Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Влияние толщины нанопокрытий и структуры твердого тела на процессы смачивания

Диссертация: Влияние толщины нанопокрытий и структуры твердого тела на процессы смачивания
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Процесс смачивания является одним из важнейших в практическом отношении процессов, изучаемых в химии поверхности. Смачивание широко распространено в природе и имеет большое значение в различных технологических процессах. Оно является оцределяюшцм для: флотации, адсорбционного понижения прочности, движения природных вод в почвах и грунтах, нанесения различных покрытий, импрегнирования всевозможных… Читать ещё >

Влияние толщины нанопокрытий и структуры твердого тела на процессы смачивания (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • I. ВВЕДЕНИЕ
  • II. ОБЗОР ЛИТЕРАТУРЫ
    • II. 1. Основные положения смачивания

    П. 2. Влияние заряда поверхности на смачивание 17 П. З. Влияние концентрации потенциалопределяющих ионов (рН) на угол смачивания на оксидах 20 П. 4. Теплоты смачивания твердых тел оксидной природы и их зависимость от различных факторов 24 П. 5. Физико-химическое состояние и свойства твердой поверхности

    II. 5.1. Поверхность Si

    П. 5.2. Поверхность Y3FesOi

    II.5.3. Поверхность ТЮ2 42 П. 5.4. Поверхность А120з

    II. 6. Синтез элемент-кислородных нанослоев методом молекулярного наслаивания

    II.7. О механических свойствах твердых тел

    П1. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ЧАСТЬ Ш. 1. Объекты исследования

    III. 1.1. Образцы плавленого кремнезема

    Ш. 1.2. Образцы феррограната иттрия

    III. 1.3. Образцы с нанослоями Ti

    III. 1.4. Образцы с нанослоями А

    1П.2. Методики экспериментов

    Ш. 2.1. Методика измерения углов смачивания

    III.2.2. Методика потенциометрического титрования 83 Ш. 2.3. Методика молекулярного наслаивания

    П1.2.4. Методика определения титана

    Ш. 2.5. Методика определения алюминия

    Ш. 2.6. Методика измерения теплот смачивания

    111.2.7. Методика измерения микротвердости

    111.2.8. Статистическая обработка результатов эксперимента 105 Ш. З. Результаты экспериментов и обсуждение результатов

    Ш. 3.1 .Опыты на образцах плавленого кремнезема

    Ш. З.2. Опыты на образце феррограната иттрия

    Ш. З.3. Опыты на нанослоях ТЮ

    Ш. З.4. Опыты на нанослоях AI2O3 на стекле

    Ш. З.5. Исследование теплот смачивания 146 III.3.6. Влияние твердости подложки на зависимость угла смачивания твердых тел оксидной природы от рН раствора

    IV. ВЫВОДЫ

Процесс смачивания является одним из важнейших в практическом отношении процессов, изучаемых в химии поверхности. Смачивание широко распространено в природе и имеет большое значение в различных технологических процессах. Оно является оцределяюшцм для: флотации, адсорбционного понижения прочности, движения природных вод в почвах и грунтах, нанесения различных покрытий, импрегнирования всевозможных материалов, многих биологических процессов и др. В явлениях смачивания и растекания физические особенности взаимодействия поверхности твердого тела и жидкости выявляются особенно ярко. Поэтому, изучение процессов смачивания имеет не только практическое, но и большое теоретическое значение. Управление смачиванием чаще всего осуществляется за счет добавления в систему поверхностно-активных веществ (ПАВ), поэтому взаимодействие твердых тел с растворами ПАВ из>чено довольно хорошо. Однако существует ряд технических задач, когда добавление растворов ПАВ в систему не допустимо. Влияние же на процесс смачивания растворов неорганических электролитов было начато на кафедре коллоидной химии СПбГУ относительно недавно. Было обнаружено, что содержание потенциалопределяющих ионов в растворе может значительно изменять угол смачивания, что связано с диссоциацией поверхностньгк кислотноосновных групп. Были изучены зависимости углов смачивания от рН раствора электролита на кварце и стекле [1,2,3], ферритах [1,4], лейкосапфире а-А120з[1], различных модификациях углерода [5]. Такой выбор в значительной мере был обусловлен технической значимостью поверхностных явлений на этих двух классах соединений. Интерес к оксидам металлов, а также их дисперсиям связан с рядом свойств, которые позволяют использовать их в качестве термостабильных и химически стойких материалов во многих отраслях промышленности. Применение оксидов металлов в настоящее время превосходит по общему объему применение металлов, поскольку они входят в качестве основных компонентов в строительные материалы, сырье для производства посуды и керамики, различных оптических материалов, в состав эмалей и глазурей, ион-селективных полевых транзисторов, адсорбентов, катализаторов для химического катализа, крекинга нефти и составляют большую часть полупроводниковых материалов. Поверхность большинства металлов покрыта оксидной пленкой в обычных условиях. Не менее важны исследования поверхностей >тлеродных тел, которые являются моделями различных углеродных адсорбентов и наполнителей высокополимеров и конструктивных материалов, широко используемых в технике [6]. Перспективным материалом для современной электронной техники и оптики являются алмазоподобные углеродные пленки (АПП). Почти максимальная твердость, очень хорошие изоляционные свойства, высокая теплопроводность, высокая оптическая прозрачность в значительной части ИК, видимой и УФ областей спектра предполагают применение таких покрытий для создания электронных и оптических изделий, в частности, при изготовлении тепловыделяющих элементов мощных полупроводниковых лазеров, больших интегральных схем и т. п. [7]. Проведенные ранее исследования зависимости углов смачивания (6) различных твердых тел оксидной природы от рН контактирующего раствора показали, что практически во всех исследованных системах зависимости 6 =У (рН) имели спектроподобный (полиэкстремальный) характер, причем один из максимумов этой зависимости находился в области рН, близкой к точке нулевого заряда (ТНЗ) исследуемого твердого тела, а выраженность этих и других максимумов для разных твердых тел могли сильно различаться. Такое полиэкстремальное поведение зависимостей 0 =ДрН) не случайно и является закономерностью для разных образцов во всех случаях. Был сделан вывод, что одной из главных причин спектроподобной зависимости 0 ХрН) является наличие на поверхности кислотно-основных центров отличающихся кислотно-основными свойствами. В связи с этим метод смачивания может быть использован для получения данных о состоянии поверхности твердых тел. Одна из важнейших современных задач науки о поверхности создание и исследование структурно организованных поверхностных наносистем, причем одним из активно изучаемых в настоящее время объектов химии поверхности являются нанослои различных оксидов. Вещества с пониженной размерностью, величина частиц которых в атомных масштабах ограничена в одном, двух или трех измерениях с размерами от нескольких единиц до ста нм являются новыми объектами при решении современных научно-технических задач, связанных с созданием веществ с принципиально возможности новыми в создании физическими и химическими свойствами. Направленный синтез поверхностных наноструктур открывает новые высокоэффективных сорбентов, носителей, элементов микроэлектроники и медицинских препаратов. В разработке нанотехнологии все больший удельный вес приобретают химические подходы, которые в значительной степени позволяют реализовать синтез низкоразмерных структур на поверхности твердофазной матрицы (оксиды) методом молекулярного наслаивания. При этом необходимы знания о свойствах и строении модифицируемой поверхности [8−12]. вопрос, какая минимальная толщина нанослоев может Как в практическом, так и в теоретическом отношении очень важным является обеспечить проявление объемных и поверхностных свойств наносимых твердых тел. Выполненные ранее исследования зависимости угла смачивания от концентрации в растворе потенциалопределяющих ионов (рН) показали, что имеющиеся научные представления не могут полностью объяснить характер этой зависимости. Вследствие этого любые эксперименты в этой области являются актуальными. Целью настоящего исследования является.

