Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Разработка ионно-плазменных методов нанесения покрытий и азотирования перспективных конструкционных материалов

Диссертация: Разработка ионно-плазменных методов нанесения покрытий и азотирования перспективных конструкционных материалов
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

В медицине широко используюкя 1акие ма1ериалы, как гшан и нержавеющая С1аль. Повышение биосовмесшмосж и механической прочности этих материалов являе1ся ак1уалыюй задачей, которая в работе решается специально разработанными новыми методами нанесения алмазоподобных покрьний и ионным азо1 ированием в плазме электронного пучка. Для достижения высоких скоростей осаждения покрытий и диффузионного… Читать ещё >

Разработка ионно-плазменных методов нанесения покрытий и азотирования перспективных конструкционных материалов (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • ГЛАВА 1. Ионно-плазменные мсюды обрабо! ки поверхности
    • 1. 1. Физическое I азофашое осаждение
      • 1. 1. 2. Токовый коллекюр 1вердооксидно1 о юплив1101 о элемента: принцип действия и применяемые ма1ериалы
    • 1. 2. Плазмо-химическое осаждение из газовой фазы
      • 1. 2. 1. Осаждение алмазоподобных покрьпий
    • 1. 3. Ионно-плазменпое азотирование
      • 1. 3. 1. Азотирование в плазме, 1снерируемой) лекфонным пучком
  • Выводы к главе 1
  • ГЛАВА 2. Нанесение Со-Мп-0 покрьпий матнефонным распылением металлических мишеней
    • 2. 1. Ионно-плазменная сииема и меюд осаждения
    • 2. 2. Изучение влияния параметров осаждения на с I рук гуру, фазовый и элементный сос1ав покрьпий
      • 2. 2. 1. Ренггеносфук1урный фазовый анализ
      • 2. 2. 2. Анализ микросфук1уры покрьпий и элементного состава
    • 2. 3. Функциональные свойсжа юкоироходов с Со? МпО,| покрьпием
  • Выводы к главе 2
  • ГЛАВА 3. Получение алмазоподобных покрытий в разряде низкого давления с плазменным каюдом
    • 3. 1. Принцип работы газоразрядного устройства и меюдика нанесения АПП
    • 3. 2. Импульсно-периодический режим работ
    • 3. 3. Влияние параметров осаждения на микротвердость и микроструктуру
      • 3. 3. 1. Особенности измерения микротвердости твердых пленок
      • 3. 3. 2. Исследование АПП методом рамановской спектроскопии
      • 3. 3. 3. Исследование микроструктуры ЛПГ
      • 3. 3. 4. Расширение функциональных возможностей установок
  • Выводы к главе 3
  • ГЛАВА 4. Низкотемпературное азотирование сталей и сплавов в плазме электронного пучка
    • 4. 1. Особенности метода и принцип работы источника электронов с плазменным каюдом
    • 4. 2. Исследование состава азотированного слоя и скорости его формирования
      • 4. 2. 1. Азотирование ти тана
      • 4. 2. 2. Азотирование нержавеющей стали
  • Выводы к главе 4

Совершенствование способов генерации плазмы и разработка новых ионно-плазменных устройств необходимы для повышения производительности процессов обработки изделий и получения материалов с новыми свойствами. Поскольку, в процессе эксплуатации деталей машин и приборов именно поверхностный слой подвергается наиболее сильному механическому и химическому воздействию, наиболее целесообразной представляется модификация свойс1 В поверхности. Использование для этих целей объемнолегированных материалов часто экономически нецелесообразно, а в ряде случаев технологически невозможно.

Особенностью ионно-плазменных методов обработки, в основе которых лежит использование газоразрядной плазмы, является воздействие частиц с высокими энергиями (ионы, электроны, нейтральные атомы) на тонкий (десятки и сотни нм) приповерхностный слой материалов, что позволяет модифицировать его структурно-фазовый сос1ав, не изменяя объемных свойств материала, а также получать покрытия из оксидов, нитридов и карбидов металлов при существенно более низких температурах, чем температура, необходимая для получения этих соединений термохимическими методами. Конкретные условия эксплуатации изделий требуют направленного изменения физико-химических свойств поверхности материалов для достижения высокой износостойкости, коррозионной стойкости, усталостной прочности, электропроводное! и и др.

