Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Генерация плазмы и формирование ионных пучков в источнике с сетчатым плазменным катодом и магнитным мультиполем

Диссертация: Генерация плазмы и формирование ионных пучков в источнике с сетчатым плазменным катодом и магнитным мультиполем
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

На основании проведённых исследований создан двухступенчатый источник, генерирующий пучки ионов газа с площадью поперечного сечения 50 л см и током до 420 мА при рекордно высоком для источников на основе тлеющего разряда значении энергетической эффективности до 0,5 А/кВт. Устройство отвечает современному уровню требований, предъявляемых к источникам газовых ионов, что обеспечивает возможность его… Читать ещё >

Генерация плазмы и формирование ионных пучков в источнике с сетчатым плазменным катодом и магнитным мультиполем (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • Глава I. Особенности генерации плазмы в двухступенчатых газоразрядных системах
    • 1. 1. Генерация плазмы в двухступенчатых газоразрядных системах
    • 1. 2. Применение многополюсных магнитных систем в источниках ионов
    • 1. 3. Свойства газоразрядного плазменного катода с сеточной стабилизацией
    • 1. 4. Выводы и постановка задач исследований
  • Глава II. Генерация плазмы в двухступенчатой газоразрядной системе с многополюсным магнитным полем в области анода
    • 2. 1. Принцип работы и конструкция газоразрядной системы
    • 2. 2. Вольтамперные характеристики разряда с полым катодом
    • 2. 3. Параметры и ионно-эмиссионные свойства анодной плазмы
      • 2. 3. 1. Параметры анодной плазмы
      • 2. 3. 2. Эмиссионные свойства анодной плазмы
    • 2. 4. Особенности работы плазменного катода в двухступенчатой газоразрядной системе
      • 2. 4. 1. Потенциал катодной плазмы и режимы эмиссии плазменного катода
      • 2. 4. 2. Устойчивость биполярного диода между плазмой первой и второй ступени
      • 2. 4. 3. Влияние площади плазменного катода на эмиссионные и энергетические характеристики газоразрядной системы
    • 2. 5. Выводы
  • Глава III. Формирование пучка в ионно-оптических системах с протяжённым ионным слоем между плазмой и экранным электродом
    • 3. 1. Конструкция ионно-оптической системы
    • 3. 2. Угловая расходимость пучка ионов
      • 3. 2. 1. Зависимость угла расходимости от первеанса
      • 3. 2. 2. Зависимость оптимального значения первеанса от напряжения на ионном слое
      • 3. 2. 3. Влияние напряжения на ионном слое на эффективность извлечения ионов из плазмы и минимальный угол расходимости пучка
      • 3. 2. 4. Влияние давления газа на эффективность извлечения ионов
    • 3. 3. Экспериментальное исследование процессов в области распространения ионного пучка
      • 3. 3. 1. Схема эксперимента
      • 3. 3. 2. Баланс токов на электроды модифицированного цилиндра Фарадея
      • 3. 3. 3. Результаты экспериментов с модифицированным цилиндром Фарадея
    • 3. 4. Выводы
  • Глава IV. Источник широких пучков ионов газов с сетчатым плазменным катодом и магнитным мультиполем в области анода
    • 4. 1. Конструкция ионного источника
    • 4. 2. Рабочие характеристики источника
    • 4. 1. Выводы

Разработка плазменно-эмиссионных устройств подразумевает поиск. наиболее эффективных способов генерации первичных электронов и формирования плазмы с требуемой концентрацией, зарядовым и массовым составом ионов, а также площадью эмиссионной поверхности и распределением плотности эмиссионного тока в характерных для работы устройства условиях.

