Развитие диагностических методов для задач проекционной литографии 13, 5 нм
Диссертация
Источником ЭУФ излучения обычно являются лазерная плазма, генерируемая импульсным излучением мощного частотного лазера, сфокусированным на некоторую мишень или сильноточный разряд в газе. Оптическая система и маска создаются по принципам отражательной оптики с многослойным покрытием, наносимыми на атомарно — гладкие поверхности: плоские для ЭУФ маски и расчетной кривизны для объектива… Читать ещё >
Список литературы
- Kim, D.-E. Optimized Structures of Multilayer Soft X-Ray Reflectors in the Spectral Range of 30 to 300 A / D.-E. Kim, D.-H. Cha, S.-W. Lee // Japanese Journal of Applied Physics. -1998.-Vol. 37, — P. 2728−2733.
- Салащенко, H.H. Исследования в области многослойной рентгеновской оптики в ИФМ РАН / Н. Н. Салащенко // Материалы всероссийского совещания «Рентгеновская оптика». Нижний Новгород. 1998. — с. 53−68.
- Mohanty, S.R. Recent progress in EUV source development at GREMI / S.R. Mohanty, C. Cachoncinlle, C. Fleurier, E. Robert, J.-M. Pouvesle, R. Viladrosa, R. Dussart // Microelectronic engineering. 2002. — Vol. 61−62. — P.179−185.
- Сейсян, P. Нанолитография СБИС в экстремально дальнем вакуумном ультрафиолете (обзор) / Р. Сейсян //ЖТФ. 2005. — т.75. — вып.5. — с. 1−13.
- Hansson, B.A.M. A liquid-xenon-jet laser-plasma x-ray and EUV source / B.A.M. Hansson, L. Rymell, M. Berglund, H.M. Hertz // Microelectronic Engineering. 2000. — Vol.53. -Iss.1−4. — P.667−670.
- Diefendorff, K. Microprocessor Report. 2001. www.MDRonline.com
- Ulrich, W. Trends in optical design of projection lenses for UV and EUV lithography / W. Ulrich, S. Beiersdorfer, H.-J. Mann // Proceedings SPIE. 2000. — Vol.4146. — P. 13−24.
- Bjorkholm, J.E. EUV Lithography—The Successor to Optical Lithography? / J.E. Bjorkholm // Intel Technology Journal. 1998. — Q3. — P. 1−8.
- Grunow, P.A. Rates and mechanisms of optic contamination in the EUV engineering test stand/ P.A. Grunow, L. E. Klebanoff, S. Graham Jr., S.J. Haney, W.M. Clift // Proceedings SPIE. 2003. — Vol. 5037. — P.418−428.
- В arty, A. The effects of radiation induced carbon contamination on the performance of an EUV lithographic optic / A. Barty, K.A.Goldberg // Proceedings SPIE. 2003. -Vol. 5037. -P.450−459.
- Fuchs, D. High precision soft x-ray reflectometer / D. Fuchs, M. Krumrey, P. Muller,
- F. F Scholze, G. Ulm //Review of Scientific Instruments. 1995. — Vol.66. — Iss.2. -P.2248−2250.
- Egbert, A. Compact electron-based EUV source at 13.5 nm / A. Egbert, B. Mader, B. Tkachenko, A. Ostendorf, B.N. Chichkov, T. Missalla, M.C. Schurmann, K. Gabel,
- G. Schriever, U. Stamm // Proceedings SPIE. 2003. — Vol. 5037. — P.784159.
- Andreev, S.S. Multilayer optics for XUV spectral region: technology fabrication and applications / S.S. Andreev, A.D. Akhsakhalyan, M.S. Bibishkin, N.I. Chkhalo, S.V. Gaponov, S.A. Gusev, E.B. Kluenkov, K.A. Prokhorov, N.N. Salashchenko, F.
- Schafers, S.Yu. Zuev 11 Central European Journal of Physics. CEJP 2003. — N.l. -P.191−209.
