Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Источник электронов на основе разряда с полым катодом для генерации пучков в форвакуумном диапазоне давлений

Диссертация: Источник электронов на основе разряда с полым катодом для генерации пучков в форвакуумном диапазоне давлений
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Развитие новых и совершенствование суш-ествуюш-их технологий модификации поверхностных свойств конструкционных материалов, связанных с использованием электронных пучков, стимулирует разработку новых источников электронов. В настоящее время созданы электронные пушки, генерирующие электронные пучки с широким спектром рабочих параметров и применяющиеся в различных технологических процессах… Читать ещё >

Источник электронов на основе разряда с полым катодом для генерации пучков в форвакуумном диапазоне давлений (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • Введение
  • ГЛАВА 1. РАЗРЯД С ПОЛЫМ КАТОДОМ ДЛЯ ГЕНЕРАЦИИ ПУЧКОВ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ
    • 1. 1. Физические особенности тлеющего разряда с полым катодом
    • 1. 2. Особенности эмиссии электронов из плазмы разряда с полым катодом при повышенных давлениях
      • 1. 2. 1. Общие особенности эмиссии электронов из плазмы
      • 1. 2. 2. Особенности эмиссии из разряда с осцилляцией электронов
      • 1. 2. 3. Особенности эмиссии электронов в условиях повышенных давлений
        • 1. 2. 3. 1. Электрическая прочность ускоряющего промежутка
        • 1. 2. 3. 2. Обратный поток ионов
    • 1. 3. Генерация электронных пучков при повышенных давлениях газа
    • 1. 4. Выводы и постановка задач исследований
  • ГЛАВА 2. РАЗРЯД С ПОЛЫМ КАТОДОМ В
  • ФОРВАКУУМНОМ ДИАПАЗОНЕ ДАВЛЕНИЙ ДЛЯ ПЛАЗМЕННЫХ ИСТОЧНИКОВ ЭЛЕКТРОНОВ
    • 2. 1. Параметры и характеристики тлеющего разряда с полым катодом в форвакуумном диапазоне давлений
    • 2. 2. Разряд с полым катодом в аксиальном магнитном поле
    • 2. 3. Влияние эмиссии на параметры разряда с полым катодом
    • 2. 4. Выводы
  • ГЛАВА 3. ГЕНЕРАЦИЯ ЭЛЕКТРОННЫХ ПУЧКОВ В
  • ИСТОЧНИКЕ НА ОСНОВЕ РАЗРЯДА С ПОЛЫМ КАТОДОМ В ФОРВАКУУМНОМ ДИАПАЗОНЕ ДАВЛЕНИЙ
    • 3. 1. Общая характеристика источника электронов
    • 3. 2. Повышение рабочего давления источника электронов
      • 3. 2. 1. Влияние размера ячейки эмиссионной сетки на предельное рабочее давление источника электронов
      • 3. 2. 2. Влияние длины ускоряющего промежутка на предельное давление источника электронов
    • 3. 3. Анализ эмиссионных процессов при отборе электронов из плазмы разряда с полым катодом в форвакуумном диапазоне давлений
    • 3. 4. Влияние аксиального магнитного поля на эмиссионные процессы, предельное рабочее давление и электрическую прочность ускоряющего промежутка
    • 3. 5. Извлечение электронов через семейство каналов анодного электрода
    • 3. 6. Эффект возрастания электрической прочности промежутка в присутствии электронного пучка
    • 3. 7. Выводы
  • ГЛАВА 4. ИСТОЧНЖ ЭЛЕКТРОНОВ И
  • ЕГО ПРИМЕНЕНИЕ ДЛЯ РЕАЛИЗАЦИИ ПУЧКОВО-ПЛАЗМЕННОГО РАЗРЯДА И ТЕХНОЛОГИИ МОДИФИКАЦИИ ПОВЕРХНОСТИ КОНСТРУКЦИОННЫХ МАТЕРИАЛОВ
    • 4. 1. Конструкция источника электронов
    • 4. 2. Оптимизация геометрии разрядной системы и ускоряющего промежутка для повышения эффективности эмиссии источника электронов
    • 4. 3. Реализация пучково-плазменного разряда с помощью электронного пучка генерируемого созданным источником электронов
      • 4. 3. 1. Пучково-плазменный разряд. Электрофизический аспект
      • 4. 3. 2. Пучково-плазменный разряд. Химический аспект
      • 4. 3. 3. Исследование динамики изменения функции распределения электронов
      • 4. 3. 4. Зондовые измерения параметров плазмы ПНР
    • 4. 4. Исследование процесса осаждения алмазоподобных покрытий посредством диссоциации метана в плазме ПНР
      • 4. 4. 1. Методы плазменного осаждения алмазоподобных покрытий
      • 4. 4. 2. Осаждение углеродосодержащей фазы на стеклянные подложки
    • 4. 4. 3, Осаждение АНН на кремниевые подложки
      • 4. 4. 4. Анализ АПП полученных путем диссоциации метана в плазме ПНР
    • 4. 5. Выводы

