Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Эффекты ударной ионизации при воздействии ВУФ и рентгеновских фотонов на вещество

ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

После поглощения рентгеновских фотонов атомами в твердом теле образовавшиеся фотоэлектрон, Оже-электрон или фотон флюоресценции взаимодействуют со средой посредством вторичных процессов, разменивая свою энергию на более мелкие порции и создавая большое количество более низкоэнергических возбуждений, которые разбегаются от точки поглощения фотона, занимая некоторый объем твердого тела. Конечным… Читать ещё >

Эффекты ударной ионизации при воздействии ВУФ и рентгеновских фотонов на вещество (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • 1. БОРНОВСКОЕ ПРИБЛИЖЕНИЕ ДЛЯ УДАРНОЙ ИОНИЗАЦИИ ЭЛЕКТРОНОМ И РАЗДЕЛЕНИЕ ПРОЦЕССА НА ДВЕ ЧАСТИ
    • 1. 1. Краткий обзор истории исследования проблемы
    • 1. 2. Вероятность и дифференциальное сечение ионизации
    • 1. 3. Борновское приближение (ВА) и его разные версии
    • 1. 4. Первое борновское приближение (FBA): сечения и обобщенная сила осциллятора
      • 1. 4. 1. FBA и разделение процесса на две части
      • 1. 4. 2. Плотность обобщенной силы осциллятора (GOS) ионизации электронным ударом
      • 1. 4. 3. Связь с оптической силой осциллятора для фотопоглощения
      • 1. 4. 4. Эффективная GOS
    • 1. 5. Выводы по главе
  • 2. УДАРНАЯ ИОНИЗАЦИЯ ЭЛЕКТРОНОМ В ТВЕРДОМ ТЕЛЕ И РАЗДЕЛЕНИЕ ПРОЦЕССА
    • 2. 1. Введение
    • 2. 2. Метод четырех частиц
      • 2. 2. 1. Общие формулы
      • 2. 2. 2. Порог.*
      • 2. 2. 3. Вероятность ионизации
    • 2. 3. Поляризационное приближение и разделение процесса
      • 2. 3. 1. Общие формулы
      • 2. 3. 2. Выражение вероятности после решения ее-матричного элемента
      • 2. 3. 3. Выражение вероятности при е2 = f[hu-Eg-K2q2/2(me+mh)]. в
      • 2. 3. 4. Порог создания e/i-пары и экситона
      • 2. 3. 5. Вероятности создания e/i-пары и экситона
    • 2. 4. Связь диэлектрической функции с GOS
    • 2. 5. Выводы по главе
  • 3. ПЛОТНОСТЬ ОБОБЩЕННОЙ СИЛЫ ОСЦИЛЛЯТОРА ДЛЯ ИОНИЗАЦИИ АТОМА ВОДОРОДА ЭЛЕКТРОННЫМ УДАРОМ — ПОЛУКЛАССИЧЕСКИЙ ПОДХОД
    • 3. 1. Плотность обобщенной силы осциллятора ионизации атома водорода электронным ударом, ее поведение и интерпретация
    • 3. 2. Новое выражение для GOS
    • 3. 3. Воспроизведение плотности GOS в FBA
    • 3. 4. Поправки к FBA
      • 3. 4. 1. Поляризация мишени
      • 3. 4. 2. Эффект PCI
    • 3. 5. Выводы по главе
  • 4. УДАРНОЕ СОЗДАНИЕ ВТОРИЧНЫХ ЭЛЕКТРОННЫХ ВОЗБУЖДЕНИЙ В ДИЭЛЕКТРИКАХ: МОДЕЛЬ ЗОНЫ ИЗ МНОГИХ ПАРАБОЛИЧЕСКИХ ВЕТВЕЙ
    • 4. 1. Введение
    • 4. 2. Модель зоны из многих параболических ветвей (Multiple-Parabolic-Branch Band, МРВВ)
    • 4. 3. Поляризационное приближение
    • 4. 4. Общие выражения в МРВВ модели
      • 4. 4. 1. ее матричный элемент и выражение вероятности
      • 4. 4. 2. Мнимая часть диэлектрической функции и выражение вероятности
    • 4. 5. Порог
    • 4. 6. Вероятность создания вблизи порога
    • 4. 7. Выводы по главе
  • 5. ТЕОРИЯ РЕНТГЕНОВСКОЙ ФОТОАКУСТИЧЕСКОЙ СПЕКТРОСКОПИИ
    • 5. 1. Введение
    • 5. 2. Процессы релаксации, механизмы и эффективность производства теплоты и ее распределение
      • 5. 2. 1. Процессы релаксации
      • 5. 2. 2. Распределение теплоты в образце
      • 5. 2. 3. Поглощенная и вышедшая энергии
    • 5. 3. Генерация РА-сигнала в многослойной системе
      • 5. 3. 1. Система рентгеновкого PAS и теоретическая модель
      • 5. 3. 2. Точные решения
      • 5. 3. 3. Приближение для термина источника
      • 5. 3. 4. Приближение для Р-Т (coupling) в газе
      • 5. 3. 5. РА сигнал, генерированный в заднем газовом слое
    • 5. 4. Обсуждение теоретических результатов в сравнении с эксперементальными
      • 5. 4. 1. Распределение тепла в образце и вклад источника тепла в газ
      • 5. 4. 2. Длина переднего слоя газа
      • 5. 4. 3. Толщина заднего слоя газа
      • 5. 4. 4. Частота
      • 5. 4. 5. PA-EXAFS
    • 5. 5. Выводы по главе