- Борн, M. Основы оптики / M. Борн, Д. Вольф // М., Наука, 1973. с. 63.
- Виноградов, А.В. Зеркальная рентгеновская оптика / А. В. Винорградов, А. Я. Грудский, М. Т. Коган, И. В. Кожевников, В. А. Слемзин // Л.: Машиностроение, 1989.-302 с.
- Spiller, Е. Low-loss reflection coatings using absorbing material / Spiller E. // Applied Physics Letters. 1972. — v.20. -p.365.
- Виноградов, А.В. О многослойных зеркалах для рентгеновского и далекого ультрафиолетового диапазона / А. В. Виноградов, Б. Я. Зельдович // Оптика и спектроскопия. 1977. Т. 42. — № 4. — с. 709−714.
- Borrmann, G. Uber extinktionsdiagramme von quarz // Physikal Z. 1942. — V.42. -p.157−162.
- Гусев, С.А. Электронная микроскопия поперечных сколов многослойных зеркал Mo/Si / С. А. Гусев, Е. Н. Садова, К. А. Прохоров // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2000. — № 1. — С. 132.
- Yulin" S. Development of EUV/Soft x-ray multilayer optics in IOF / S. Yulin,, T. Feigl, N. Kaizer //Proceeding of the 7-th International Conferences on the Physics of X-ray Multilayer Structures, March 7−11, Sapporo Japan, 2004.
- Powell, F.R. Filter windows for EUV lithography / F.R. Powell, T.A. Johnson // Proceedings SPIE. 2001. — V. 4343. — P.585−589.
- Funsten, И.О. Fundamental limits to detection of low-energy ions using silicon solid-state detectors / И.О. Funsten, S.M. Ritzau, R.W. Harper, R. Korde // Applied Physics Letters. 2004. — Vol.84. — Iss. 18. — p. 3552−3554.
- Ляпидевский, B.K. Методы детектирования излучений / B.K. Ляпидевский // М. Энергоатомиздат. 1987.-с.45.
- Айнбунд, М.Р. Вторично-электронные умножители открытого типа и их применение / М. Р. Айнбунд, Б. В. Поленов // М. Энергоиздат. 1987. — 140 с.
- Добрецов, Л. Н. Эмиссионная электроника / Л. Н. Добрецов, М. В. Гомоюнова // М. Наука, — 1966.-с.564.
- Гродски, Шумахер. Новый широкополосный детектор фотонов. Приборы для научных исследований. Пер. с англ. — 1968. — № 5. — с. 69−76.
- Чистяков, В.П. Курс теории вероятностей и математической статистики / М. Наука, 1987.-с.218.
- Partlo, W.N. Development of an EUV (13.5 nm) light source employing a dense plasma focus in lithium vapor / W.N. Partlo, I.V. Fomenkov, I.R. Oliver, D.L. Birx // Proceedings SPIE. -2000. -V.3997. P. 136−156.
- Зуев, С.Ю. Измерение характеристик оптических элементов рентгеновских телескопов / С. Ю. Зуев, А. В. Митрофанов // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2002. — № 1. — С.81−83.47. http://www.ird-inc.com/
- Brown, D.B. Measurement and Calculation of Absolute X-Ray Intensities / D.B. Brown, J.V. Gilfrich // Journal of Applied Physics. 1972. — Vol.42. — Iss.10. -P.4044−4046.
- Кикоин, И.К. Справочник. Таблица физических величин / Под редакцией И. К. Кикоина // Москва, Атомиздат. 1976.
- Блохин, М.А. Физика рентгеновских лучей / М. А. Блохин // Москва. -1953. -с.13.
- Kramers, Н.А. Uber ZusammenstoJe zwischen Atomen undfreien Elektronen / H.A. Kramers // Philosophical Magazine. 1923. — Vol.46. — P.836−871.
- Wentzel, G. Zur Quantentheorie des Rontgenbremsspektrums / G. Wentzel // Zeitschrifi fur Physik A Hadrons and Nuclei. 1924. — Vol.27. -N.l. -P.257−284.