Развитие новых и совершенствование суш-ествуюш-их технологий модификации поверхностных свойств конструкционных материалов, связанных с использованием электронных пучков, стимулирует разработку новых источников электронов. В настоящее время созданы электронные пушки, генерирующие электронные пучки с широким спектром рабочих параметров и применяющиеся в различных технологических процессах — термической обработке, пайке, электроннолучевой сварке, осаждении покрытий, получении новых материалов, плазмохимической технологии и т. д. Традиционный диапазон рабочих давлений большинства современных электронных источников находится в пределах 10″ Л-1 мТорр. Создание электронной пушки, надежно функционирующей и обеспечивающей стабильные характеристики г электронного пучка при более высоких давлениях — в форвакуумном диапазоне, позволило бы существенно расширить возможности установок электронно-лучевой технологии, а также отказаться от использования дорогостоящих диффузионных и турбомолекулярных насосов. В первую очередь это относится к установкам плазмохимической технологии, в которых диапазон рабочих давлений в зоне реакции составляет 10 мТорр

1гр г~ и С" U.

Topp. Задача повышения верхней границы диапазона давлений в рабочей зоне плазмохимического реактора является крайне актуальной, так как производительность установки и рентабельность технологии определяется скоростью прокачки рабочего газа. Практически во всех существующих установках плазмохимической технологии, область генерации пучка и зона реакции разделяется сложной и дорогостоящей системой дифференциальной откачки. Осуществление генерации электронов в форвакуумном диапазоне давлений, позволило бы отказаться от использования систем дифференциальной откачки и сделать технологический процесс более простым, надежным и рентабельным. Обеспечение требуемых параметров электронного пучка и соблюдение необходимых технологических режимов в тяжелых вакуумных условиях (форвакуумный диапазон давлений), присутствие интенсивного обратного потока ионов, разрушающего катод, наличие химически агрессивной среды предъявляют особые требования, которым существующие электронные источники не удовлетворяют в полной мере. Электронные пушки с термокатодом в силу известных недостатков не могут быть использованы для работы в подобных условиях. Из плазменных источников электронов в аналогичных режимах работают источники на основе высоковольтного тлеющего разряда. Однако они имеют целый ряд недостатков — низкий к.п.д., большой разброс электронов по скоростям, сильную взаимосвязь основных параметров и т. д. В этом отношении гораздо лучшими характеристиками обладают источники на основе тлеющих разрядов, в частности разряд с полым катодом. В то же время, отсутствуют сведения о работе таких источников в форвакуумном диапазоне давлений.

В последние годы большой интерес вызывает возможность создания неравновесных условий в области протекания химической реакции в плазмохимических реакторах на основе стационарного пучково-плазменного разряда. Использование коллективных процессов в плазме для нагрева электронов в зоне реакции, открывает новые перспективные методы решения задач современной химии. Проблема реализации пучково-плазменного разряда в установках плазмохимической технологии для осуществления различных реакций диссоциации и синтеза имеет огромное значение в прикладном отношении, так как её решение позволит реализовать новые технологические процессы.

Таким образом, тематика диссертационной работы, посвященная исследованию оптимальных условий создания газоразрядной плазмы, особенностей эмиссии электронов из плазмы разряда и их ускорения в условиях высоких давлений, процессов транспортировки электронного пучка в форвакуумном диапазоне давлений, влияния магнитного поля на процессы генерации и транспортировки пучка, поиск условий зажигания пучково-плазменного разряда и изучение параметров пучковой плазмы, разработку на основе проведенных исследований простой и надежно функционирующей электронной пушки, использующей только механические средства откачки, реализацию оптимальных условий для осуществления плазмохимических реакций на базе разработанного источника электронов представляется актуальной.

Основными задачами данной работы являются:

1. Исследование параметров тлеющего разряда с полым катодом в форвакуумном диапазоне давлений, в условиях эмиссии электронов, с магнитным полем и без него.

2. Исследование условий стабильной генерации электронного пучка в разрядно-эмиссионной системе на основе разряда с полым катодом в форвакуумном диапазоне давлений.

3. Исследование процесса формирования и распространения электронного пучка в форвакуумном диапазоне давлений и определение оптимальных условий зажигания пучково-плазменного разряда.

4. Создание простой и надежной конструкции электронного источника обеспечивающей стабильные характеристики электронного пучка в форвакуумном диапазоне давлений.