После поглощения рентгеновских фотонов атомами в твердом теле образовавшиеся фотоэлектрон, Оже-электрон или фотон флюоресценции взаимодействуют со средой посредством вторичных процессов, разменивая свою энергию на более мелкие порции и создавая большое количество более низкоэнергических возбуждений, которые разбегаются от точки поглощения фотона, занимая некоторый объем твердого тела. Конечным итогом релаксации электронных возбуждений является повышение температуры электронной системы и решетки в определенной части твердого тела. В конце концов большая часть переданной твердому телу энергии равномерно распределяется по всему объему, приводя к некоторому повышению его температуры. В этом дроблении высоко-энергического возбуждения на другие вторичные возбуждения фундаментальным процессом является создание вторичных электронных возбуждений (Secondary Electronic Excitation, SEE) электронным ударом при взаимодействии высокоэнергического электрона с веществом.

Такое неупругое столкновение электрона с веществом рассматривается в различных областях физики, таких как физика плазмы, физика атмосферы, астрофизика и электронная микроскопия.

Сечения неупругих столкновении электронов с атомами или ионами используются в радиофизике, физике плазмы, атмосферы и астрофизике. о

В физике поверхности средняя длина свободного пробега электрона относительно неупругого рассеяния играет важную роль при исследовании методами Оже-спектроскопии, спектроскопии потери энергии электрона (Electron Energy Loss Spectroscopy, EELS) и фотоэлектронной спектроскопии. Эта средняя длина свободного пробега определяется столкновениями электрона с фононами и созданием SEE электронным ударом.

В физике полупроводников ударная ионизация является ключевым процессом при исследовании переноса носителей в сильных полях.

Квантовый выход сцинтилляторов непосредственно связан с эффектом образования экситонов и электронно-дырочных пар электронным ударом.

Соответствующие исследования проведены в многих областях как теоретическими методами, так и экспериментальными [1].

Ударная ионизация объекта, А электроном е может рассматриваться как реакция е + А —> + 2е, где налетающий электрон сталкивается с объектом, А ив результате которой появляется ионизованный объект и два в принципе неразличимых электрона.

В твердом теле существует связанное состояние — экситон, состоящий из выбитого электрона и соответствующей дырок. Поэтому для более широкого описания процессов в твердом теле используется понятие ударного образования SEE, а не только электронно-дырочной пары.