- Блохин, M.A. Физика рентгеновских лучей / M.A. Блохин // Москва. -1953. -с.87.55.www.exex.com56. http://microanalvst.mikroanalytik.de/software.phtml
- Афонин, В.П. Метод Монте-Карло в рентгеноспектральном анализе / В. П. Афонин, В. И. Лебедь // Новосибирск, Наука. 1989. — с.6.
- Green, M.A. A Monte Carlo Calculation of the Spatial Distribution of Characteristic X-ray Production in a Solid Target / M.A. Green II Proceedings of the Physical Society. 1963. — V.82. — N.2. — P.204−215.
- Bishop, H.E. The history and development of Monte Carlo methods for use in X-ray microanalysis / H.E. Bishop // Use of Monte Carlo calculations in electron probe X-ray microanalysis, Washington. 1976. — P. 5−13.
- McDonald, I. The attenuation and backscattering of electron beams by thin films /1. McDonald, A. Lamki, C. Delaney // Journal of Physics D: Applied Physics. 1971. -Vol.4. -N.8.-P.1210−1217.
- Bethe, H. Zur theorie des durchgangs schneller korpuskularstrahlen durch materie / H. Bethe II Annalen der Physik. (Leipzig). 1930. -N.5. — P.325−400.
- Murata, K. Monte Carlo Calculations on Electron Scattering in a Solid Target / K. Murata, T. Matsukawa, R. Shimizu // Japanese Journal of Applied Physics. 1971. -Vol.10.-N.6.-P.678−686.
- Murata, K. Study on the Resolution of the Backscattered Electron Image by the Monte Carlo Method / K. Murata, T. Matsukawa, R. Shimizu // Japanese Journal of Applied Physics. 1971. — Vol.10. -N.9. — P. 1290−1291.
- Reimer, L. Monte Karlo rechnungen zur elektronendiffiision / L. Reimer // Optik. -1968. Bd. 27. — N.2. — S.86−99.
- Abrahamson, A.A. Born-Mayer-Type Interatomic Potential for Neutral Ground-State Atoms with Z=2 to Z=105 / A.A. Abrahamson // Physical Review. 1969. — Vol.178. -Iss.l. — P. 76−79.
- Bloch, F. Bremsvermogen von atomen mit mehreren electronen / F. Bloch // Zeitschrifi fur Physik A Hadrons and Nuclei. 193. — Bd.22. — S.363−376.
- Kim, Y.-K. Binary-encounter-dipole model for electron-impact ionization / Y.-K. Kim, M.E. Rudd // Physical Review A. 1994. — Vol.50. — P.3954−3967.
- Kim, Y.-K. Scaling of Coulomb Born cross sections for electron-impact excitation of singly charged ions / Y.-K. Kim // Physical Review A. 2002. — Vol.65. — P.22 705.
- Krause, M.O. Atomic radiative and radiationless yields for К and L shells / M.O. Krause // Journal of Physical and Chemical Reference Data. 1979. — Vol.8. — Iss.2. -P.307−327.
- Блохин, M.A. Рентгеноспектральный справочник / M.A. Блохин, И. Г. Швейцер // Москва, Наука. 1982. — с.38.71. http://www-cxro.lbl.gov/opticalconstants/pert form. html
- McGeoch, М. Radio-Frequency-Preionized Xenon Z -Pinch Source for Extreme Ultraviolet Lithography / M. McGeoch // Applied Optics. 1998. — Vol.37. — Iss.9. -P.1651—1658.
- Rocca, J.J. Study of the soft X-ray emission from carbon ions in a capillary discharge / J.J. Rocca, M.C. Marconi, F.G. Tomasel // IEEE Journal of Quantum Electronics. -1993, — Vol.29. Iss. 1. — P. 182−191.
- Azam АН, M. High sensitivity nanocomposite resists for EUV lithography / M. Azam АН, K.E. Gonsalves, V. Golovkina, F. Cerrina // Microelectronic Engeniring. 2003. — Vol.65.-Iss.4.-P.454−462.