5. Реализация реакции диссоциации углеродосо держащих газов для осаждения алмазоподобных покрытий с использованием созданного источника электронов.

Научная новизна работы заключается в том, что:

1. Исследованы эмиссионные свойства и характеристики тлеющего разряда с полым катодом в форвакуумном диапазоне давлений в магнитном поле.

2. Определены оптимальные условия извлечения электронов из плазмы тлеющего разряда с полым катодом и генерации электронного пучка в форвакуумном диапазоне давлений.

Практическая ценность работы заключается в том, что на основе проведенных исследований создан простой и надежный источник электронов, который позволяет получать электронный пучок со стабильными параметрами в форвакуумном диапазоне давлений, на основе эмиссии электронов из разряда в остаточном давлении рабочего газа, без использования дифференциальной системы откачки. На базе разработанной пушки и реализованного с её помощью пучково-плазменного разряда, созданы основы технологии осаждения алмазоподобных покрытий.

Диссертационная работа состоит из четырёх глав.

В первой главе на основании критического анализа литературных данных рассмотрены физические особенности разряда с полым катодом, особенности эмиссии из плазмы разряда с осциллирующими электронами при повышенном давлении, современный уровень развития источников электронов различных типов и способы генерации электронных пучков при повышенном давлении газа. В заключении главы формулируются задачи исследований.

Во второй главе приводятся результаты экспериментальных исследований параметров тлеющего разряда с полым катодом в зависимости от рода и давления газа, величины магнитного поля. Представлены результаты исследования разряда с полым катодом в условиях эмиссии электронов в форвакуумном диапазоне давлений.

Третья глава посвящена исследованию процесса генерации электронного пучка из плазмы тлеющего разряда с полым катодом в форвакуумном диапазоне давлений. Представлены экспериментальные результаты поиска путей повышения рабочего давления электронного источника, приводятся результаты исследования влияния различных факторов — геометрии разрядно-эмиссионной системы, аксиального магнитного поля, типа анода на генерацию электронного пучка, способы увеличения электрической прочности ускоряющего промежутка и стабилизации плазменной границы. Обсуждаются механизмы стабилизации плазменной границы слоем пространственного заряда при наличии обратного потока ионов, а также возрастания электрической прочности ускоряющего промежутка в присутствии электронного пучка.

В четвертой главе приведена конструкция и параметры разработанного в результате проведенных исследований плазменного источника электронов на основе тлеющего разряда с полым катодом, функционирующего в диапазоне давлений 10−100 мТорр, представлены результаты экспериментов по зажиганию пучково-плазменного разряда с помощью разработанного электронного источника без использования дифференциальной системы откачки. Приводятся конкретные результаты технологического применения созданного устройства — осаждения алмазоподобных покрытий посредством диссоциации метана в плазме пучкового разряда. 7.

Основываясь на полученных результатах, можно сформулировать следующие защищаемые научные положения:

1. Сочетание в источнике электронов разрядной системы с полым катодом и плоскопараллельного ускоряющего промежутка, разделенных друг от друга экранирующей металлической сеткой, позволяет осуществить генерацию широкоапертурного электронного пучка в форвакуумном диапазоне давлений в отсутствие перепада давлений между разрядным и ускоряющим промежутками.

2. Достижение максимального рабочего давления источника электронов при сохранении высокой эффективности извлечения электронов с заданной энергией определяется оптимальным соотношением размеров ячейки сетки, длины ускоряющего промежутка и величиной магнитного поля в области формирования пучка.

3. В форвакуумном диапазоне давлений электрическая прочность ускоряющего промежутка источника электронов повышается в присутствии электронного пучка, что обусловлено локальным нагревом газа в области ускоряющего промежутка.

4. Электронный источник на основе разряда с полым катодом обеспечивает генерацию непрерывного электронного пучка с током до 1 А и энергией до 10 кэВ в области рабочих давлений, достигающих 100 мТорр.

Результаты работы докладывались и обсуждались на 26 и 28 Международных конференциях по физике плазмы (Монтерей, Калифорния, США, 1999; Лас Вегас, Невада, США, 2001), 14 и 15 Международных симпозиумах по плазмохимии (Прага, Республика Чехия, 1999, Орлеан, Франция, 2001), 12 Международном симпозиуме по сильноточной электронике (Томск, Россия, 2000), 5 Международной конференции по модификации свойств конструкционных материалов пучками частиц и потоками плазмы (Томск, Россия, 2000), 3 Международном симпозиуме по прикладным плазменным технологиям (Фаирбанкс, Аляска, США, 2001).

Результаты диссертационной работы представлены в статьях, опубликованных и принятых к печати [70,71,135], в сборниках докладов международных конференций [123−126, 132−134].