Для атомов и ионов, налетающий электрон выбивает один электрон и рассеивается объектом. В конечном состоянии имеется один рассеянный и один выбитый электрон. (Хотя эти два электрона неразличимы, термины 'рассеянный' и 'выбитый' используются соответственно для быстрого и медленного электрона).

В твердом теле налетающий электрон выбивает один электрон из валентной зоны, и в конечном итоге образуется дополнительно одна о электронно-дыр очная пара или один экситон.

Вообще говоря, процесс ударной ионизации включает в себя много частиц (по крайне мере три частицы при ударной ионизации атома водорода), и поэтому эта задача может иметь только приближенное решение.

Если гамильтониан взаимодействия V меньше, чем гамильтониан всей системы из налетающего электрона и мишени Н, т. е. налетающий электрон является быстрым, матричный элемент Т (амплитуда рассеяния) может быть разложен в борновский ряд теории возмущений. [22]. Первый член этого разложения матричного элемента куло-новского взаимодействия между начальным и конечным состоянием системы из налетающего электрона и мишени называется первым борновским приближением. Соответствующее ему выражение для скорости перехода называется «золотым правилом Ферми» .

Это приближение широко используется для описания проблем ударной ионизации. В этой диссертации мы ограничимся рамками борновского приближения.

В этих рамках исследование представляет собой проблему описания состояния электронов. Существуют различные версии борновского приближения (ВА), которые отличаются друг от друга разными приближениями в описании состояний электронов в матричном элементе Т.

Процесс ионизации может быть рассмотрен в двух аспектах: первый касается того, что происходит с налетающим электроном, т. е. проблемы рассеяния, второй — того, что происходит с мишенью, т. е. проблемы возбуждения (ионизации). В результате этого процесса налетающий электрон отдает свою кинетическую энергию мишени, а в мишени возникают различные возбуждения, в которых проявляются свойства мишени.

На самом деле, в рамках ВА, которое справедливо, когда кинетическая энергия налетающего электрона намного выше, чем энергия ионизации, выражение для#сечения состоит из двух отдельных множителей, один из которых касается только налетающей частицы, а другой — только мишени.

Для ударной ионизации атома электроном в рамках первого борцовского приближения (FBA) налетающий и рассеянный электроны описываются плоскими волнами, т. е. они рассматриваются как свободные электроны. Налетающий электрон в процессе столкновения просто теряет определенные энергию и импульс в области столкновения. Основная информация, получаемая из изучения процесса ионизации, связана с механизмом перехода атомного электрона. Ключевая величина для описания этого механизма — это обобщенная сила осциллятора (Generalized Oscillator Strength, GOS).

Для создания вторичного электронного возбуждения (ЕЕ) электронным ударом в твердом теле ситуация более сложная, чем для ионизации атома. Состояние электронов в твердом теле описывается блоховскими волновыми функциями и соответствующими энергетическими зонами. Кроме простейшей модели, в которой все электроны рассматриваются как свободные, при более реальном описании процесса возникают сложности в описании состояния электронов и трудности вычисления. При описании изменения состояния начального электрона используются такие величины, как средняя длина о свободного пробега, длина затухания или тормозная способность вещества Возбуждение же твердого тела первичным электроном и отклик системы на поле этого электрона описывается диэлектрической функцией или функцией потерь энергии электрона.

GOS и диэлектрическая функция непосредственно связаны друг с другом, поэтому выражения для ударной ионизации атомов и ионизации в твердом теле могут быть записаны в общем виде в рамках FBA [2−4]. В связи с этим результаты, полученные для атома, могут быть полезны при исследовании твердого тела, на пример, длина затухания электрона в твердом теле может быть хорошо определена из GOS атомов, составляющих твердое тело. Поэтому рассмотрение в диссертации процессов ударной ионизации как для атома, так и для твердого тела представляется целесообразным.