Требования, предъявляемые к электронному эмиттеру и генератору плазмы в рамках конкретного технологического применения, накладывают ограничения на возможность использования тех или иных разрядных устройств и диапазон изменения их рабочих параметров. Преодолеть эти трудности и существенно расширить диапазон рабочих параметров ионных источников позволило использование двухступенчатых разрядных систем. В устройствах на основе двухступенчатого разряда первая ступень является плазменным катодом, во второй ступени создаются условия для наиболее полной энергетической релаксации инжектированных электронов и формирования ионного эмиттера. Оптимизация условий в каждой из ступени позволяет не только сформировать электронный и ионный эмиттер с требуемыми характеристиками, но и понизить рабочее давление, напряжение горения разряда, что способствует увеличению газовой экономности и энергетической эффективности ионного источника. Кроме того, образование первичных электронов, сопровождающееся распылением и испарением материала катода в результате ионной бомбардировки и нагрева, происходит в первой ступени, что обеспечивает значительное снижение примесей ионов металла в пучке.

Важным шагом в развитии двухступенчатых систем было создание источников с сетчатым плазменным катодом, использование которого позволяет независимо изменять ток эмиссии и энергию быстрых электронов и открывает дополнительную возможность по управлению плотностью плазмы, зарядовым и массовым составом ионов. Для дальнейшего улучшения характеристик двухступенчатых источников ионов с сетчатым плазменным катодом целесообразно использовать электростатические и магнитные ловушки во второй ступени газоразрядной системы, что обеспечит эффективную энергетическую релаксацию электронов и генерации плотной плазмы. При этом важно, чтобы с использованием системы удержания электронов обеспечивалось извлечение значительной доли генерируемых ионов и равномерное распределение плотности тока эмиссии ионов. Указанные требования не допускают возможность эксплуатации ряда известных систем удержания электронов в источнике ионных пучков большого сечения, но могут быть выполнены при использовании у поверхности полого анода периферийного магнитного поля, создаваемого многополюсной магнитной системой.

Вышеизложенное позволяет сделать вывод о том, что тематика диссертационной работы, направленная на исследование генерации плазмы и формирования пучка ионов в двухступенчатом ионном источнике с сетчатым плазменным катодом и многополюсной магнитной системой удержания быстрых электронов, представляется актуальной.

Цель работы заключалась в исследовании генерации плазмы и формирования пучка в двухступенчатом ионном источнике ссетчатым плазменным катодом и периферийным магнитным полем в области анода:

Научная новизна работы заключается в том, что:

1. Разработана двухступенчатая газоразрядная система, включающая в себя электронный эмиттер на основе тлеющего разряда с полым катодом и многополюсную магнитную систему удержания быстрых электронов в анодной ступени.

2. Определены условия, при которых обеспечивается устойчивая работа двухступенчатого газоразрядного устройства с сетчатым плазменным катодом и достигается наибольшая эффективность генерации ионов.

3. Показано, что в ионно-оптической системе с протяжённым ' слоем пространственного заряда между плазмой и экранным электродом независимое управление напряжением на слое в характерном для двухступенчатого источника диапазоне 50 — 200 В и током пучка позволяет уменьшить угловую расходимость пучка при постоянном значении первеанса и повысить эффективность извлечения ионов из плазмы за счёт оптимизации положения и формы эмитирующей поверхности.

4. Предложена методика, основанная на использовании неэквипотенциального цилиндра Фарадея с изменяемой полярностью потенциала стенок для исследования влияния процессов в области распространения пучка и на поверхности электродов на результаты электрических измерений тока в цепи коллектора ионов и ускоряющего электрода ионно-оптической системы.

Научная и практическая ценность работы состоит в том, что:

1. Результаты исследований генерации плазмы в двухступенчатой газоразрядной системе, режимов эмиссии сетчатого плазменного катода при наличии интенсивного обратного потока ионов, формирования пучка ионно-оптической системой с протяженным слоем пространственного заряда между плазмой и экранным электродом открывают возможность существенного улучшения характеристик двухступенчатых ионных источников с сетчатым плазменным катодом.