Личный вклад автора состоит в создании экспериментальной установки, выборе методик эксперимента, проведении экспериментальных исследований и анализе их результатов. Автором самостоятельно выдвинуты защищаемые научные положения, сделаны выводы и даны рекомендации по результатам исследований на основании которых созданы и оптимизированы форвакуумный источник электронов и генератор плазмы на основе ППР, проведены эксперименты по осаждению и анализу алмазоподобных покрытий на основе генератора плазмы на основе ППР.

Обсуждение задач исследований, методов их решения и результатов осуш-ествлялось совместно с соавторами, фамилии которых указаны в опубликованных по теме диссертации работах.

В заключении автор искренне благодарит Е. М. Окса и В. А. Бурдовицина, под руководством которых была выполнена данная работа.

Автор признателен доценту Бурачевскому Ю. А. за помош-ь в проведении экспериментов и доценту Осипову И. В. за ценные замечания при обсуждении результатов экспериментов.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

.

Показать весь текст

Список литературы

  1. . И. Разряд с полым катодом. М.: Энергия, 1969.
  2. М.Д. Физика и техника плазменных источников ионов. М.: Атомиздат, 1972.
  3. М. А. Крейндель Ю.Е. Новиков A.A. Шантурин Л. П. Плазменные процессы в технологических электронных пушках. М.: Энергоатомиздат, 1989.
  4. A.C. Влияние ионизации в катодном слое на характеристики тлеющего разряда с осциллирующими электронами // ЖТФ, 1985, Т. 55, № 10, с. 1928−1934.
  5. В. Г., Метель A.C. Тлеющий разряд с полым катодом при вакуумном режиме катодной полости // ТВТ, 1984, Т.22, № 3, с. 444−448.
  6. В.Н., Метель A.C. О механизме потерь быстрых электроновв тлеющем разряде с осциллирующими электронами // Физика плазмы, 1982, Т.8,№ 5, с. 1099−1104.
  7. А. С. Расширение рабочего диапазона давлений тлеющего разряда с полым катодом // ЖТФ, 1984, Т.54, № 2, с. 241−247.
  8. В.Г., Метель A.C. Влияние магнитного поля на распределение катодного тока в тлеющем разряде с осциллирующими электронами // ТВТ, 1983, Т. 21, № 6, с. 1071−1075.
  9. В.П., Метель A.C. Инверсия катодной полости тлеющего разряда в магнитном поле // ЖТФ, 1981, Т.51, № 5, с. 932−939.
  10. В. Г., Метель A.C. Влияние граничных условий на характеристики тлеющего разряда с полым катодом // ЖТФ, 1982, Т.52,3, с. 442−445.
  11. И. Кириченко В. И., Ткаченко В. М., Тютюнник А. Д. Влияние размеров, материала катода и рода газа на оптимальное давление цилиндрического разряда с полым катодом // ЖТФ, 1976, Т.46, № 9, с. 1857−1867.
  12. Оке Е. М. Условия образования и эмиссионные свойства объемной плазмы дугового разряда низкого давления. Диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук, Томск, 1985.
  13. Оке Е. М. Основы физики низкотемпературной плазмы, Томск.: 1997.
  14. A.B. Коваленко Ю. А. К теории электронных коллекторов в газовом разряде // ЖТФ, 1986, Т. 56, № 4, с. 681−686.
  15. A.B., Коваленко Ю. А., Роганов И. С., Тюрюканов П. М. Плазменный эмиттер электронов с сеточной стабилизацией. 1 // ЖТФ, 1986, Т. 56, № 1, с. 66−71.
  16. В.Л., Крейндель Ю. Е., Оке Е.М., Рипп А. Г., Щанин П. М. Эмиссионные свойства анодной плазмы дугового контрагированного разряда низкого давления // ЖТФ, 1987, Т. 57, № 5, с.877−882.
  17. В.Л., Крейндель Ю. Е., Оке Е.М., Рипп А. Г. Анализ эмиссионных свойств плазменного катода // ЖТФ, 1987, Т.57, № 8, с. 15 181 521.
  18. A.B., Коваленко Ю. А., Роганов И. С., Тюрюканов П. М. Плазменный эмиттер электронов с сеточной стабилизацией. 2 // ЖТФ, 1986, Т.56, № 4, с. 687−693.
  19. Ю.А., Роганов И. С. Исследование сравнительных характеристик плазменных эмиттеров электронов. Плазменная эмиссионная электроника. Материалы 1 Всесоюзного совещания по плазменной эмиссионной электронике. 17−24 июня, 1991, Улан-Удэ, с. 138−141.