В диссертации в рамках ВА на основе разделения процессов для налетающего и впоследствии рассеянного электрона и электрона мишени, впоследствии выбитого из нее, получены как модификация GOS для ударной ионизации атомов электроном при использовании полуклассического подхода, так и модификация описания процесса неупругого электронного рассеяния в твердом теле для зонной модели, состоящей из нескольких ветвей.

В первой главе излагается теоретическая основа для исследования ударной ионизации в рамках ВА и подчеркивается возможность разделения процессов. Здесь же даны определения GOS и диэлектрической функции и приводится соотношение между ними.

Во второй главе после того, как даны выражения GOS в рамках первого В А, с помощью полуклассического подхода получено новое выражение плотности обобщенной силы осциллятора для ионизации атома водорода электронным ударом. Этот подход, использованный в вышеописанном простейшем случае, может быть применим при исследовании и ударной ионизации в твердом теле.

В третьей главе представлены общие выражения для ударного создания SEE в твердом теле. Даны простейшие результаты для порога процесса и вероятности рассеяния при использовании зонной модели о с единственной параболической ветвью в зоне проводимости.

В четвертой главе проводится модификация описания того, что произошло с налетающим электроном при использовании зонной модели со многими параболическими ветвями в зоне проводимости, в результате чего выводятся новые выражения для порога и вероятности ударных создания SEE возбуждений в твердом теле.

Непосредственное наблюдение процессов рассеяния электронов в твердом теле невозможно. Эти эффекты проявляются только во вторичных процессах. Пятая глава и посвящена исследованию всей совокупности вторичных процессов в твердом теле на примере описания фотоакустического эффекта, вызванного рентгеновским фотоном. В этом процессе важную роль играет как первый этап релаксации размножения. электронных возбуждений, связанный с изученными в предыдущих главах актах неупругого рассеяния высокоэнергетических возбуждений в твердом теле, так и последующие стадии релаксации и преобразования энергии. С помощью этой модели объяснены новые экспериментальные явления в рентгеновской фотоакустической спектроскопии.

Основные результаты и выводы:

1. С помощью представления линейного отклика, получено новое выражение для плотности GOS. В этом выражении описание выбитого электрона классической траекторией позволяет включить PCI эффект, и описание атомного электрона средним импульсом позволяет включить эффект поляризации атома в GOS.

2. Получен Эффект поляризации атома для плотности GOS с уменьшением среднего начального импульса атомного электрона, вычисленным по формуле (7). Левая сторона пика (Bethe-ridge) уменьшается, а правая сторона увеличивается. Для малого Е левая сторона изменяется больше, чем правая. Для большого Е результат, изменения представляет собой сдвиг пика в сторону большого К.

3. Показано, что эффект PCI не должен быть значительным для GOS, поскольку вклады от рассеянного и выбитого электронов не только малы из-за усреднения выходящего направления выбитого электрона, но и противоположны друг другу, как получено с помощью нового выражения.

4. Для описания ударной ионизации электроном в твердом теле с помощью поляризационного приближения, получены аналитические выражения для порога и вероятности ударного создания экситона и e-h пары электроном в модели зоны из многих параболических ветвей (МРВВ).

5. По сравнению с SPBB моделью, из-за перехода до другой ветви зоны, порог имеет два значения: верхний порог всегда больше, чем и мало влияет на вероятность в порогеа нижний порог может быть значительно ниже, чем Самый низкий порог Е~}г = Е&можно достичь, если ТгС^ = /2теЕ (1

6. В МРВВ модели, вероятность ударного создания вторичных электронных возбуждений в диэлектриках меньше, чем в 8РВВ модели.