- Bulgakova, S.A. Polymethyl methacrylate based x-ray resists for 13 nm spectral range / S.A. Bulgakova, A.Ya. Lopatin, V.I. Luchin, L.M. Mazanova, N.N. Salashchenko // Surface Investigation. 1999. — Vol.15. — P. 185−194.
- Bulgakakova, S.A. PMMA-based resists for a spectral range near 13 nm / S.A. Bulgakakova, A.Ya. Lopatin, V.I. Luchin, L. M. Mazanova, S. A. Molodnjakov, N. N. Salashchenko // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A:
- Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment. 2000. — Vol.448. -P.487−492.
- Котляков, H.C. Уравнение в частных производных математической физики / Н. С. Кошляков, Э. Б. Глинер, М. М. Смирнов // М.: Высшая школа, 1970. С. 400.
- Барби, Т.В. (мл.) Многослойные структуры в рентгеновской оптике. Рентгеновская оптика и микроскопия / Под ред. Г. Шмаля, Д. Рудольфа: пер. с англ. // М.: Мир. 1987. — С. 232−248.
- Gobel, H. Abstracts / H. Gobel // АСА Annual Meeting (August 9−14, 1992, Pittsburgh, PA), 20, 3.
- Salashchenko, N.N. Short-period X-ray multilayers based on Cr/Sc / N.N. Salashchenko, E. Shamov // Optics Communication. 1999. — Vol.134. — P.7−10.
- Martin, J.I. Ordered magnetic nanostructures: fabrication and properties / J.I. Martin, J. Nognes, K. Liu, J. L. Vicent, I.K. Schuller // Journal of Magnetism and Magnetic Materials. 2003. — Vol.256. — P.449−501.
- Platonov, Yu. Status of small d-spacing x-ray multilayers development at Osmic / Yu. Platonov, L. Gomez, D. Broadway // Proceedings SPIE. 2002. — Vol.4782. — P. 152 159.
- Stearns, D.G. The scattering of x rays from nonideal multilayer structures / D.G. Stearns // Journal of Applied Physics. 1989. — Vol.65. — P.491−506.
- Bahr, D. X-ray reflectivity and diffuse-scattering study of CoSi2 layers in Si produced by ion-beam synthesis / D. Bahr, W. Press, R. Jebasinski, S. Mantl // Physical Review B. 1993. — Vol.47. — Iss.8. — P.4385−4393.
- Payne, A.P. Influence of roughness distributions and correlations on x-ray diffraction from superlattices / A.P. Payne, B.M. Clemens // Physical Review B. 1993. -Vol.47. — Iss.4. — P.2289−2300.
- Андреев, А.В. Резонансное усиление диффузного рассеяния рентгеновских лучей в гетероструктуре волноводного типа / А. В. Андреев, Ю. В. Пономарев, И. Р Прудников, Н. Н. Салащенко // Письма в ЖЭТФ. 1997. — т.66. — вып.4. -с.219−223.
- Andreev, A.V. Reflectivity and Roughness of X-ray Multilayer Mirrors. Specular Reflection and Angular Spectrum of Scattered Radiation / A.V. Andreev, A.G. Michette, A. Renwick, Journal of Modern Optics. 1988. — Vol.35. — P.1667−1987.
- Renner, O. Properties of laser-sputtered Ti/Be multilayers / O. Renner, M. Kopecky, E. Krousky, F. Schafers, B. R. Muller, N. I. Chkhalo // Review of Scientific Instruments. 1992. — Vol.63. — Iss.l. — P. 1478−1481.
- Stearns, D.G. Nonspecular x-ray scattering in a multilayer-coated imaging system / D.G. Stearns, D.P. Gainess, D.W. Sweeney, E. M. Gullikson // Journal of Applied Physics. 1998. — Vol.84. — Iss.2. — P. l003−1028.