IV. выводы.

1. Проведение подробного исследования зависимости 9 = ДрН) для плавленого кремнезема и феррограната иттрия показало, что как и для других оксидов (алюминия, железа, различных ферритов) эта зависимость является полиэкстремальной (спектроподобной), что связано, как и в других случаях, со сложностью гидроксильного покрова этих оксидов.

2. Оценка выраженности максимумов угла смачивания на зависимости 0 = ДрН) для различных твердых тел позволила сделать вывод, что этот фактор коррелирует как с энергией кристаллической решетки, так и с их твердостью, что может быть связано с влиянием поверхностных реакций (главным образом процесса диссоциации активных центров поверхности) на механическое состояние поверхностного слоя твердого тела. Зависимости 0 = ХрН) являются характеристическими для данного твердого тела и могут рассматриваться как своеобразные спектры энергетического состояния его поверхности в изучаемых растворах (в рассматриваемой области рН).

3. Методом молекулярного наслаивания синтезированы образцы с 1 — 12 слоями оксидов титана и алюминия на поверхности стекла, а также образцы с 1 — 7 и с 1−4 слоями оксида алюминия на порошке того же стекла и кварца соответственно. На полученных образцах проведены исследования зависимости угла смачивания от рН раствора (методом микрофотографирования сидячей капли), теплот смачивания, а также величин точки нулевого заряда методом потенциометрического титрования и количества нанесенного алюминия на порошке стекла и кварца путем смыва А12Оз.

4. Во всех изученных случаях зависимости углов смачивания от рН раствора были спектроподобны, что согласуется с полученными ранее результатами. Проведение уже одного цикла молекулярного наслаивания ТЮ2 и AI2O3 приводило к сильному изменению смачиваемости поверхности исходного стекла, что подтверждает обнаруженный ранее «эффект монослоя». Это согласуется с результатами определения количества нанесенного AI2O3, показавшими, что эта величина на единице поверхности кварца превышает число содержавшихся на ней ОН-групп. По результатам потенциометрического титрования 1−7 слоев А120з на стекле и 1−4 слоев А12Оз на кварце наблюдалось увеличение ТНЗ с ростом числа слоев, т. е. происходило смещение величины ТНЗ в щелочную область.

5. В процессе наслаивания ТЮ2 была замечена следующая тенденция. Общий уровень углов смачивания растет в последовательности от 1-го до 4-х слоев и от 5 до 8-ми слоев. При переходе от 4-х к 5-ти и от 8-ми к 9-ти слоям величина Oq, резко падала. Высказано предположение, что обнаруженная закономерность связана с последовательным процессом формирования на поверхности под ложки структурной ячейки анатаза.

6. При сравнении зависимостей 0 =ДрН) для разного числа слоев А120з было обнаружено также, что для 1−7 слоев общий уровень краевых углов выше в кислой области, а для 8−12 слоев — в щелочной, что свидетельствует, по-видимому, о закономерном изменении кислотно-основных свойств поверхности в процессе формирования структуры AI2O3, приближающейся к высокотемпературной модификации. Привлечение литературных данных по ИКи ЭПРспектрам поверхности различных модификаций А12Оз позволяет предположить, что характер изменения (уменьшения) общей кислотности поверхности А12Оз, наблюдаемого как при его фазовых превращениях от ук ос-модификации, так и при различных температурных превращениях его поверхности в целом согласуется с обнаруженными нами изменениями зависимостей 0 = ДрН) в процессе последовательного нанесения слоев А1203.