В данной работе решается актуальная проблема защиты от высокотемпературной коррозии изделий из нержавеющей стали, используемых для электрического соединения ячеек юпливного элемента с твердым электролитом между собой (токовых коллекторов). Наряду с высокой коррозионной стойкостью при 800 °C в кислороде этот конструкционный элемент должен также сохранять высокую электронную проводимость в течение 40 000 часов. Обеспечение этих свойств коллектора является необходимым условием развития 1ехники и 1ехнологии твердооксидных юпливных элемешов. Для решения посшвленной цели в работе предложен и исследован меюд ионно-плазменного нанесения электропроводящих оксидных покрытий с ионным сопровождением.

В медицине широко используюкя 1акие ма1ериалы, как гшан и нержавеющая С1аль. Повышение биосовмесшмосж и механической прочности этих материалов являе1ся ак1уалыюй задачей, которая в работе решается специально разработанными новыми методами нанесения алмазоподобных покрьний и ионным азо1 ированием в плазме электронного пучка. Для достижения высоких скоростей осаждения покрытий и диффузионного насыщения поверхности азотом необходимо обеспечить высокую плотность ионною юка, коюрая ограничивается предельно допуешмой темпера1урой обрабатываемых ма1ериалов Разработка способов генерации газоразрядной плазмы, позволяющих независимо изменять ток и напряжение горения разряда, плошоегь и) нер1 ию ионов, посыпающих на поверхность изделий необходима для изучения влияния этих параметров на свойства модифицированной поверхности и осаждаемых покрытий.

Цель работы заключалась в разработке методов ионно-плазменной модификации поверхности конструкционных материалов, обеспечивающих высокие скорости нанесения электропроводящих оксидных Со-Мп-0 покрытий со С1рук1урой шпинели, нанесения сверх? вердых алмазоподобных покрытий, упрочнения поверхносш мешллов и сплавов азотированием Для достижения этой цели в работе поставлены следующие задачи-1 Исследовать способ нанесения (Со, Мп)30| покрьиий со структурой шпинели реактивным мате тройным распылением металлических Со/Мп мишеней в системе с замкнушм магнишым полем и дополнительным источником ионов, предназначенным для ионного ассистирования и предварительной очистки подложки 01 загрязнений.

2. Исследован, способ осаждения аморфных углеводородных покрытий (а-С:Н) в несамосIоя 1ельном импульсно-иериодическом газовом разряде низкого давления с полым ка годом, который поддерживается дополнительной эмиссией элек фонов, в широком диапазоне изменений тока и напряжения юрения разряда, давления и соства 1азовой смеси, а также изучение влияния изменения параметров юрения разряда на микротвердость осаждаемых покрытий.

3 Исследовать способ безводородного низкотемпературного азотирования метллов и сплавов в плазме, генерируемой низкоэнергетичным электронным пучком, в широком диапазоне давлений и состава газовой АгЖ2 смеси, энергии электронов, тока пучка, плотности ионного тока и провес ж анализ влияния данных параметров на скорость формирования, фазовый состав и твердое? ь упрочненного слоя.

Научная новизна рабо1ы:

1 Установлено, чю метод реакжвною магнегронного распыления двухкомпонентных Со-Мп металлических мишеней в сочетании с формированием потока ионов кислорода, посыпающих на поверхность подложки в процессе роста покрьпия, позволяет снизить парциальное давление кислорода, при котором формируется структура шпинели (Со, Мп)304, и повысить скорость нанесения покрытия в 2,5 раза.