7. Представлена обширная модель для описания фотоакустического эффекта, вызванного рентгеновским фотоном. С помощью этой модели объяснены новые экспериментальные явления в рентгеновской фотоакустической спектроскопии.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

Показать весь текст

Список литературы

  1. Т. D. Mark and G. H. Dunn, Electron 1. pact Ionization, SpringerVerlag, Wien-New York, 1985.
  2. U. Fano, Phys. Rev. 103, 1202 (1956).
  3. M. Inokuti, Rev. Mod. Phys. 43, 297 (1971) — 50, 23 (1978) and referneces therein.
  4. C. J. Powell, Surf. Sei. 44, 29 (1974).
  5. JI. Д. Ландау и Е. М. Лифшиц, Квантовал Механика, Нерелятивистская Теория, Москва, Наука, 1989.
  6. М. А. Эланго, Элементарные Неупругие Радиационные Процессы, М, Наука, (1988).
  7. Н. Bethe, Ann. Phys. 5, 325 (1930).
  8. Н. Ehrhardt, М. Schulz, Т. Tekaat, and К. Willmann, Phys. Rev. Lett. 22, 89 (1969).
  9. Обзор последних работ приведен в С. Т. Whelan, Н. R. J. Walters, A. Lahmam-Bennani, and Н. Ehrhardt, (е, 2е) and related processes, (Kluwer, Dordrecht, 1993).
  10. M. A. Coplan, J. H. Moore, and J. D. Doering, Rev. Mod. Phys. 66, 985 (1994).
  11. В. Г. Неудачин, Ю. В.'Попов, Ю. Ф. Смирнов, УФН, (1999), в печати. (Препринт НИИЯФ МГУ 98−47/548).
  12. D. Н. Madison, R. V. Calhoun, and W. N. Shelton, Phys. Rev. A16, 552 (1977).
  13. Yu. V. Popov and J. J. Benyoun, J. Phys. В 14, 3513 (1981).п.
  14. H. Klar, and A. Franz, Phys. Rev. A 33, 2103 (1986).
  15. H. Klar, H. Tenhagen, and A. Franz, Z. Phys. D 1, 373 (1986).
  16. M. Nicolas, R. J. Tweed, and 0. Robaux, J. Phys. В 29, 791 (1996).
  17. L. P. Preseniakov, Proc. Lebedev Inst. 51, 20 (1970).
  18. Обзор последних работ приведен в S. Jones, D. Н. Madison, and D. A. Konovalov, Phys. Rev. A 55, 444 (1997) и I. Bray and A. T. Stelbovics, Adv. At. Mol. Opt. Phys. 35, 209 (1995).
  19. M. Brauner, J. S. Briggs, and H. Klar, J. Phys. В 22 2265 (1989)
  20. С. Т. Wh el an and H. R. Walters, J. Phys. В 23, 2989 (1990). С. Т. Whelan, R. J. Allan, J. Rasch, H. R. J. Walters, X. Zhang, J. Roder, К. Jung, and H. Ehrhardt, Phys. Rev. A 50, 4394 (1994).
  21. Y. Fang, A. N. Vasil’ev, and V. V. Mikhailin, Phys. Rev. A 58, 3683 (1998).о
  22. I. E. McCarthy and E. Weigold, Electron-Atom Collisions, Cambridge University Press (1995).
  23. E. Clementi and C. Roetti, At. Data Nucl. Data Tables 14, 177 (1974).
  24. N. F. Mott and H. S. W. Massey, The theory of atomic collision, oxford university press, London, (1965).
  25. S. Geltman and M. B. Hidalgo, J. Phys. В 4, 1288,1299 (1974).
  26. M. A. Dillon and M. Inokuti, J. Chem. Phys. 76, 5887 (1985).