7. Проведено исследование теплоты смачивания нанослоев А1203 на стекле и кварце водой. Нанесение первого слоя А12Оз вдвое увеличивало теплоту смачивания поверхности кварца, что, как и предыдущие опыты по углам смачивания, смыву А1203 и потенциометрическому титрованию подтверждает успешность процесса молекулярного наслаивания. В результате нанесения 2-го и 3-го слоев А12Оз на кварце наблюдался дальнейший рост теплоты смачивания. Нанесение 4-го слоя приводило к некоторому уменьшению теплоты смачивания. Высказано предположение, что это может быть связано с особенностями формирования структуры А1203 при нанесении этого слоя (например, с возможным уменьшением содержания активных ОН-групп на поверхности, что может привести к уменьшению теплоты смачивания).

8. Для порошков стекла с нанослоями А12Оз были получены аномально высокие теплоты смачивания. Высказано предположение, что это связано с недостоверностью определения удельной поверхности методом тепловой десорбции аргона для данного случая. Литературные данные свидетельствуют о том, что для ряда стекол в результате кислотного травления (как в нашем случае) на поверхности стекла образуется нанопористый поверхностный слой, поры которого доступны только проникновению малых молекул (вода) и недоступны большим (аргон), что может значительно увеличить реальную удельную поверхность порошка стекла.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Е.В. Взаимодействие водных растворов электролитов поверхностью твердых тел оксидной природы в процессах смачивания // Дис.. д-ра хим. наук. Л., ЛГУ — 1990 — 398 с.
  2. Е.В., Молчанова Л. И., Мазитова И. В., Резакова Г. Н., Дмитриева Н. А. Исследование зависимости краевых углов на кварце и стекле от рН раствора // Коллоид, журн. 1983. Т. 45. — № 2.-.С. 316 — 320.
  3. Л.М. Влияние природы и концентрации водных растворов электролитов на иммерсионное и контактное смачивание // Дис.. канд. хим. наук. Л. ЛГУ. 1984. — 119 с.
  4. В.В. Отражение физико-химического состояния поверхности ферритов и ферритобразующих оксидов в смачивании и электроповерхностных явлениях // Дис.. канд. хим. наук. Л. ЛГУ. -1984. 178 с.
  5. Gribanova E.V., Zhukov A.N., Antonyuk I.E., Benndorf С., Baskova E.N. Effect of the acidity of aqueous solutions on the wettability of various carbon surfaces // Diamond and related materials. 2000. — Vol. 9. № 1. — P. 1−6.
  6. В.Ф. Поверхностные явления в полупроводниках и диэлектриках. М.: Наука, 1970. — 400 с.
  7. В.Я., Федосеенко Н. Н., Емельянов В. А., Федосеенко Г. Н. Свойства алмазоподобных пленок, полученных методом лазерного испарения // Журн. прикл. спектроскопии. 1996. — Т. 63. — № 3. — С. 525 -527.
  8. С.И., Волкова А. Н., Алесковский В. Б. Получение и исследование химического состава продуктов взаимодействиятреххлористого фосфора с силикагелем // Изв. АН СССР. ОХН. -1970. — Т. 6. — № 7. — С. 1370 — 1372.
  9. С.И., Волкова А. Н., Алесковский В. Б. Влияние степени дегидратации силикагеля на механизм хемосорбции треххлористого фосфора // Журн. физ. химии. 1970. — Т. 44. — № .9. — С .2246 — 2250.
  10. В.Б., Кольцов С. И., Волкова А. Н., Смирнов В. М., Алесковский В. Б. Взаимодействие хлористого алюминия с силикагелем. // Изв. ВУЗов. Хим. и технология. — 1972. — Т. 15. № 6. -С. 957 — 959.
  11. В.Б. Химия надмолекулярных соединений. СПб: СПбГУ, 1996. — 256 с.
  12. В.Б. В порядке дискуссии к формированию химии высокоорганизованного вещества // Журн. общей химии. 1995. — Т. 65. — № 11. — С.1928 — 1931.
  13. Н.К. Физика и химия поверхностей. M.-JI.: Гостехиздат, 1947. -552 с.
  14. Bikerman J.J. Physical Surfaces. New York: Acad. Press, 1970. — 476 p.
  15. .Д., Горюнов Ю. В. Физико-химические основы смачиваемости и растекания. М.: Химия, 1976. 231 с.
  16. Marmur A. Equilibrium and spreading of liquids on solid surfaces // Adv. in Colloid Interface. Sci. 1983. Vol. 19. — № ½ — P. 75 — 102.
  17. Neumann A. W., Good R.J. Techniques of measuring contact angles // Surface and colloid sci. 1979. — Vol. 11. — P. 31 — 91.
  18. А.А. Поверхностные явления и поверхностно-активные вещества. Л.: Химия, 1984. 174 с.
  19. А. Физическая химия поверхностей. М.: Мир, 1979. 568 с.
  20. .А., Тарасов О. А., Федорец А. А. Усовершенствованный метод наклонной пластинки измерения краевого угла смачивания // Коллоид, журн. 2001. — Т. 63. — № 6.-.С. 735 — 741.