2 Показано, чю импульсно-периодический (50 кГц) несамостоятельный разряд с полым каюдом, поддерживаемый эмиссией плазменного катода с сеточной стабилизацией, устойчиво функционирует в условиях формирования диэлекфических а-С Н покрьпий на поверхности катода и обеспечивает осаждение твердых (до 80 ГПа) покрытий разложением ацетилена в плазме, оптимизация параметров которой обеспечивается независимой регулировкой напряжения и тока разряда в широком диапазоне давлений и сос1ава 1азовой смеси.

3. Установлено, что источник элекфонов с плазменным катодом и односеточной системой формирования пучка, обеспечивает генерацию газовой плазмы и азотирование пометенных в нес изделий, нагрев которых осуществляется электронами пучка и/или извлекаемыми из плазмы ионами, причем повышение плотности ионного юка приводит к снижению энергии активации диффузии и увеличению скорости роста упрочненного слоя.

Практическая значимость и реализация результатов работы заключается в том, что:

1. Создано лабораторное оборудование для ионно-плазменного реактивного нанесения покрытий с ионным сопровождением, разработана методика нанесения сложного оксида Со-Мп-0 в кислород-аргоновой среде низкого давления на нержавеющие стали (12X17, А181 430, СгоГег 22 АРи), обеспечивающая формирование однофазного покрытия со структурой шпинели (Со, Мп)30-| и реализованы способы повышения скорости роста покрытия на подложке. Работа была выполнена в рамках договора № 29/05(2005 — 2007 г.) с Институтом высокотемпературной электрохимии УрО РАН «Разработка усюйчивых к высокотемпературной коррозии металлических токопроходов ТОЭ с использованием плазменных и ионно-лучевых технологий», договора № 7/07 (2007 г.) с Национальной инвестиционной компанией «Новые энер1 стические проекты» «Создание защитных покрытий на металлическом юкопроходс ТОТЭ», проекта РФФИ № 09−08−707-а (2009 — 2011 г.) «Исследование свойств покрытия на основе марганец-кобальтовой шпинели, применяемого для защиты токопроходов твердооксидных топливных элементов» и проекта «Формирование защитных электропроводящих покрытий для токопрохода топливного элемента с твердым электролитом ионно-плазменными методами», выполненного в рамках Соглашения РФЯЦ-ВНИИТФ и ИЭФ УрО РАН о проведении совместных исследований в области создания энергетических установок на основе твердооксидных топливных элементов (2010 г.).

2. Реализован способ нанесения углеводородных покрытий разложением ацетилена в импульсно-периодическом несамостоятельном разряде с полым кагодом, который позволяет проводить в едином вакуумном цикле этапы ионной очистки поверхности и иммерсионной ионной имплантации для повышения прочности соединения покрытия с основой. Получены высокие скорости осаждения покрытий (до 8 мкм/ч), при этом температура обрабатываемых изделий не превышала 150 °C. Определены оптимальные режимы осаждения, в которых достигаются высокие твердости алмазоподобных покрытий и прочность их соединения с основой. Выполнен Государственный контракт № 16-ГК/08 от 26 мая 2008 г. с Институтом физики металлов УрО РАН «Разработка и изготовление опытного образца газоразрядного устройства (источника плазмы) для нанесения углеводородных покрытий». Получен патеш РФ па изобретение № 23 821 16: «Способ нанесения аморфных углеводородных покрытий». Созданы газоразрядные модули, которыми доукомплектованы установки УВНИПА-1−001 для нанесения алмазоподобных покрытий вакуумно-дуговым (PVD) методом, что расширило функциональные возможности установок, позволив проводить комплексную обработку изделий PVD и PECVD методами. Установки функционируют в Институте физики металлов УрО РАН, а также в компаниях «Argor-Aljba» (Mendrisio, Switzerland) и ITAC Ltd. (Tokio, Japan),.