  27. J. Botero and J. H. Macek, J. Phys. В 24, L405 (1991) — J. H. Macek and J. Botero, Phys. Rev. A 45, 8 (1992) — J. Botero and J. H. Macek, Phys. Rev. Lett. 68, 576 (1992).
  28. C. Pan and A. F. Starace, Phys. Rev. Lett. 67, 185 (1991).
  29. D. A. Konovalov and I. E. McCarthy, J. Phys. В 25, L451 (1992).
  30. J. Botero, and J. H. Macek, Phys. Rev. A 47, 3413 (1993).
  31. F. L. Battye, J. Liesegang, R. C. G. Leckey, and J. G. Jenkin, Phys. Rev. В 13, 2646 (1976).
  32. Келдыш, ЖЭТФ, 37, 713 (1959).
  33. E. О. Kane, Phys. Rev. 159, 624 (1967).
  34. A. R. Beattie, Semicond. Sci. Technol. 3, 48 (1988).
  35. Ю. П. Тимофеев, M. В. Фок, ФТТ, 32, 1721 (1990).
  36. А. В. Дмитриев, А. Б. Евлюхин, ФТТ, 39, 275 (1997).
  37. A. N. Vasil’ev, Nuci. Instr. Meth. В 107, 165 (1996).
  38. N. Sano, and A. Yoshi, Phys. Rev. В 45, 4171 (1992).
  39. N. Sano, and A. Yoshi, J. Appl. Phys. 77, 2020 (1995).
  40. C. L. Anderson, and C. R. Crowell, Phys. Rev. В 5, 2267 (1972).
  41. A. N. Vasil’ev, Y. Fang, and V. V. Mikhailin, in «Excitonic Processesin Condensed’Matters», Ed. R. T. Williams and W. M. Yen, PV 9825 p.403, The electronchemical Society Proc. Series, Pennington NJ (1998).
  42. A. N. Vasil’ev, Y. Fang, and V. V. Mikhailin, Phys. Rev. В, 60, no.7 (1999), Препринт НИИЯФ МГУ 99−12/570.
  43. В. К. Ridley, Quantum Processes in Semiconductors, 3rd ed. (Oxford University Press, Oxford, 1994).
  44. Y.Lu, and C-T. Sah, Phys. Rev. В 52, 5657 (1995).
  45. J. Bude, and K. Hess, J. Appl. Phys. 72, 3554 (1992).
  46. D. J. Robbins, Phys. Status Solidi В 97, 9 (1980) — 97, 387 (1980).о
  47. R. Thoma, H. J. Peifer, W. L. Engl, W. Quade, R. Brunetti, and C. Jacoboni, J. Appl. Phys. 69, 2300 (1991).
  48. J. C. Ashley and V. E. Anderson, J. Electron. Spectrosc. Relat. Phenom. 24, 127 (1981).
  49. J. C. Ashley, J. Electron. Spectrosc. Relat. Phenom. 28, 177 (1982).
  50. J. C. Ashley, J. Electron. Spectrosc. Relat. Phenom. 46, 199 (1988).
  51. R. H. Ritchie, Phys. Rev. 114, 644 (1959).
  52. L. Vriens and T. F. M. Bonsen, J. Phys. В 1, 1123 (1968).
  53. L. D. Landau and E. M. Lifshitz, Mechanics, 3rd ed., translated by J. B. Sykes and J. S. Befl (Pergamon, Oxford, 1976), p.38.
  54. T. Rosel, J. Roder, L. Frost, K. Jung, H. Ehrhardt, S. Jones, and
  55. D. H. Madison, Phys. Rev. A 46, 2539 (1992).
  56. C. T. Whelan, R. J. Allan, J. Rasch, H. R. J. Walters, X. Zhang, J. Roder, K. Jung and H. Ehrhardt, Phys. Rev. A 50, 4394 (1994).
  57. S. Gupta, and M. K. Srivastava, J. Phys. B 29, 323 (1996).
  58. A. Lushchik, E. Feldbach, Ch. Lushchik, M. Kirm, and I. Martinson, Phys. Rev. B 50, 6500 (1994).