2. С помощью предложенной в работе методики на основе модифицированного цилиндра Фарадея может быть оценен вклад вторичных электронов, ионов перезарядки и ионов, образованных в области распространения пучка, в токи, измеряемые в цепи коллектора пучка и ускоряющего электрода, а также в широком диапазоне энергий определены значения коэффициента ионно-электронной эмиссии коллектора и сечения резонансной перезарядки ионов пучка.

3. На основании проведённых исследований создан двухступенчатый источник, генерирующий пучки ионов газа с площадью поперечного сечения 50 л см и током до 420 мА при рекордно высоком для источников на основе тлеющего разряда значении энергетической эффективности до 0,5 А/кВт. Устройство отвечает современному уровню требований, предъявляемых к источникам газовых ионов, что обеспечивает возможность его практического применения в ионно-лучевых технологиях нанесения покрытий.

Работа была выполнена в рамках Федеральной целевой научно-. технической программы «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития науки и техники» по контракту с Министерством промышленности, науки и технологии РФ № 40.030.11.1126.

Диссертационная работа состоит из четырёх глав.

В первой главе рассмотрены особенности генерации плазмы в двухступенчатых газоразрядных системах и устройствах с многополюсными магнитными системами удержания быстрых электронов, обоснована целесообразность совместного использования электронного эмиттера на основе тлеющего разряда с полым катодом в первой ступени и полого анода с периферийным магнитным полем во второй ступени, сделан вывод о необходимости исследования условий устойчивой работы и режимов эмиссии сетчатого плазменного катода, ионно-эмиссионных свойств анодной плазмы в двухступенчатой газоразрядной системе.

Вторая глава посвящена исследованиям генерации плазмы в двухступенчатой газоразрядной системе с многополюсным магнитным полем в области анода. В главе представлена конструкция экспериментального макета, определены условия, при которых происходит переход сетчатого плазменного катода в режим эмиссии с открытой плазменной поверхности при наличии интенсивного обратного потока ионов, и условия, при которых нарушается устойчивость биполярного диода между катодной и анодной плазмой.

В третьей главе приведены результаты экспериментов по исследованию формирования пучка газовых ионов ионно-оптической системой с протяжённым слоем пространственного заряда между плазмой и экранным электродомпредложена основанная на использовании неэквипотенциального цилиндра Фарадея методика исследования процессов в области дрейфа пучка и их влияния на электрические измерения тока в цепи коллектора пучка и ускоряющего электрода.

Четвёртая глава посвящена описанию конструкции двухступенчатого ионного источника с сетчатым плазменным катодом, и многополюсной магнитной системой в области анода, созданного на основе проведённых исследований, и его рабочих характеристик.

Полученные результаты позволяют сформулировать следующие научные положения:

1. Использование в источнике газовых ионов двухступенчатой газоразрядной системы с сетчатым плазменным катодом на основе тлеющего разряда и многополюсным магнитным полем в области анода второй ступени обеспечивает высокую эффективность (0,5 А/кВт) генерации широких ионных пучков с равномерным (степень неоднородности не более 10%) распределением плотности тока (до 8 мА/см) по сечению пучка.

2. Вклад в увеличение частоты ионизации и тока ионов из плазмы анодной ступени с магнитным мультиполем с ростом давления газа обусловлен повышением тока эмиссии электронов в результате увеличения плотности обратного потока ионов, изменения величины и знака анодного падения потенциала в тлеющем разряде с полым катодом и перехода плазменного катода в режим эмиссии электронов с открытой плазменной границы.

3. В двухступенчатой газоразрядной системе увеличение площади сетчатого плазменного катода и соответствующее повышение потенциала катодной плазмы обеспечивает снижение давления газа, при котором происходит переход в высокоэффективный режим эмиссии электронов, а уменьшение плотности обратного ионного потока способствует повышению величины предельного давления, ограничивающего диапазон устойчивости биполярного диода между плазмой первой и второй ступени.