  20. A.C. Плазменный источник электронов с секционированным холодным полым катодом // ПТЭ, 1987, № 1, с. 164−167.
  21. Жаринов А, В. Никонов СВ. Положительно заряженная плазма в разряде со скрещенными полями // ЖТФ, 1988, Т. 58, № 7, с. 1268−1273.
  22. A.C. Особенности установления квазистационарного состояния сильноточного тлеющего разряда с полым катодом при пониженных давлениях газа // ЖТФ, 1986, Т. 56, № и, с. 2329−2339.
  23. Оке Е.М., Чагин A.A. Сильноточный магнетронный разряд в плазменном эмиттере электронов // ЖТФ, 1988, Т. 58, № 6, с. 1191−1193.
  24. Оке Е. М. Генерирование сильноточного трубчатого электронного пучка микросекундной длительности в источнике с плазменным катодом // ЖТФ, 1989, Т. 59, № 10, с. 188−190.
  25. Оке Е.М., Чагин A.A. Эмиссионные свойства плазмы сверхплотного тлеющего разряда, возбуждаемого в скрещенных Е-Н полях // ЖТФ, 1991, Т. 61, № 6, с. 204−206.
  26. В.Л., Груздев В. А., Осипов И. В., Ремпе Н. Г. Источники электронов с плазменным эмиттером на основе отражательного разряда с полым катодом // Известия ВУЗов. Физика, 1992, Т. 35, № 5, с. 5−23.
  27. Техника высоких напряжений. Под редакцией Разевига Д.В. М. Энергия, 1976, 488 с.
  28. Г. Электрофизика. М.: Мир, 1972, 608 с.
  29. Ю.П. Физика газового разряда. М.: Наука, 1992, 536с.
  30. И.Н. Электроизоляция и разряд в вакууме. М.: Атомиздат, 1972, 304 с.
  31. К. Физическая электроника. М.: Энергия, 1977, с.413−472.
  32. Крейндель Ю, Е., Никитинский В. А. Электрический пробой промежутка между плазмой и положительным электродом // ЖТФ, 1971, Т. 41, № 11, с. 2378−2382.
  33. Ю.Е. Об условиях электрического пробоя газовых промежутков низкого давления // ЖТФ, 1972, Т.26, № 12, с. 897−898.
  34. Ю.Е. О параметрах пробоя диодов с плазменным катодом // Известия ВУЗов. Физика, 1974, № 2, с. 149−151.
  35. В.А., Крейндель Ю. Е., Ларин Ю. М. Влияние ионизации газа в высоковольтном промежутке с плазменным катодом на положение эмиттирующей поверхности плазмы // ЖТФ, 1973, Т. 43, № 11, с. 2318−2323.
  36. СЮ. Электрическая прочность ускоряющего промежутка в плазменном источнике заряженных частиц // ЖТФ, 2000, Т. 70, № 3, с. 19−23.
  37. СЮ. Стационарные состояния плотной ионно-пучковой плазмы // Физика плазмы, 1996, Т. 22, № 2, с. 149−156.
  38. Г. И., Завьялов М. А., Неганова Л. А., Тезиков П. Ф., Цхай В. Н. К вопросу о формировании и транспортировке электронного пучка в газе // Радиотехника и электроника. 1984, Т. 29, № 8, с. 1634−1636.
  39. .Н., Гусева Л. Г., Покровский, Соболев. Тлеющий разряд при низких давлениях и плотностях тока до 0,1 АсмА // ЖТФ, 1966, Т. 41, № 4, с. 704−713.
  40. Ю.М. Отбор электронов из плазмы при ионизации газа в ускоряющем промежутке. Диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук, Томск.: 1974.
  41. .Н. и др. Характеристики зондов при положительных потенциалах и измерение плотности газа в разряде // ЖТФ, 1955, Т. 25, № 9, с. 1581.
  42. Материалы Международной Конференции по Электронно-Лучевым
  43. Технологиям, Болгария, Варна, 26 Мая-2 Июня, 1985.
  44. Шиллер 3., Гайзиг У., Панцер 3. Электронно-лучевая технология. М.: Энергия, 1980.
  45. М.А., Лукьянов Л. А., Мурашов A.C. и др. Электронные пушки для технологии // Электротехника, 1983, № 7, с.66−68.
  46. М.А., Иванова Т. С., Лукьянов Л. А. и др. Электронная пушка мощностью 500 кВт. Универсальная электронная пушка мощностью 100 кВт // ПТЭ, 1980, № 2, с. 223.
  47. Г. А., Мельников А. И., Морозов А, В, Никонов Б.П, Термоэлектронные катоды, М: Энергия, 1966, 366 с.
  48. Рыбас К, П, Электронные пушки и термоэлектронные катоды, используемые в ускорителях электронов. Л.: Препринт НИИЭФА, 1977, 15с.
  49. Denholm A. S., Quintal B. S, Fratinger W, A, Pulsed and continuous beam electrocurtain systems, 1973, Energy Sciences Inc,