  21. В.М. О подобии в кинетике растекания малых капель по поверхности твердого тела // Коллоид, журн. 1997. — Т. 59. № 4. — С. 520 — 525.
  22. А.И., Куни Ф. М., Щекин А. К. К термодинамике тонких смачивающих пленок // Коллоид, журн. 1994. — Т. 56. № 2. — С. 220 -221.
  23. Л.М., Самсонов В. М., Шиловская Н. А. О краевых условиях для микроскопических капель жидкости на гладкой поверхности недеформируемого твердого тела // Коллоид, журн. 1994. — Т. 56. № 6. -С. 849−853.
  24. Bartell F.E., Bristol R.E. Wetting characteristics solid surfaces covered with adsorbed films // J. Phys. Chem. 1940. — Vol. 44. — № 1. P. 86 — 101.
  25. Shafrin E.G., Zisman W.A. Effect of adsorbed water of spreading of organic liquid on sodo lime glass // J. Amer.Ceram.Soc. 1967. — Vol. 50. -№ 9. -P. 478−484.
  26. Bernett M.R., Zisman W.A. Effect of adsorbed water on wetting properties of borosilikate glass, quartz and sapphire // J. Colloid Interface Sci. 1969. -Vol. 29. -№ 3. — P. 413−423.
  27. Зорин 3.M., Романов В. П., Чураев H.B. Влияние ПАВ на смачивание кварца растворами электролитов // Коллоид, журн. 1979 — Т. 41. — № 6.-С. 1066- 1073.
  28. A.M., Зайгеров И. Б., Ледян Ю. П. Механизм смачивания поверхности кварца водой // Изв. АН БССР ФТН. — 1972. — № 15. — С. 90 — 92.
  29. Elliott G.E.P., Riddiford A.C. Contact angles // Recent Progress in Surface Sci. 1964 — Vol. 2. — P. Ill — 128.
  30. Blake T.D., Haynes J.M. Contact angle hysteresis // Progress in Surface, and Membrane Sci. New York and London.: Acad.Press. — 1973. — Vol. 6. — P. 125−238.
  31. Good R.J. Contact angel, wetting and adhesion: a critical review // J. Adhes. Sci. Technol. 1992. — Vol.6. — № 12. — P. 1269 — 1302.
  32. Wenzel R.N. Communication to the editor surface roughness and contact angle // J. Phys. Colloid Chem. 1949. — Vol. 53. — № 9. — P. 1466 — 1467.
  33. Drelich J., Miller J.D. The effect of solid surface, heterogeneity and roughness on contact angel / drop size relationship// J. Colloid Interface Sci. 1994. — Vol. 164. — № 1. — P. 252 — 259.
  34. Cassie A.B.D. Contact angles // Discuss. Faraday Soc. London. 1948. -Vol.3.-P. 11−16.
  35. Neumann A.W., Good R.J. Thermodynamics of contact angles // J. Colloid Interface Sci. 1972. — Vol. 38. — P. 341 — 358.
  36. Seri-Levy A., Avnir D. Effect of heterogeneous surface geometry on adsorbtion // Langmuir 1993. — Vol. 9. — № 11. — P. 3067 — 3076.
  37. Timmons C.O., Zisman W.A. The effect of liquid structure on contact angle hysteresis // J. Colloid Interface Sci. 1966. — Vol. 22. — № 2. — P. 165 -171.
  38. Г. А., Ингерова T.B., Казарьян H.K. О связи гистерезиса смачивания с диэлектрической проницаемостью жидкости // Журн. физ. химии. 1994. — Т. 68. — № 4. — С. 685 — 687.
  39. А.В., Соболева О. А., Породенко Е. В. Исследование гистерезисных процессов при смачивании гидрофильных и гидрофобных поверхностей // Коллоид, журн. 1998. — Т. 60. — № 2. -С. 245 — 249.
  40. .Д., Соболева О. А., Должикова В. Д. Развитие представлений Ребиндера о гистерезисе смачивания // Коллоид, журн. 1998. — Т. 60. -№ 5. С. 650−657.
  41. Popov V.G. Effect of real wetting conditions on drop contact angel hysteresis // Teplofiz. Vys. Temp. 1992. — Vol. 30. — № 5. -P. 915−923.
  42. В.Д., Богданова Ю. Г. Определение ККМ методом смачивания. // Вестник МГУ. 1997. — Т. 38. — № 3. — С. 196 — 198.
  43. В.Д., Сумм Б. Д. О строении адсорбционного слоя поверхностно-активных веществ на границе раствор-твердое тело // Вестник МГУ. 1998. — Т. 39. — № 6. — С. 408 -412.
  44. Ю.Г., Должикова В. Д., Сумм Б. Д. Влияние смесей поверхностно-активных веществ на смачивание // Вестник МГУ. -2000. Т. 41. — № 3. — С. 199 — 201.
  45. Ю.Г., Должикова В. Д., Сумм Б. Д. Смачивание твердых тел растворами бинарных смесей ПАВ // Коллоид, журн. 2003. — Т. 65. -№. 3.- С. 316−327.
  46. Ю.И. Оценка краевых углов смачивания водой поверхности гидрофильных оксидов по данным адсорбционно-калориметрических измерений // Укр. хим. журн. 1993. — Т. 59. — № 3. — С. 265. — 269.
  47. Н.Б., Игнатов В. И., Должикова В. Д., Сумм Б. Д. Межфазная энергия на границе раздела «полимер-жидкость» как критерий адгезионных свойств полиимидов // Вестник МГУ. 1998. — Т. 39. — № 6.-С. 413−417.
  48. Е.А., Толмачев В. А. Краевые углы и поверхностная энергия слоев аморфного гидрогенизированного углерода // Коллоид, журн. -1996. Т. 58. — № 4. — С. 489 — 493.