3. Реализован способ азотирования металлов и сплавов в плазме низкоэнергетичного электронного пучка и создано экспериментальное оборудование: источник электронов с плазменным катодом и односеточной системой формирования пучка, вакуумно-плазменная установка для низкотемпературного ионного азотирования. Проведено азотирование титана с нагревом изделий электронным пучком при низком (0 — 50 В) и плавающем потенциале, что позволило избежать развития рельефа поверхности и провести обработку в глубоких и узких пазах. Реализован режим низкотемпературного (400°С) азошрования нержавеющей стали с высокой скоростью (7 мкм/ч0^), обеспечивающий увеличение микротвердости поверхности в 4 — 5 раз при сохранении ее коррозионной стойкости. Работа выполнена по проеюу РФФИ № 10−08−85-а (2010 — 2012 г.) «Низкотемпературное азошрованис мешллов и сплавов в плазме низкоэнергегического электронного пучка». Получен патеш РФ на изобретение № 2 413 033. «Способ плазменною азошрования изделия из стали или цветного сплава».

Научные положения, выносимые на заши1у:

1.Сис1ема реакшвною импульсного ма1 нефонного распыления с замкнутой конфигурацией магнитного поля, в которой для ионного сопровождения использован холловский ионный источник, обеспечивает распыление метллических Со/Мп мишеней, поступление электронов из плазмы магнефопных разрядов в анодную область ионного источника и эффективную ионизацию кислорода, увеличенное отношение потока ионов и распыленных атомов N,/N?=2/1 на поверхносж обрабатываемого изделия, что позволяет снизить с 0,03 до 0,01 Па парциальное давление кислорода, при котором формируется (Со, Мп)30,| покрытие с однофазной структурой шпинели, и увеличить скорость осаждения покрытия (до 2,5 раз) в результате изменения режима рабо1ы ма1 нефонов.

2. Применение несамостоя1елыю1 о импульсно-периодического (50 кГц) разряда с полым каюдом, поддерживаемого эмиссией плазменного катода с сеточной С1абилизацией, обеспечивает стабильную генерацию плазмы в аргон-аце1иленовой газовой смеси в условиях формирования на имеющих катодный по1енциал поверхностях диэлектрических алмазоподобных покрытий в широком диапазоне изменения давления газа (0,06 — 0,6 Па) и напряжения горения разряда (100 — 600 В), при этом микротвердоегь формируемого покрьпия определяйся энергией ионов, бомбардирующих повсрхнос1Ь обраба1ываемо1 о изделия, и достигает максимума (80 ГПа) при энер! ии ионов ~ 300 эВ.

3. Широкий (080 см2) пучок электронов низких энергий (0,1−1 кэВ) с током 1 — 6 А, генерируемый источником электронов с плазменным эмиттером, обеспечивает ионизацию газовой (Ar+N?) смеси низкого давления (0,01 — 3 Па) и изменение соотношения вкладов электронов и ионов в нагрев изделий, что позволяет проводить низкотемпературное (400 — 600°С) безводородное азотирование гитана и снизи1ь интенсивность ионного распыления поверхности в результате уменьшения напряжения смещения до 0 — 50 В, а также повысить до 7 мкм/ч0э скорость роста слоев с повышенной микротвердостыо (14 ГПа) при низкотемпературном (400°С) азотировании нержавеющей стали 12Х18Н10Т в результат увеличения плотности ионного у тока до 5 мА/см .

Содержание диссертационной рабо i ы.

Диссертация состоит из введения, четырех глав с краткими выводами по каждой главе, заключения, списка используемых литературных источников. Общий обьем диссер1ации сос1авляе1 174 страницы, включает в себя 62 иллюстрации, список используемых литературных источников из 296 наименований.

Результаты работы докладывались и обсуждались на 14 Российской конференции с международным участием «Физическая химия и электрохимия твердых электролитов» (Екатеринбург, 2007), 10 международной конференции rio плазме газового разряда и ее технологическом применении (Томск, 2007), 9 международной конференции по модификации материалов пучками заряженных частиц и потоками плазмы (Томск, 2008), 3 международном Крейнделевском семинаре «Плазменная эмиссионная электроника» (Улан-Удэ, 2009), 10 международной конференции по модификации материалов пучками заряженных частиц и потоками плазмы (Томск, 2010), Всероссийской конференции с международным участием «гвердооксидные топливные элементы и энергоустановки на их основе» (4epnoi оловка, 2010) и представлены в сборниках докладов конференций [276 — 285] По результатам работы получено 2 naieHia на изобре1ение [286, 2871 и опубликовано 9 статей в рецензируемых журналах [288 — 296].