  50. Воронин Г. Г, Солнышков А, И. Распределительные катоды в дуоплазмотронных источниках ионов. Л.: 1980, Препринт НИИЭФА, 17 с.
  51. Ю.Е. Плазменные источники электронов. М.: Атомиздат, 1977.
  52. СИ., Сушков А. Д. Интенсивные электронные и ионные пучки. М.: Энергоатомиздат, 1991, 304 с.
  53. СП., Крейндель Ю. Б., Щанин П. М. Электронные пучки большого сечения. М.: Энергоатомиздат, 1984, 112 с.
  54. Kreindel Yu.B., Nikitinsky V.A. The constricted discharge of low pressш: e with the cathode spot in magnetic field // Proc. Intern. Conf. of Phenomena in Ionized Gases, Oxford, 1971, p. 217.
  55. .А., Лебедева Н. И., Месяц Г. А. Взрывоэмиссионный наносекундный источник низкоэнергетичных электронов для поверхностного нагрева материалов. Тез. докладов Всесоюзн. Сипмоз. По ненакаливаемым катодам. Томск, 1980, с. 74−75.
  56. А.А. Источники электронов высоковольтного тлеюп-его разряда с анодной плазмой, М.: Энергоатомиздат, 1983.
  57. А.А., Мельник В.И, Морозов В. В, Разработка и исследование новых катодных материалов для устройств ВТР // Электронная техника, 1983, Сер. 6, № 10, с, 23−26,
  58. Новиков А, А, Дучал В, Я, Захарченко М. Г, Электронная пушка на основе высоковольтного тлеющего разряда с анодной плазмой // Автоматическая сварка, 1979, № 10, с. 69−70.
  59. СИ., Демидов В. М., Каплан А. А. Мощная электронно-лучевая сварочная пушка с плазменным эмиттером // Автоматическая сварка, 1982, № 1, с. 74−76.
  60. В.А., Крейндель Ю. Б., Ремпе Н. Г., Троян О. Е. Электронная пушка с плазменным эмиттером // ПТЭ, 1985, № 1, с. 140−142.
  61. Ильюшенко В. В, Ремпе Н. Г. Сильноточный электронный источник с плазменным эмиттером // ПТЭ, Т. 37, № 4, с, 73−77.
  62. Белюк СИ, Крейндель Ю. Е., Ремпе Н, Г. Исследование возможности расширения области давлений рабочего газа плазменного источника электронов // ЖТФ, 1980, Т. 50, № 1, с. 203−205,
  63. Ремпе Н. Г, Управление параметрами электронного эмиттера с плазмой, ограниченной пристеночным ионным слоем. Диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук, Томск, 1985.
  64. Источники электронов с плазменным эмиттером. Сб. под редакцией Крейнделя Ю. Е. Наука, Сибирское отделение, Новосибирск, 1983, с.5−40.
  65. Белюк С, И, Груздев В, А, Крейндель Ю. Е, Автоматическая сварка, 1998, Вып, 11, с 72,
  66. Koval N, N., Oks Е, М., Shanin Р. М, Nuti, Instrum. And Methods in Physical Research. 1992, v. A 312, p. 147.
  67. A. В., Оке E. M., Чагин A. A. Источник электронов с плазменным катодом для генерации пучков в форвакуумном диапазоне давлений // ПТЭ, 1998, № 2, с. 95−98.
  68. В.А., Бурачевский Ю. А., Мытников A.B., Оке Е.М. О предельном рабочем давлении плазменного источника электронов на основе разряда с полым катодом // ЖТФ, 2001, Т. 71, в. 2, с. 48−50.
  69. В.А., Крейндель Ю. Е. Разработка и применение источников интенсивных электронных пучков. Новосибирск.: Наука, 1976, с. 130−135.
  70. Левитский СМ, Сборник задач и расчетов по физической электронике, Изд-во Киевского Университета, 1964, 212 с,
  71. Mathcad 6.0 PLUS. Финансовые, инженерные и научные расчеты в среде Windows 95. Перевод с англ, М: Информационно-издательский дом «Филинъ», 1996. 712 с.
  72. Грановский В. Л, Электрический ток в газе. Установившийся ток. Наука, М.: 1971, с, 426−441.
  73. М. В. Динамика пучков в плазме. М.: Энергоатомиздат, 1982.264с.
  74. А. А. Физика химически активной плазмы // Физика плазмы, 1975, Т. 1,№ 1, с. 147−159.
  75. П. М., Онищенко И. Н., Ткач Ю. В., Файнберг Я. Б., Шевченко В. И. Теория плазменно-пучкового разряда // Физика плазмы, 1976, Т. 2,№ 3,с. 407−413.
  76. А. А., Лейман В. Г О зажигании пучково-плазменного разряда мощным электронным пучком в газе большой плотности // Физика плазмы, 1977, Т. 3,№ 4, с. 780−785.