4. Использование неэквипотенциального цилиндра Фарадея с изменяемой полярностью потенциала стенок позволяет определить в широком диапазоне значений энергии ускоренных ионов и давления газа значение коэффициента ионно-электронной эмиссии материала коллектора ионного пучка и сечения перезарядки ускоренных ионов, а также оценить вклад процессов ионизации газа быстрыми вторичными электронами и ускоренными ионами и перезарядки ионов пучка в частоту генерации медленных ионов в области дрейфа пучка.

Результаты работы докладывались и обсуждались на 10 Международной конференции по ионным источникам (Дубна, 2003), 7 Международной конференции по модификации материалов пучками частиц и потоками плазмы (Томск, 2004 г.), 13 Международном симпозиуме по сильноточной электронике (Томск, 2004 г.) и представлены в сборниках докладов конференций [103, 109] и статьях [101, 102, 104, 105, 110, 111]. По результатам работы получено 2 патента на изобретение [100, 114].

Личный вклад соискателя состоит в создании экспериментального макета двухступенчатой газоразрядной системы, выборе методик исследования, непосредственном участии в выполнении всех этапов работы. Определение целей и задач исследований, обсуждение полученных результатов, их анализ и обобщение, редакция основных выводов и научных положений проводились совместно с научным руководителем д.т.н. Н. В. Гавриловым.