Личный вклад соискателя сосюит в создании экспериментального оборудования (усшновка нанесения покрьпий реактивным магнетронным распылением с ионным сопровождением, устройство для нанесения алмазоподобных покрытий разложением углеводородсодержащего газа в импульсно-периодическом несамостоятельном разряде с полым катодом, источник электронов с сеточной стабилизацией плазменного катода на основе тлеющего разряда и одноэлек! родной системой ускорения), исследовании влияния параметров процесса ионно-плазменной обработки на структуру, фазовый состав, физико-химические и механические свойства поверхностных слоев и основы, а также, в непосредственном участии в выполнении всех этпов работы. Определение целей и задач исследований, обсуждение полученных резулыаюв, их анализ и обобщение, редакция основных выводов и научных положений проводились совместно с научным руководителем чл.-корр. РАН, дл.н. Н. В. Гавриловым.

В заключение автор выражает искреннюю благодарность чл.-корр. РАН, д.т.н. Н. В. Гаврилову, под руководспюм коюрого была выполнена данная работа, а также сотрудникам лаборатории пучков частиц ИЭФ УрО РАН и соавюрам pa6oi за помощь, оказанную при проведении экспериментов и обсуждении резулыаюв исследований.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Г. Ф. Ионно-плазменная обработка материалов / Г. Ф. Ивановский, В. И. Петров. М.: Радио и связь, 1986. — 232 с.
  2. D. М. Particle bombardment effects on thin-film deposition: A review / D. M. Mattox // J. Vac. Sci. Technol. A Vol. 7. — 1989. — p. 1105−1114.
  3. Mattox D. M. Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing / D. M. Mattox. New Jersey: Noyes Publications, 1998. — 945 p.
  4. Yang J. Evolution of self-assembled Ge/Si island grown by ion beam sputtering deposition / J. Yang, Y. Jin, C. Wang, L. li, D. tao, Y. Yang // Appl. Surf. Sci. Vol. 258. — No. 8. — 2012. — p. 3637−3642.
  5. M. Металлические и керамические покрытия / М. Хокинг, В. Васантасри, П. Сидки. М.: Мир, 2000. — 516 с.
  6. . С. Магнетронные распылительные системы / Б. С. Данилин,
  7. B. К. Сырчин. М.: Радио м связь, 1982. — 70 с.
  8. Christou С. Ionization of sputtered material in a planar magnetron discharge /
  9. C. Christou, Z. H. Barber, // Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. Vol. 18. — No. 6. — 2000. — p. 2897−2907.
  10. Chapman B. Glow Discharge Processes / B. Chapman. New York: Wiley & Sons, 1980.-406 p.
  11. Coatings Technology: Fundamentals, Testing, and Processing Techniques / под ред. A. A. Tracton. New York: CRC Press, 2007. — 370 p.
  12. А. И. Магнетронные распылительные системы. Книга 1.
  13. Введение в физику и технику магнетронного распыления / А. И. Кузьмичев. Киев: «Аверс», 2008. — 246 с.
  14. Bogaerts A. Gas discharge plasmas and their applications / A. Bogaerts, E. Neyts, R. Gijbels, J. van der Mullen // Spectrochimica Acta Part B. Vol. 57. — 2002. — p. 609−658.
  15. Roth J. R. Industrial Plasma Engineering, Volume 2: Applications to Nonthermal Plasma Processing / J. R. Roth. London: IOP Publishing Ltd., 2001. — 645 p.
  16. Advanced Plasma Technology / под ред. R. d’Agostino, P. Favia, Y. Kawai, H. Ikegami, N. Sato, F. Arefi-Khonsari. WILEY-VCH, 2008. — 457 p.