  59. A. Lushchik, E. Feldbach, R. Kink, Ch. Lushchik, M. Kirm, and I. Martinson, Phys. Rev. B 53, 5379 (1996).
  60. V. V. Mikhailin, Nucl. Instr. Meth. B 97, 530 (1995).
  61. M. Stobbe, R. Redmer, and W. Schattke, Phys. Rev. B 49, 4494 (1994).1. T!
  62. Y. Wang, and K. F. Brennan, J Appl. Phys. 75, 313 (1994).
  63. B. Steeg, M. Kirm, V. Kisand, S. Kording, S. Vielhauer, and G. Zimmerer, J. Low Temp. Phys. Ill, 739 (1998).
  64. R. J. Elliott, Phys. Rev. 108, 1384 (1957).
  65. A. Rosencwaig and A. Gersho, J. Appl. Phys. 47, 64 (1976).
  66. L. C. Aamodt, J. C. Murphy and J. G. Parker, J. Appl. Phys. 48, 927 (1977).
  67. F. A. McDonald and G. C. Wetsel, Jr., J. Appl. Phys. 49, 2313 (1978).
  68. A. Mandelis, Y. C. Teng, and B. S. H. Royce, J. Appl. Phys. 50,7138 (1979). '
  69. J. Opsal and A. Rosencweig, J. Appl. Phys. 53, 4240 (1982).
  70. A. C. Tam, Rev. Mod. Phys. 58, 381 (1986).
  71. A. Mandelis, Photoacoustic and thermal wave phenomena in semicondutors, (Elsevier, New York, 1987).
  72. H. Vargas and L. C. M. Miranda, Phys. Rep. 161, 43 (1988).
  73. T. Masujima, H. Kawata, Y. Amemiya, N. Kamiya, T. Katsura, T. Iwamoto, H. Yoshida, H. Imai and M. Ando, Chem. Lett. 1987, 973 (1987).
  74. H. Coufal, J. Stohr, K. Baberschke, Springer Ser. Opt. Sci., Vol.58, ed. by P. Hess, J. Pelzl (Springer, Berlin, Heidelberg, 1988) p.25.
  75. T. Masujima, H. Shiwaku, M. Ando, T. Toyoda, H. Imai, G. Tamai, S. Kawano and A. Iida, Photon Factory Activity Rep., 7, 152 (1989).
  76. T. Masujima, H. Kawata, M. Kataoka, H. Shiwaku, H. Yoshida, H. Imai, T. Toyoda, T. Sano, M. Nomura, A. Iida, K. Kobayashi and M. Ando: Rev. Sci. Instrum. 60, 2522 (1989).
  77. M. Reichling, T. Masujima, H. Shiwaku, H. Kawata, M. Ando, and E. Matthias, Appl. Phys. A 49, 707 (1989).
  78. T. Toyoda, T. Masujima, H. Shiwaku, and M. Ando, Jpn. J. Appl. Phys. pt. l, 31, 2648 (1992).
  79. T. Toyoda, T. Masujima, H. Shiwaku, and M. Ando, Jpn. J. Appl. Phys. pt. l, 32, 2554 (1993).
  80. M. E. Gasia, G. M. Pastor and K. H. Bennemann, Phys. Rev. Lett. 61, 121 (1988).
  81. Y. Fang, A. N. Vasil’ev, and V. V. Mikhailin, Appl. Phys. A 60, 333 (1995).
  82. A. N. Vasil’yev, V. V. Mikhailin, Bull. Acad. Sci. USSR, Phys. Ser. 50, 537 (1986).
  83. R. C. Alig, Phys. Rev. B 27, 968 (1983).
  84. V. M. Agranovich and M. D. Galanin, The energy transfer in condensed matters, Moscow Nauka, (1978) p.280−282.
  85. W. T. Elam, J. P. Kirkland, R. A. Neiser, and P. D. Wolf, Phys. Rev. B 38, 26 (1988).
  86. J. P. Monchalin, J. L. Parpal, L. Bertrand and J. M. Gagnw Appl. Phys. Lett. 39, 391 (1981).
  87. E. Bonno, J. L. Laporte and Y. Rousset, J. Appl. Phys. 67, 2253 (1990).
Заполнить форму текущей работой