В заключение автор выражает искреннюю благодарность д.т.н. Н. В. Гаврилову, под руководством которого была выполнена данная работа, и сотрудникам лаборатории пучков частиц ИЭФ УрО РАН за помощь, оказанную при создании ионного источника и проведении экспериментов.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Gavrilov N. V., Mesyats G. A., Radkovski G. V., Bersenev V. V. Development of technological sources of gas ions on the basis of hollow-cathode glow discharges. // Surface and Coating Technology, 1997, V.96, p.81.
  2. M. Д. Физика и техника плазменных источников ионов. М.: Атомиздат, 1972.
  3. М. Атомные и ионные столкновения на поверхности металла. М.: Мир, 1967.
  4. The physics and technology of ion sources. / edited by Brown I. G. Wiley-VCH Verlag Weinheim, 2004.
  5. Ю. П. Физика газового разряда. М.: Наука, 1987.
  6. В. А. Электрический ток в газе. Установившийся ток. М.: Наука, 1971.
  7. Andrews J. G., Allen J. E. Theory of double sheath between two plasmas. // Proc. Roy. Soc. Lond. A., 1971, V.320, p.459.
  8. Goertz С. K., Joyce G. Numerical simulation of the plasma double layer. // Astrophysics and space science, 1975, V.32, p.165.
  9. Joyce G., Hubbard R. F. Numerical simulation of the plasma double layers. // J. Plasma. Physics, 1978, V.20, p.391.1. Block L. P. A double layer review. // Astrophysics and space science, 1978, V.55, p.59.
  10. Langmuir I. The interaction of electron and positive ion space charge in cathode sheaths. // Phys. Rev., 1929, V.33, p.954.
  11. А. С. Расширение рабочего диапазона давлений тлеющего разряда с полым катодом. // ЖТФ, 1984, Т.54, В.2, с. 241.
  12. G. G., Lasar N. Н., Morgan О. В., A source for the production of large dc ion currents. // Nucl. Instr. Methods, 1961, V. 10, p.263.
  13. Bacon F. M. Gas Discharge ion source 1. Duoplasmatron. // Rev. Sci. Instrum., 1978, V.49, № 4, p.427.
  14. О. В., Kelley G. G., Davis R. C. Technology of intense dc ion beam. // Rev. Sci. Instrum., 1967, V.3 8, № 4, p.467.
  15. P. А., Курсанов IO. В., Благовещенский В. M. Источник протонов высокой интенсивности. // ПТЭ, 1964, № 1, с.ЗО.
  16. R. С., Morgan О. В., Stewart L. D., Stiring W. L. A multiaperture duopigatron ion source. // Rev. Sci. Instrum., 1972, V.43, № 2, p.278.
  17. Ruffel J. P., Douglas-Hamilton D. H., Kaim R. E., Izumi K. A high current, high voltage oxygen ion implanter. //Nucl. Instrum. Methods B, 1987, V.21, p.229.
  18. Bacon F. M., Bickes R. W., O’Hagan J. B. Gas discharge ion source. II. Duopigatron. // Rev. Sci. Instrum., 1978, V.49, № 4, p.435.
  19. W. L., Tsai С. C., Ryan P. M. 15 cm Duopigatron ion source. // Rev. Sci. Instrum., 1977, V.48, p.533.
  20. Menon M. M., Tsai С. C., Whealton J. H. et. all. Quasi-steady-state multimegawatt ion source for neutral beam injection. // Rev. Sci. Instrum., 1985, V.56, № 2, p.242.
  21. M. А., Крейндель Ю. E., Новиков JI. П., Шатурин Л. П. Плазменные процессы в технологических электронных пушках. М.: Энергоатомиздат, 1989.
  22. А. М., Коржавый А. П., Москвина А. И. Долговечность алюминиевых катодов при малых давлениях газа. // Электронная техника, сер. Электровакуумные и газоразрядные приборы, 1979, В.8(77), с. 67.
  23. Л. Ю., Клярфельд Б. Н., Настич Ю. Н. Сверхплотный тлеющий разряд с полым катодом. // ЖТФ, 1966, Т.36, В.4, с. 714.
  24. А. Т. Интенсивные ионные пучки. М.: Мир, 1992.
  25. А. И., Зильберберг В. Г., Карпинос Д. М. и др. Холодные катоды для газоразрядных высоковольтных устройств из керметов на основе двуокиси циркония. // Порошковая металлургия, 1968, № 11(71), с.ЗЗ.