  77. А. А., Соболева Т. К., Электронные пучки в плазме // сб. Химия плазмы под редакцией профессора Смирнова Б. М., № 3, М.: Атомиздат, 1976, с. 240.
  78. С. И., Никифоров В. А., Физико-химические процессы в стационарном плазменно-пучковом разряде // сб. Химия плазмы под редакцией профессора Смирнова Б, М., № 9, М.: Энергоиздат, 1982, с. 179 206.
  79. А. А. Неравновесная плазма для химии // в сб. Итоги науки и техники, серия Физика Плазмы, Т. 3, с. 176−238.
  80. С. И., Попович В. П., Харченко И. Ф., Формирование пучково-плазменного разряда при инжекции электронного пучка в поток газа // Физика плазмы, 1976, Т.2, № 2, с. 272−276.
  81. В. П., Харченко И. Ф., Шустин Е. Г. Пучково-плазменный разряд без магнитного поля // Радиотехника и электроника, 1973, Т. 18, № 3, с. 649−651.
  82. А. А., Соболева Т. К, Юшманов П. П., Перспективы использования плазменно-пучкового разряда в плазмохимиии // Физика плазмы, 1977, Т. З, № 1, с. 152−162.
  83. В. М. и др Экспериментальное исследование пучково-плазменного разряда с целью проведения плазмохимических реакций // Физика плазмы, 1979, Т.5, № 1, с. 204−210.
  84. В. М. и др. Исследование реакции диссоциации СИ в неравновесной плазме стационарного плазменно-пучкового разряда // Физика плазмы, 1979, Т. 5, № 3, с. 663−669.
  85. В. М. и др. Восстановление металлов в плазме стационарного пучково-плазменного разряда // ЖТФ, 1979, Т. 49, № 11, с. 2311−2320.
  86. К. К., Иванов А. А., Северный В. В., Шапкин В. В. Экспериментальное исследование некоторых характеристик пучково-плазменного разряда в скрещенным электрическом и магнитном полях // Физика плазмы, 1979, Т.5, № 5, с. 1029−1034.
  87. Л. Ю. Ускорение электронов в пучково-плазменном разряде // Физика плазмы, 1985, Т.11, № 5, с. 622−625.
  88. В. С, Коваленко В. П., Парнета И. М. Пучково-плазменный разряд без магнитного поля со встречными электронными пучками // Письма в ЖТФ, Т. 10, № 22, с. 1398−1401.
  89. В.Н., Никитин Е.Е, Кинетика и механизм газофазных реакций, М.: 1975, 559 с,
  90. С. Г, и др. Исследование пучково-плазменного разряда в установках с различными параметрами // Физика плазмы, 1984, Т, 10, № 5, с. 1010−1013.
  91. В.К. Исследование пучково-плазменного разряда путем измерения параметров мягкого рентгеновского излучения // в сб. Диагностические методы в плазменных исследованиях, МИФИ, М., Энергоатомиздат, 1983, с. 54−59.
  92. Диагностика плазмы. Под редакцией Хадлстоуна Р. и Леонарда С. М.: Мир, 1967.
  93. О. В. Электрический зонд в плазме. М.:Атомиздат, 1969,291 с.
  94. . В., Котельников В. А. Зондовый метод диагностики плазмы. М.: Энергоатомиздат, 1988,240 с.
  95. Алмаз в электронной технике. Сборник статей под редакцией В. Б. Кваскова. М.: Энергоатомиздат, 1990.
  96. К. С, Nastasi М., Munson С. Adherent diamond-like carbon coatings on metals via plasma source ion implantation // Surface and Coatings Technology, 97,1997, p. 287−291.
  97. Д. В. Успехи Химии. 1984, Т.53, № 5, с. 751−753.
  98. Д. В., Дерягин Б. В. Осаждение алмазоподобных пленок из газовой фазы, активированной электрическим разрядом // Доклады академии наук, 1988, Т. 300, № 3, с. 629.
  99. Carter Р. Manson, Rej D.J., Blake P. Wood. Recent advances in plasma source ion implantation at Los Alamos National Laboratory // Surface and Coating technology, 84, 1996, p. 528−536.
  100. Simone Anders, Andre Anders, Michael R. Dickinson, Robert A. MacGill and Ian G. Brown. S-shaped Magnetic Macroparticle filter for cathodic arc deposition /
  101. IEEE Transactions on Plasma Science, vol. 25, № 4, August, 1997, p. 670−674.
  102. Keidar M., Beilis I.I., Boxman R.L. and Goldsmith S. Transport of ma’croparticles in magnetized plasma ducts // IEEE Trans. Plasma Sci., 1996, Vol. 24, № 1, p. 226−234.
