. ун-та. 1999. 798 С.
- Бендат Д., Пирсон А., Измерение и анализ случайных процессов. М.: Мир. 1974. 464 С.
- Калиткин Н. Н. Численные методы. М.: Наука. 1978. 512 С.
- Ярославский Л. П. Введение в цифровую обработку изображений. М.: Сов. Радио. 1979. 312 С.
- Дьяконов В. MATLAB: учебный курс. СПб.: Питер. 2001. 554 С.
- Дьяконов В., Круглов В. Математические пакеты расширения MATLAB. СПб.: Питер. 2001. 480 С.
- Блейхут Р. Быстрые алгоритмы цифровой обработки сигналов. М.: Мир. 1989. С. 128−170.
- Гоноровский И. С. Радиотехнические цепи и сигналы. М.: Дрофа. 2006. 719 С.
- Справочник по специальным функциям под ред. Абрамовича М. и Стиган И. М.: Наука. 1979. С. 688.
- Сороко JI. М. Основы голографии и когерентной оптики. М.: Наука. 1971. 616 С.
- Белокопытов Г. В., Рыжикова Ю. В. // Труды XI Всероссийской школы-семинара «Физика и применение микроволн». Звенигород. 2007. ч. 2. С. 21−23.
- Белокопытов Г. В., Рыжикова Ю. В. Сравнение характеристик изображения в проекционной фотолитографии. // Известия РАН. Серия физическая. 2008. Т. 72. № 1. С. 88.
- Валюс Н. А. Растровые и оптические приборы. М.: Машиностроение. 1966. 207 С.
- Власов Н. Г., Соломахо Г. И. // Сборник трудов научно-практической конференции «Голография в России и за рубежом. Наука и практика». 2007. С. 67−70.
- Ярославский Л. П. Цифровая обработка сигналов в оптике и голографии: Введение в цифровую оптику. М.: Радио и связь. 1987. 296 С.
- Белокопытов Г. В., Короткова Ю. В. // Труды VII Международной конференции «Прикладная оптика-2006». Санкт-Петербург. 2006. Т. 3. С. 29−33.
- Короткова Ю. В. // Тезисы научной конференции «Физика и прогресс» Санкт-Петербург. 2005. С. Е-03.
- Короткова Ю. В. // Сборник работ научной конференции «Физика и прогресс» Санкт-Петербург. 2005. С. 174−177.
- Короткова Ю. В. // Тезисы докладов конференции Ломоносов-2006. Т. 2. С. 8−10.
- Toshiyoshi H., Piyawattanametha W., Chan C., Wu M. C. Linearization of electrostatically actuated surface micromachined 2-D optical scanner. // IEEE Journ. of Microelectromechanical Systems. 2001. V. 10, No.2. P. 205−214.