  26. А. А., Мельник В. И., Морозов В. В., Бесов А. В. Разработка и исследование новых катодных материалов для устройств высоковольтного тлеющего разряда. // Электронная техника, сер. Материалы, 1983, В. 10(183), с. 23.
  27. . И. Разряд с полым катодом. М.: Энергия, 1969.
  28. Ю. Е. Плазменные источники электронов. М.: Атомиздат, 1977.
  29. В. Я., Белюк С. И., Посохов В. Н. Источник газовых ионов непрерывного действия с пучком большого сечения. // ПТЭ, 1992, № 2, с. 194.
  30. . И., Прилепский В. В., Горлатов В. С. Технологический источник ионов. // ПТЭ, 1993, № 3, с. 215.
  31. Е. И., Середа Н. Д., Концевой Л. М. Двойные электрические слои в прямом разряде. // ЖТФ, 1975, Т.45, В.4, с. 789.
  32. J. С., Merlino R. L., D’Angelo N. Double layers formed by ion-beam injection in a double-plasma device. // J. Phys. D.: Appl. Phys., 1989, V.22, p.1456.
  33. А. В., Оке E. M., Щанин П. M., Юшков Г. Ю. Несамостоятельный тлеющий разряд с полым катодом для широкоапертурных ионных источников. // ЖТФ, 1997, Т.67, В.6, с. 27.
  34. Limpaecher R., MacKenzie К. R. Magnetic multipole containment of large uniform collisionless quiescent plasmas. // Rev. Sci. Instrum., 1973, V.44, № 6., p.726.
  35. Leung K. N., Hershkowitz N., MacKenzie K. R. Plasma confinement by localized cusps. // Phys. Fluids., 1976, V.19, № 7, p. i045.
  36. Holmes A. J. T. Role of the anode area in the behavior of magnetic multipole discharges. // Rev. Sci. Instrum., 1981, V.52, № 12, p. 1814.
  37. Leung K. N., Kribel R. E., Goede A. P. H., Green T. S. Primary electron confinement measurement in a multipole device. // Phys. Lett., 1978, V.66A, № 2, p.112.
  38. Cope D., Keller J. H. Characterization of multipole ion source for ion implantation. // J. Appl. Phys., 1984, V.56, № 1, p.96.
  39. В. H., Метель А. С. О механизме потерь быстрых электронов в тлеющем разряде с осциллирующими электронами. // Физика плазмы, 1982, Т.8, № 5, с. 1099.
  40. Thorton J. A. Magnetron sputtering: basic physics and application to cylindrical magnetron. // J. Vac. Sci. Technol., 1978, V.15, № 2, p. 171.
  41. Оке E. M., Чагин А. А., Щанин П. M. Плазменный источник стационарных трубчатых электронных и ионных пучков. // ПТЭ, 1992, № 2, с. 183.
  42. . Н., Неретина Н. А. Анодная область в газовом разряде при низких давлениях. // ЖТФ, 1958, Т.28, В.2, с. 291.
  43. Ehlers К. W., Leung К. N. Increasing the efficiency of multicusp ion source. // Rev. Sci. Instrum., 1982, V.53, № 9, p.1429.
  44. Ehlers K. W., Leung K. N. Characteristics of the Berkeley multicusp ion source.//Rev. Sci. Instrum., V.50, № 11, p.1353.
  45. Lee Y., Gough R. A., Kunkel W. B. A compact filament-driven multicusp ion source. //Nucl. Instrum. and Methods in Phys. Res., 1996, В 119, p.543.
  46. Ehlers K. W., Leung K. N. Further study on magnetically, filtered multicusp ion source. // Rev. Sci. Instrum., 1982, V.53, № 9, p. 1423.
  47. Fumelli M., Valckx F. P. G. The periplasmatron, an ion source for intense neutral beams. // Nucl. Instrum. Methods, 1976, V.135, p.203.
  48. Brainard J. P., O’Hagan J. B. Single-ring magnetic cusp ion source. // Rev. Sci. Instrum., 1983, V.54, № 9, p.1497.
  49. Wutte D., Freedman S., Gough R. et. all. Development of an rf driven multicusp ion source for nuclear science experiments. // Nucl. Instrum. Methods in Phys. Res., 1998, В 119, p.409.
  50. Оке E. M. Источники электронов с плазменным катодом: физика, техника, применения. Томск: Изд-во HTJI, 2005.
  51. А. П., Нархинов В. П. Плазменный эмиттер на основе тлеющего разряда в электродной структуре сетчатого и пластинчатого катодов большой площади. // ПТЭ, 1996, № 3, с. 98.
  52. Белюк С. И, Осипов И. В., Ремпе Н. Г. Промышленное применение электронных источников с плазменным эмиттером. // Изв. вузов. Физика, 2001, № 9, с. 77.