  49. В.А., Коншина Е. А. Оценка полярных компонентов при определении поверхностной энергии твердого тела // Коллоид, журн. -1998. Т. — 60. — № 4. — С. 569 -573.
  50. А.Я. Поверхностное натяжение твердых тел и адсорбция. М.: Наука, 1976. 400 с.
  51. А.Н. Потенциалы нулевого заряда. М.: Наука, 1979. 260 с.
  52. Е.В., Молчанова Л. И., Григоров О. Н., Попова В. Н. Зависимость краевых углов смачивания на стекле и кварце от рН раствора // Коллоид, журн. 1976. — Т. 38. — № 3. — С. 557 — 559.
  53. Л.А., Квливидзе В. И., Киселев В. Ф. О механизме элементарного взаимодействия воды с поверхностью окислов / Сб. Связанная вода в дисперсных системах. Изд-во МГУ. — Вып. 1. — 1970.-С. 56−73.
  54. А., Нарайан К. Теплоты смачивания и поверхность раздела пар-твердое тело // В кн.: Межфазовая граница газ-твердое тело. М.: Мир, — 1970. — С. 129 — 149.
  55. Healy T.W., Fuerstenau D.W. The oxide-water interface-interrelation of zero point of charge and the heat of immersion // J. Colloid Interface Sci. -1965. Vol. 20. — P. 376 — 386.
  56. Griffiths D.A., Fuerstenau D.W. The effect of pH and temperature on heat imersion of alumina // J. Colloid Interface Sci. 1981. — Vol. 80. — № 1. — P. 271 -283.
  57. E.B., Черкашина Л. М. Иммерсионное и контактное смачивание как способ изучения взаимодействия поверхности с раствором. 1. Изучение теплот смачивания в зависимости от состава раствора // Коллоид, журн. 1989. — Т. 51. — № 5. — С. 854 — 859.
  58. Е.В., Тарасевич Ю. И., Поляков В. Е., Белоусов В. П. Исследование теплот смачивания кристаллического кварца водными растворами электролитов // Коллоид, журн. 1984. — Т.46. — № 2. — С. 232−237.
  59. Е.В., Шуткевич В. В., Гончарова Н. Н. Исследование теплот смачивания и электроповерхностных свойств феррограната иттрия // Вестник СПбГУ. Сер. 4. -2003. ~Вып.З.(№ 20). С. 84 -90.
  60. Ю.И., Полякова И. Г., Поляков В. Е. Адсорбционно-калориметрическое исследование взаимодействия воды с гидроксилированной поверхностью у-А^Оз // Теорет. и эксперим. химия. 2000. — Т. — 36. — № 2. — С. 121 — 125.
  61. .В., Мухаммед А.К. Я. Адсорбционное исследование поверхности гидроксилированного кремнезема в широком интервале температур // Журн. физ. химии. 1997. — Т. — 71. — № 7. — С. 1182 -1187.
  62. А.В., Ткаченко С. Н., Киреев С. Г., Мухин В. М., Чебыкин В. В., Клушин В. Н., Тепляков Д. Э. Удельная поверхность и теплота погружения гопкалита // Вестник МГУ. 2001. — Т. 42. — № 6. — С. 379 -381.
  63. В.М., Грибанова Е. В., Мешцикова С. В. Исследование теплот смачивания водой двумерных титаноксидных структур // Вестник СПбГУ. 1998. — Вып.4 (№ 25). С. 102 — 104.
  64. С. Химическая физика поверхности твердого тела. М.: Мир, 1980.-488 с.
  65. К. Твердые кислоты и основания. М.: Мир, 1973. — 184 с.
  66. Д.А. Курс коллоидной химии. СПб.: Химия, 1995. -400 с.
  67. Parks G.A. The isolectric points of solid oxides, solid hydroxides and aqueous hydroxocomplex systems // Chem. Reviews. 1965. — Vol. 68. — № 2.-P. 177- 198.
  68. Parks G.A., de Brugn P.L. The zero point of charge of oxides // J. Phys. Chem. 1962. — Vol. 66. — № 5. — P. 967 — 973.
  69. Smit W, Holten C.L.M. Zeta-potential and radiotracer adsorption measurements of EFG а-АЬОз single crystals in NaBr solutions // J. Colloid Interface Sci. 1980. — Vol. 78. — № 1. — P. 1 — 14.
  70. З.П., Белова М. П., Санников В. А. Электрокинетический потенциал и рН изоточки гидраргиллита и продуктов его термической обработки // Коллоид, журн. 1963. — Т. 25. — № 2 — С. 169 — 173.
  71. В.Ф., Козлов С. Н., Зотеев А. В. Основы физики поверхности твердого тела. М.: МГУ, 1999. — 288 с.
  72. В.Н. Ядерный магнитный резонанс протонов при 93°К в воде, адсорбированной на силикагеле // Докл. АН СССР. 1964. — Т. 157.-№ 1.-С. 158−161.
  73. В.И. Структурная организация и свойства поверхностных соединений кремнеземов по данным колебательной спектроскопии и квантовой химии // Журн. физ. химии. 1989. — Т. 63. — № 2. — С. 289 -305.
  74. Hoffmann P., Knozinger Е. Novel aspects of mid and far fourier spectroscopy applied to surface and adsorption studies on Si02. // Surface Science 1987. — Vol. 188. — № ½. — P. 181 — 189.
  75. Fink P., Hobert H., Rudakoff G. Strukturelle anordnung der silanolgruppen von dispersem Si02 und stochiometrie von adsorbtionskompiexen // Wiss.
  76. Ztschr. Friedrich-Schiller-Univ. Jena. Naturwiss. Bd 36 Jg.1987. — H. 4. -S. 581 -588.