- Коваленко, H.B. Исследование кросс-корреляции шероховатости в многослойном зеркале Ni/C методом рентгеновского диффузного рассеяния / Н. В. Коваленко, С. В. Мытниченко, В. А. Чернов // ЖЭТФ. 2003. — т. 124. -вып. 6(12).-с.1345−1357.
- Holy, V. X-ray reflection from rough layered systems / V. Holy, J. Kubena, I. Ohlidal, K. Lischka, W. Plotz // Physical Review B. 1993. — Vol.47. — Iss.23. — P. 15 896−15 903.
- Underwood, J.H. Layered synthetic microstructures as Bragg diffractors for X rays and extreme ultraviolet: theory and predicted performance / J.H. Underwood, T.W. Barbee// Applied Optics. 1981. — Vol.20. -Iss.17. -P.3027.
- Рытов, С.М. Введение в статистическую радиофизику. Часть II / С. М. Рытов, Ю. А. Кравцов, В. И. Татарский // М: Наука. 1978. — С. 197.
- С.В. Гапонов, В. М. Генкин, Н. Н. Салащенко, А. А. Фраерман, ЖТФ 56, В.4., 708 (1986).
- Akhsakhalyan, A.D. Determination of layered synthetic microstructure parameters / A.D. Akhsakhalyan, A A. Fraerman, N.I. Polushkin, Yu.Ya. Platonov, N.N. Salashchenko //Thin Solid Films. 1991. — Vol.203. — P.317−326.
- Shellan, J.B. Statistical analysis of Bragg reflectors / J.B. Shellan, P. Agmon, A. Yariv//Journal of the Optical Society of America. 1978. -v.68. -Nl. — P. 18−27.
- Spiller, E. Enhancement of the reflectivity of multilayer x-ray mirrors by ion polishing / E. Spiller // Optical Engineering. 1990. — Vol.29. — P.609−613.
- Vernon, S.P. Ion-assisted sputter deposition of molybdenum-silicon multilayers / S.P. Vernon, D.G. Stearns, R.S. Rosen // Applied Optics. 1993. — Vol.32. — P. 6969−6974.
- A7. Бибишкин, М. С. Рефлектометр с модернизированной оптической схемой для исследования элементов рентгенооптики в диапазоне 0,6−20 нм // М.С.
- Бибишкин, И.Г. Забродин, С.Ю. Зуев, Е. Б. Клюенков, А. Е. Пестов, Н. Н. Салащенко, Д. П. Чехонадских, Н. И. Чхало // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2005. — № 2. — С.23−27.
- Материалы конференций и тезисы докладов с участием автора
- Т4. Бибишкин, М. С. Основные характеристики детекторов на основе МКП / М. С. Бибишкин, А. Е. Пестов, Н. И. Чхало // Радиофизическая конференция 2002 г. Тезисы докладов. Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского. 2002. — С. 12.
- Т5. Бибишкин, М. С. Рефлектометрия в мягком рентгеновском и экстремальном ультрафиолетовом диапазонах / М. С. Бибишкин, А. Е. Пестов, А .Я. Лопатин,
- H.И. Чхало // Восьмая нижегородская сессия молодых ученых. (Естественнонаучные дисциплины): Тезисы докладов. Нижний Новгород.2003.-С.22.
- A. Kaskov, E.B. Klyuenkov, A.E. Pestov, N.N. Salashchenko, I.G. Zabrodin, S.Yu. Zuev // Proceedings of the 7th International Conference on the Physics of X-Ray Multilayer Structures. March 7−11 2004. Rusutsu Resort. Sapporo. Japan.2004. p.07−02.
- Т16. Бибишкин, М. С. Характеристики абсорбционных EUV-фильтров при высоких тепловых нагрузках / М. С. Бибишкин, С. А. Гусев, И. Г. Забродин,
- А.Ю. Климов, Е. Б. Клюенков, А. Я. Лопатин, В. И. Лучин, А. Е. Пестов, Н. Н. Салащенко, Н. Н. Цыбин, Н. И. Чхало, Л. А. Шмаенок // Материалы симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. 2006. — с.358−359.