  53. А. П., Нархинов В. П. Плазменный источник электронов с радиально сходящимся пучком. // ПТЭ, 1993, № 2, с. 131.
  54. А. В., Оке Е. М., Чагин А. А. Источник электронов с плазменным катодом для генерации пучков в форвакуумном диапазоне давлений. //ПТЭ, 1998, № 2, с. 95.
  55. Н. В., Осипов В. В., Буреев О. А. и др. Плазменный катод электронного ускорителя с большим сечением пучка. // ЖТФ, 2005, Т.31, В. З, с. 72.
  56. В. Л., Крейндель Ю. Е., Оке Е. М. и др. Эмиссионные свойства анодной плазмы дугового контрагированного разряда низкого давления. // ЖТФ, 1987, Т.57, В.5, с. 877.
  57. Riemann К. U. The Bohm criterion and sheath formation. // J. Phys. D: Appl. Phys., 1991, V.24, p.492.
  58. А. В, Коваленко Ю. А., Роганов И. С., Тюрюканов П. М. Плазменный эмиттер электронов с сеточной стабилизацией. I. // ЖТФ, 1986, Т.56, В.1, с. 66.
  59. А. В, Коваленко Ю. А., Роганов И. С., Тюрюканов П. М. Плазменный эмиттер электронов с сеточной стабилизацией. И. // ЖТФ, 1986, Т.56, В.4, с. 687.
  60. Ю.Е. Разработка и применение источников интенсивных электронных пучков, Новосибирск.: Наука, 1976.
  61. Gavrilov N.V., Kuleshov S.V. A source of ribbon gas ion beams. // Proc. of 5 Conference on Modiflcstion of Materials with Particle Beams and Plasma Flow, Tomsk. «Vodoley», 2000, p. 181.
  62. Галанский В. JL, Крейдель Ю. Е., Оке Е. М. и др. Условия образования анодной плазмы дугового разряда низкого давления. // Теплофизика высоких температур, 1987, Т.25, № 5, с. 880.
  63. Н. И. Исследование газоразрядной и космической плазмы с помощью многоэлектродных зондов. // ЖТФ, 1964, Т.34, В.5, с. 769.
  64. С. Ю. Электрическая прочность ускоряющего промежутка в плазменном источнике заряженных частиц. // ЖТФ, 2000, Т.70, В. З, с. 19.
  65. Ю. Е., Никитинский В. А. Электрический пробой промежутка между плазмой и положительным электродом. // ЖТФ, 1971, Т.41, В.11, с. 2378.
  66. . Н., Тимофеев А. А., Неретина Н. А., Гусева JI. Г. Характеристики зондов при положительных потенциалах и измерение плотности газа в разряде. // ЖТФ, 1955, Т.25, В.9, с. 1581.
  67. Е. О., Malter L. A Floating Double Probe Method for Measurement in Gas Discharge. // Phys. Rev., 1950, V.80, № 1, p.58.
  68. О. В. Электрический зонд в плазме. М.: Атомиздат, 1969.
  69. Ю. А., Бурдовицин В. А., Мытников А. В., Оке Е. М. О предельном рабочем давлении плазменного источника электронов на основе разряда с полым катодом. // ЖТФ, 2001, Т.71, № 2, с. 48.
  70. Danilishin D. G., Burdovitsin V. A., Burachevskii Yu. A., Oks Е. М. Plasma expansion in the anode emission channel of an electron source. // Russian Physics Journal, 2001, V.44, № 5, p.478.
  71. Burachevskii Yu. A., Burdovitsin V. A., Kuzemchenko M. N., Mytnikov A. V., Oks E. M. Generation of electron beams in the range of forevacuum pressures. // Russian Physics Journal, 2001, V.44, № 9, p.996.
  72. В. А., Куземченко M. H., Оке Е. М. Об электрической прочности ускоряющего промежутка плазменного источника электронов в форвакуумном диапазоне давлений. // ЖТФ, 2002, Т.72, № 7, с. 134.
  73. Н. В., Бажин А. И. Физика воздействия ионных пучков на материалы. М.: Вузовская книга, 1998.
  74. В. И., Крейндель М. Ю., Оке Е. М. и др. К вопросу о зарядовой компенсации широкоапертурных ионных пучков. // Тез. докл. 9 Симпозиума по сильноточной электронике, (Научно-техническая редакция «Гиперокс», Россия, 1992, с. 117.
  75. М. Д. Ионно-пучковая плазма и распространение интенсивных компенсированных ионных пучков. // Успехи физических наук, 1977, Т. 121, В.2, с. 259.
  76. Оке. Е. М., Юшков Г. Ю. Влияние ионизации остаточного газа на электрические измерения тока ионного пучка. // Тез. докл. 9 Симпозиума по сильноточной электронике, (Научно-техническая редакция «Гиперокс», Россия, 1992, с. 90.