  77. В.И. Молекулярные модели поверхностных структур химически модифицированных кремнеземов по данным колебательной спектроскопии и квантово-химических расчетов // Журн. физ. химии. — 2000. Т. 74. — № 8. — С. 1351 — 1359.
  78. .Е., Третьяков Ю. Д., Летюк Л. М. Физико-химические основы получения, свойства и применение ферритов. М.: Металлургия, 1979. -471 с.
  79. И.Д., Дутов А. Г., Игуменцев А. Н. Влияние нарушений стехиометрии на ИК спектры кристаллов иттрий-железистого граната // Журн. прикл. спектроскопии. 2000. — Т. 67. — № 2. — С. 217 — 221.
  80. Лучине кий Г. П. Химия титана. М.: Химия, 1971.-471 с.
  81. И.П. Химия и технология оксидных соединений титана. -Свердловск. 1988. 171 с.
  82. В.Б., Соболев В. В., Шаплыгин И. С. Химические и физические свойства простых оксидов металлов. М.: Наука, 1983. — 239 с.
  83. Л.Г., Киселев В. Ф. Исследование свойств поверхности кристаллической двуокиси титана // Докл. АН СССР. -1961.-Т. 138. — № 3. С. 608−611.
  84. Л.Г., Киселев В. Ф., Мурина В. В. Адсорбционные свойства поверхности кристаллической двуокиси титана // Кинетика и катализ. -1961. Т. 2. — № 6. — С. 877 — 886.
  85. Д.П., Андреев Ю. Н. Исследование пористой структуры пленок двуокиси титана // Журн. физ. химии. 1954. — Т. 28. — № 8. -С. 1465 — 1471.
  86. Day R. E, Parfitt G.D. Characterization of the surface of rutile by nitrogen and water vapour adsorption // J. Chem. Soc. Farad. Trans. 1967. — Vol. 63.-№ 531.-P. 708−716.
  87. A.M., Куликов С. Г. О структуре и свойствах катализаторов из ТЮг в связи с ее полиморфизмом // Изв. АН СССР. ОХН. — 1951 -№ 2-С. 133- 139.
  88. Czanderna A.W., Honig J.M. Interaction of oxygen with titanium dioxide // J. Phys. Chem. 1959 — Vol. 63. — № 3. — P. 620 — 626.
  89. Ю.Н. Исследование оптических, адгезионных и механических свойств тонких пленок двуокиси титана // Журн. физ. химии. 1959. — Т. 33. — № 10. — С. 2295 -2301.
  90. Yates D.J.C. Infrared studies of the surface hydroxyl groups on titanium dioxide and chemisorption of carbon monoxide and carbon dioxide // J. Phys. Chem. 1961. — Vol. 65. — № 5. — P. 746 — 753.
  91. Lewis K.L., Parfitt G.D. Infra-red study of the surface of rutile // J. Chem. Soc. Farad. Trans. 1966. — Vol. 62. — № 517. — P. 204 — 214.
  92. Livingston H.K. Cross-sectional areas of molecules adsorbed on solid surface // J. Am. Chem. Soc. 1944. — Vol. 66. — № 4. — P. 569 — 573.
  93. Loeser E.H., Harkins W.P. Molecular interaction between «-propyl alcohol and iron or iron oxides // J. Phys. Chem. 1953. — Vol. 57. — № 4. — P. 591 -597.
  94. Healey F.H., Chessick J.J., Zettlemoyer A.C., Young G.Y. The heats of immersional wetting of rutile and graphon in organic liquids // J. Phys. Chem. 1954. — Vol. 58. — № 10. — P. 887 — 890.
  95. Ю.Я. Двойной электрический слой на границе раздела двуокись титана-водный раствор хлорида калия // Коллоид, журн. -1978. Т. 40. — № 4. — С. 743 — 746.
  96. Д.К., Колмакова Г. А., Сидорова М. П., Фридрихсберг Д. А. Элекгроповерхностные свойства Т1О2 в растворах различных электролитов // Коллоид, журн. 1982. — Т. 44. — № 2. — С. 373 — 376.
  97. Ю.Я. Адсорбция водородных и гидроксильных ионов на границе раздела двуокись титана-водный раствор электролита // Коллоид, журн. 1971. — Т. 33. — № 4. — С. 803 — 805.
  98. Д.С., Мескин П. Е., Коленько Ю. В. Реакционная способность нанокристаллического ТЮ2 (анатаза и рутила) синтезированного гидротермальным методом // Докл. РАН. 2004. — Т. 394. — № 6. — С. 775 — 777.
  99. Н.Н., Викторский И. В., Зигель В. В. Концентрирование примесей при изучении природных объектов // Журн. общей химии. — 2001. Т. 71. — № 1. — С. 21 — 24.
  100. В. А., Пашута Ю. С., Степанов В. П., Чуйко А. А. Исследование адсорбционных явлений и адсорбентов. Ташкент, — ФАН. — 1980. — 53 с.
  101. А. А. ИК-спектроскопия в химии поверхности окислов. -Новосибирск: Наука, 1984. — 245 с.
  102. А. А. Состояние поверхности двуокиси титана по данным ИК-спеюроскопии / Сб. Адсорбция адсорбенты. 1977. — № 5. — С. 83 — 89.
  103. И. В. О некоторых свойствах растворов фтористого бериллия // Изв. АН СССР. ОХН. — 1947. — № 6. — С. 591 -597.
  104. Г. Д., Хрусталев С. В. Гидратный покров и активные центры поверхности дкуокиси титана // Журн. физ. химии. 1973. — Т. 40. — № 8. — С. 2055 — 2058.