  103. Wood B. P., Rej D. J., Davis H. A. Large-scale implantation and deposition research at Los Alamos National Laboratory // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research В 96,1995, p. 429−434.
  104. Bystritskii V. M., Mytnikov A. V., Volkov S.N. A thin film preparation using focused high-power ion beam // Proceedings of 11* International Conference on High Power Particle Beams, Prague, Czech Republic, June, 10−14, 1996.
  105. Ensinger W. An apparatus for sputter coating the inner walls of tubes // Rev. Sci. Instrum., January 1996, Vol. 67, № 1, p. 318−321.
  106. Sheward J.A. The coating of internal surfaces by PVD techniques // Swface and Coatings Technology, 1992, Vol. 54, № 55, p. 297−302.
  107. MacGill R.A., Anders S., Anders A., Castro R.A., Dickinson M.R., Yu K.M., brown I.G. Cathodic arc deposition of copper oxide thin films // Surface and Coating Technology, 1996, Vol. 78, p. 168−172.
  108. Shigemizu Т., Ohno N., Fujiyama H. Development of coaxial ECRplasma source for tube inner coating // Material Science and Engineering, 1991, A 139, p. 312−318.
  109. Hytry R., Moller W., Wilhelm R., Keudell A. Moving-coil waveguide discharge for inner coating of metal tubes // J. Vac. Sei. Technol., 1993, A, Vol. 11, No. 5, p. 2508−2517.
  110. Gibson I. P, Erosion-resistant coating of tubes by physical vapour deposition // Thin Solid Films, 1981, Vol. 83, p. 27−35.
  111. Hytry R., Moller W., Wilhelm R. Running waveguide discharge for inner coating of metal tubes // Appl. Phys. Lett., 1994, Vol. 64, No. 25, p. 3401−3403.
  112. Peeples C.R., Cuthrell R.E., Mattox D. M. Post cathode magnetron sputter deposition inside a long, small-diameter closed-end tube // J. Vac. Sei. Technol, 1988, A, Vol. 6, No. 6, p. 3159−3160.
  113. Д., Делчар Т. Современные методы исследования поверхности. М.- Мир, 1989, 564 с.
  114. Методы анализа поверхностей. Под редакцией А. Зандеры. М.- Мир, 1979, 583 с.
  115. Ю.М., Рубцов В. И., Бородько Ю. Г. Оже-электронная эмиссия от неметаллических атомов карбидов и нитридов. Поверхность, 1987, № 8, с. 43−50.
  116. В.Ш., Брытов ИА., Кораблев В.В, и др. Атлас оже-спектров химических элементов и их соединений. М.: МХТИ, 1986, 201с.
  117. V. Burdovitsin, А. Mytnikov and Е. Oks. Development ofhollow cathode plasma electron gun for operation at forepump gas pressure. // Proceedings of 26* International Conference on Plasma Science, June 20−24, 1999, Monterey, C A, USA.
  118. V. Burdovitsin, A. Mytnikov and E. Oks. Plasma-cathode electron gun for beam-plasma discharge ignition // Proceedings 14* International Symposium on Plasma Chemistry, August, August, 2−6, Prague, Czech Rebuplic, Vol. 2, p. 595−600.
  119. V. Burdovitsin, D. Danilishin, A. Mytnikov and E. Oks. Electron emission from discharge plasma at forevacuum gas pressure // Proceedings of 12* Symposium on High Current Electronics, September, 24−29, Tomsk, Russia, p. 5154.
  120. Lieberman M.A. and Lichtenberg A.J. Principles of Plasma Discharges and materials Processing, New York, 1994.
  121. Martz J.C. and Hess D.W. Demonstration of Plutonium Etching in a CF4O2 Glow Discharge // Nuclear Materials, 1991, Vol. 182, p. 277.
  122. Veilleux J., El-Genk M. Plasma Decontamination of Uranium Oxide from Stainless Steel Surfaces // Proceedings of Workshop Nuclear Waste Decontamination Technologies, Los Alamos, New Mexico, January, 1998.
  123. Veilleux J., El-Glenk M., Munson C, Chamberlin E. and FitzPatrick J. Plasma Decontamination of Uranium from the Interior of Aluminum Objects // Joint Conference on the Environment, Albuquerque, N M, April 22−24,1997.183
  124. Ю. А., Бурдовицин B. A., Куземченко M. H., Мытников А. В., Оке Е.М. Генерация электронных пучков в форвакуумной области давлений // Известия ВУЗов. Физика, 2001, Т. 44, № 9, с. 85−89.
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!