  77. J. Н., L. R. Grisham, Tsai С. С., Stirling W. L. Effect of preacceleration voltage upon ion-beam divergence. // J. Appl. Phys. 49(6), 1978, p.3091.
  78. Medows G. A., Free B. A. Effect of a decel electrode on primary and charge-excharge ion trajectories. //AIAA Paper, 1975, № 75 427.
  79. P. А., Курсанов Ю. В., Скрипаль JI. П. Эмиссия ионов из плазменного-пучкового разряда. //ЖТФ, 1970, т. XL, в. 7, с. 1351.
  80. В. Я. Эмиссия ионов из неравновесной плазмы. //Известия высших учебных заведений, 2001, № 9, с. 90.
  81. Н. В., Никулин С. П., Радковский Г. В. Источник интенсивных широких пучков ионов газов на основе разряда с полым катодом в магнитном поле. //ПТЭ, 1996, № 1, с. 93.
  82. Ю. А. Физические принципы построения и методы расчёта газонаполненных ускоряющих систем с плазменными эмиттерами заряженных частиц. // Дисс. На соискание учёной степени доктора физ.-мат. Наук. Москва. 1995.
  83. . М. Асимптотические методы в теории атомных столкновений. //М.: Атомиздат, 1973, с. 185.
  84. Дж. Хаствед. Физика атомных столкновений. // М.: Мир, 1965 / пер. с анг. Флакса И. П., под ред. Федоренко Н. В.
  85. Патент РФ № 2 240 627. Ионный источник с холодным катодом. / Гаврилов Н. В., Каменецких А. С. / Заявл. 02.06.2003. Опубл. 20.11.2004. Бюл. № 32.
  86. Н. В., Каменецких А. С. Ионно-эмиссионные свойства плазмы источника ионов газов с плазменным катодом. // ДАН, Физика, 2004, Т.394, № 2, с. 1.
  87. Н. В., Каменецких А. С. Характеристики источника, с плазменным катодом и многополюсной магнитной системой удержания быстрых электронов. // ЖТФ, 2004, Т.74, В.9, с. 97.
  88. Gavrilov N. V., Kamenetskikh A. S. The feature of gridded plasma cathodethoperation at ion sources. // Proc. of 13 International Symposium on High Current Electronics, Tomsk, 2004, p.45.
  89. H. В., Каменецких А. С. Особенности функционирования плазменного катода с сеточной стабилизацией в двухступенчатом ионном источнике. //ЖТФ, 2006, Т.76, В.2, с. 57.
  90. Gavrilov. N. V., Kamenetskikh A. S. Glow-discharge-driven bucket ion source. // Rev. Sci. Instum., 2004, V.75, № 5, p. 1875.
  91. W. Ecktein. Calculated sputtering, reflection and range values. // IPP.9/117, 1998.
  92. А. В., Оке E. M., Юшков Г. Ю. Ионно-эмиссионные свойства несамостоятельного разряда с полым катодом. // Известия вузов. Физика, 1999, № 2, с. 14.
  93. Vizir А. V., Oks Е. М., Shandrikov М. V., Yushkov G. Yu. Effective source of high purity gaseous plasma. // Proc. of 7th International conference on modification of material with particle beams and plasma flow, Tomsk, 2004, p.81.
  94. Gavrilov N. V., Kamenetskikh A. S. A broad beam ion source with a gridthbounded plasma cathode. // Proc. of 7 International Conference on Modification of Material with Particle Beams and Plasma Flows, Tomsk, 2004, p.61.
  95. H. В., Каменецких А. С., Мамаев А. С. Разработка источников ионов для ионно-плазменных технологий нанесения покрытий. // Вестник УГТУ-УПИ, 2004, № 5 (35), 4.2, с. 195.
  96. Н. В., Каменецких А. С. Источник ионов газов с сетчатым плазменным катодом. // ПТЭ, 2005, № 2, с. 107.
  97. Ю. П. Источники ионов для реактивного ионно-лучевого травления и нанесения плёнок. // Электронная промышленность, 1990, № 5, с. 15.
  98. Ю. П. Источники ионов и ионно-лучевое оборудование для нанесения и травления материалов. // Вакуумная техника и технология, 1992, Т.2, № 4, с. 53.
  99. Патент РФ № 2 250 577 Газоразрядный плазменный катод. / Гаврилов Н. В., Каменецких А. С. / Заявл. 15.07.2003. Опубл. 20.04.2005. -Бюл. № 11.
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!