  105. А.А., Мардилович П. П., Лысенко Г. Н., Трохимец А. И. Гидроксильный покров и электроноакцепторные центры поверхности оксида алюминия // Успехи фотоники. Л.:ЛГУ. 1987. — Т. 9 — С. 28 -68.
  106. ПЛ., Трохимец А. И. Области проявления валентных колебаний невозмущенных и связанных Н-связью OH-(OD)-rpynn оксида алюминия // Журн. прикл. спректроскопии. 1981. — Т. 35. — № 6.-С. 1029- 1033.
  107. А.И., Мардилович П. П., Буслов Д. К., Лысенко Г. Н. ИК-спектры гидроксильного покрова у-А120з // Журн. прикл. спектроскопии. 1979. — Т. 31. — № 2. — С. 270 — 274.
  108. А.И., Мардилович П. П., Буслов Д. К. ИК-спектры гидроксильного покрова у-А1203 // Журн. прикл. спектроскопии. 1980. -Т. 33. -№ 2. — С. 298−301.
  109. В.И., Музыка И. С. Исследование формирования структуры поверхности а-А1203 методом инфракрасной спектроскопии // Журн. физ. химии. 1995. — Т. 69. — № 11. — С. 2009 — 2013.
  110. В.И. Исследование методом ИК-спектроскопии изменения структуры поверхности при трансформации 0-А12О3 в а-А120з // Журн. физ. химии. 1999. — Т. 73. — № 11. — С. 2034 — 2037.
  111. Р.И., Мороз Э. М., Лунд А., Цветков Ю. Д. Исследование поверхностных свойств оксидов алюминия методом электронноядерного резонанса // Журн. физ. химии. 2001. -Т. 75. — № 4. — С. 710 -716.
  112. А.С., Кецко В. А., Пентин И. В., Муравьева Г. П., Ильинский А. Л., Олейников Н. Н. Дегидратация гидрофильных оксидов Zr02 и AI2O3 при высоких температурах // Журн. неорг. химии. 2003. — Т.48. — № 3. — С. 484−488.
  113. А.В., Лунина Е. В., Паренаго О. О. Толмачев A.M., Туракулова А. О., Иванкин Ю. Д., Зуй А.И., Данчевская М. Н. Льюисовская кислотность поверхности л- А12Оз // Журн. физ. химии. 1997. — Т.71. -№ 12.-С. 2167−2170.
  114. Ю.К., Клюйков А. И. Оценка реакционной способности гидроксильных групп поверхности ряда оксидов металлов на основе корреляционных соотношений // Журн. физ. химии. 1998. — Т. 72. — № 5.-С. 908−911.
  115. А.П., Буренина Т. А., Кольцов С. И. Индикаторный метод исследования поверхностной кислотности твердых веществ // Журн. общей химии. 1985. — Т. 55. — №. 9. — С. 1907 — 1912.
  116. Л.Ф., Минакова Т. С., Нечипоренко А. П. Применение индикаторного метода для исследования поверхностной кислотности сульфида цинка марки <для оптической керамики> // Журн. прикл. химии. 1990. — № 8. — С. 1708 — 1714.
  117. И.Г., Батраков В. В. Использование теории Грэма-Парсонса для расчета констант кислотно-основных равновесий на границеоксид/электролит 11 Электрохимия. 1993. — Т. 29. — № 3. — С. 304 -309.
  118. В.И., Чуйко А. А. Определение распределений неоднородных поверхностей твердых тел по компонентам адсорбционного взаимодействия // Докл. АН Укр. 1993. — № 4. — С. 121 — 125.
  119. И.Г., Коньков С. А., Батраков В. В. Определение констант кислотно-основного равновесия на границе оксид/раствор методом потенциометрического титрования // Электрохимия. 1993. — Т. 29. N° 3. — С. 310 — 314.
  120. B.C. Метод расчета кривых потенциометрического титрования ионитов // Докл. АН Беларусии. 1995. — Т. 39. — № 1. С. 48 -52.
  121. А.П. Метод расчета кислотно-основных характеристик сорбента по результатам потенциометрического титрования // Журн. физ. химии. 1995. — Т. 69. — № 4. — С. 664 — 667.
  122. М.А., Дудкин Б. Н. Изучение кислотно-основных свойств суспензии у- А12Оз методом рК-спектроскопии // Коллоид, журн. -2003. Т. 65. — № 6. — С. 831 — 836.
  123. Е.В., Чернобережский Ю. М., Иогансон О. М. О корреляции агрегативной устойчивости и интегральных электроповерхностных характеристик дисперсий оксидов // Коллоид, журн. 2000. — Т.62. — № 5.-С. 1−10.
  124. В.В., Куприенко П. И. Гидроксильные группы и потенциал поверхности синтетического оксида алюминия // Коллоид, журн. -1995. Т. 57. — № 2. — С. 216 — 219.
  125. Л.Э., Сидорова М. П., Смирнов В. М. Изоэлектрическая точка частиц оксида кремния, покрытых монослоями оксидов титана и алюминия //Коллоид, журн. 1997. — Т. 57. — № 4. — С. 563 — 565.
  126. В.Б., Кольцов С. И. Синтез твердых соединений методом молекулярного наслаивания. Тезисы докладов научно-технической конференции ЛТИ им. Ленсовета. 1965, Л.: Химия. — 67 с.
  127. В.Б. Стехиометрия и синтез твердых соединений. Л.: Наука, 1976. 162 с.
  128. А.А. Синтез многокомпонентных оксидных низкоразмерных систем на поверхности пористого диоксида кремния методом молекулярного наслаивания // Журн. общей химии. 2002. — Т. 72. — № 4.-С. 617−632.
  129. В.М. Современные возможности управления наноструктурированием твердых веществ и материалов / Сб. Химические проблемы создания новых материалов. СПб. — 2003. — С. 57−87.
  130. В.И. Изменение структуры поверхности кремнеземов при химическом модифицировании // Журн. физ. химии. 1994. — Т. 68. -№ 5.-С. 866−869.
  131. Пак В.Н., Тихомирова И. Ю., Буркат Т. М., Лобов Б. И. Свойства титансодержащих кремнеземов и особенности состояния воды на их поверхности // Журн. физ. химии. 1999. — Т. 73. — № 11. — 2024 — 2028.
  132. О.В., Малков А. А., Малыгин А. А. Влияние парофазного гидролиза на химический состав и строение титансодержащих групп на кремнеземе // Журн. общей химии. 1994. — Т. 64. — № 4. — С. 549 -553.
  133. П.Н., Нестеренко Е. П., Иванов А. В. Модифицирование поверхности кремнезема оксидом алюминия // Вестник МГУ. 2001. -Т. 42.-№ 2.-С. 106−108.
  134. Е.А., Малков А. А., Малыгин А. А. Изучение взаимодействия TiCU с поверхностью кремнезема // Журн. прикл. химии. 1988. — Т. 61. — № 1. — С. 29−31.
  135. В.А., Белякова Л. А. Химические реакции с участием поверхности кремнезема. Киев: Наукова думка, 1991. — 264 с.
  136. С.И., Волкова А. Н., Алесковский В. Б. Получение и исследование химического состава продуктов последовательной хемосорбции хлоридов титана и фосфора на поверхности силикагеля // Журн. прикл. химии. 1969. — Т. 43. — № 5. — С. 1028 — 1034.
  137. В.М., Малков А. А., Рачковский P.P. Синтез оксидных слоев на полиоксиде кремния методом молекулярного наслаивания с использованием метоксильных функциональных групп // Журн. прикл. химии. 1992. — Т. 65. -№ 12. — С. 2666 — 2671.
  138. Практикум по химии твердых веществ. / Под ред. Кольцова С. И., Корсакова В. Г., Смирнова В. М. Л.: ЛГУ, 1985. — 224 с.
  139. В.М., Бобрышева Н. П., Алесковский В. Б. Магнитная восприимчивость железооксидных структур // Докл. АН. 1997. — Т. 356,-№ 4.-С. 492−494.
  140. Л.А. Твердость хрупких тел. / Под ред. Ребиндера П. А. МЛ.: Из-во АН СССР, 1949. — 143 с.
  141. Физическая энциклопедия. / Под ред. Прохорова А. М. М.: БРЖ, 1998. -Т.5.-760 с.
  142. Практическое руководство по методам исследования гетерогенных равновесий. / Под ред. Тимошкина Ю. М. Из-во Казанского Ун-та, 1990.- 185 с.
  143. Д.Б. Твердость и методы ее измерения. М.-Л.: Машгиз, 1952.-320 с.
  144. Ю.И., Тюрин А. И. Современные проблемы нано- и микротвердости твердых тел. Преплинт. Тамбов, 2000. — 42 с.
  145. В.Д. Поверхностная энергия твердых тел. М. 1954. — 220 с.
  146. А.Н., Черепанов В. А. Кристаллохимия твердого состояния. -Свердловск: УрГУ, 1987. 96 с.
  147. Г. С. Физика твердого тела. Из-во: МГУ, 1961 — 502 с.
  148. Д.Ш. Методы расчета термических и упругих свойств кристаллических неорганических веществ. Тбилиси: Мецниереба, 1977.-262 с.
  149. Справочник химика. / Под ред. Никольского Б. П. 1971. — Т. 1. — 1071 с.
  150. Дж. Е. Неорганиеская химия. М.: Химия, 1987. — 596 с.
  151. А.И. Структура диэлектриков. Конспект лекции. Чебоксары. 1977.-72 с.
  152. Физика и химия силикатов. / Под ред. Шульца М. М., Гребенщикова Р. Г. -Л.: Наука, 1987.-284 с.
  153. Д., Уэст Д. Основы аналитической химии. М.: Мир, 1979, — Т. 1.- 480 с.
  154. С.И., Алесковский В. Б. Изучение взаимодействия четырехлористого титана с силикагелем // Журн. прикл. химии. 1967.- Т. 40. № 4. — С. 907.
  155. Поляков В. Е, Полякова И. Г., Тарасевич Ю. И. Особенности определения теплот смачивания дисперсных минералов с малой удельной поверхностью //Коллоид, журн. 1976. — Т. 38. — № 1. — С. 188 — 190.
  156. .П., Захарьевский М. С., Иовшиц В. Л., Шульц М. М. / Сб. практических работ по физической химии. Л. — 1951. — 47 с.
  157. Е.И. Статистические методы анализа и обработки наблюдений. М.: Наука, 1968. — 288 с.
  158. Р.Й., Слободчикова Р. И. Планирование эксперимента в химии и химической технологии. М.: Химия, 1980. — 280 с.
  159. С.П. О низкотемпературной дегидратации гидратов кремнезема // Журн. прикл. химии. 1962. — Т. 35. — С. 1620 — 1621.
  160. В.А. Разработка адсорбционно-элипсометрического метода для исследования пористых пленок и покрытий // Журн. Микроэлектроника. 2000. — Т. 29. — № 5. — С. 374 — 389.
  161. Rusanov A.I. On the thermodynamics of deformable solid surfaces // J. Colloid Interface. Sci. 1978. — Vol. 63. — №. 2. — P. 330 — 339.
  162. А.И. Термодинамические основы механохимии // Журн. общей химии. 2000. — Т. 70. — № 3. — С. 353 — 385.
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!