  17. Thin Film Processes / под ред. J.L. Vossen, W. Kern. New York: Academic Press, 1978. — 335 p.
  18. Abe Y. Target-Surface Compound Layers Formed by Reactive Sputtering of Si Target in Ar+02 and Ar+N2 Mixed Gases / Y. Abe, T. Takisawa, M. Kawamura, and K. Sasaki // Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 46. — 2007. — p. 67 786 781.
  19. Xu Y. Hard nanocomposite Ti-Si-N films prepared by DC reactive magnetron sputtering using Ti-Si mosaic target / Y. Xu, L. Li, X. Cai, P. K. Chu // Surface and Coatings Technology. Vol. 201. — No. 15. — 2007. — p. 6824−6827.
  20. Joelsson T. Deposition of single-crystal Ti2AlN thin films by reactive magnetron sputtering from a 2Ti: AI compound target / T. Joelsson, A. Flink, J. Birch, and L. Hultman // J. Appl. Phys. Vol. 102. — 2007. — p. 74 918.
  21. А. А. Характеристики цилиндрического магнетрона и реактивное напыление в нем пленок бинарных соединений / А. А. Гончаров, А. В. Демчишин, А. А. Демчишин, Е. Г. Костин, В. А. Миченко, Б. В. Стеценко // ЖТФ. Т. 77. — В. 8. — 2007. — с. 114−119.
  22. Kim D. Low temperature deposition of transparent conducting ITO/Au/ITOfilms by reactive magnetron sputtering / D. Kim // Applied Surface Science. -Vol. 256. No. 6. — 2010. — p. 1774−1777.
  23. Kleinhempel R. Properties of ITO films prepared by reactive magnetron sputtering / R. Kleinhempel, G. Kaune, M. Herrmann, H. Kupfer, W. Hoyer, F. Richter // Microchimica Acta. Vol. 156. — No. 1 -2. — 2006. — p. 61 -67.
  24. Lifshitz Y. Subplantation model for film growth from hyperthermal species: Application to diamond / Y. Lifshitz, S. R. Kasi, and J. W. Rabalais // Physical Review Letters. Vol. 62. — No. 11, — 1989. — p. 1290−1293.
  25. Janssen G. Stress in hard metal films / G. C. A. M. Janssen, J.-D. Kamminga //Applied Physics Letters. Vol. 85. — No. 15. — 2004. — p. 3086−3088.
  26. Pauleau Y. Generation and evolution of residual stresses in physical vapour-deposited thin films / Y. Pauleau // Vacuum. Vol. 61. — No. 2−4. — 2001. — p. 175−181.
  27. Windischmann H. Intrinsic stress in sputter-deposited thin films /
  28. H.Windischmann // Critical Reviews in Solid State and Materials Sciences. -Vol. 17. No. 6. — 1992. — p. 547−596.
  29. Davis C. A. A simple model for the formation of compressive stress in thin films by ion bombardment / C.A. Davis // Thin Solid Films. Vol. 226. — No.1. 1993. — p. 30−34.
  30. Koch R. The intrinsic stress of polycrystalline and epitaxial thin metal films /
  31. R. Koch // Journal of Physics: Condensed Matter. Vol. 6. — No. 45. — 1994. -p. 9519−9550.
  32. Kouznetsov V. A novel pulsed magnetron sputter technique utilizing very high target power densities / V. Kouznetsov, K. MacAk, J. M. Schneider, U. Helmersson, I. Petrov // Surface and Coatings Technology. Vol. 122. -No. 23, — 1999.-p. 290−293.
  33. Mozgrin D. V. Pulsed probe technique for determining the plasma parameters of a high-current low-pressure diffuse discharge / D. V. Mozgrin, I. K. Fetisov, G. V. Khodachenko // Plasma Physics Reports. Vol. 25. — No. 3. -1999. — p. 255−260.
  34. Brenning N. A bulk plasma model for dc and HiPIMS magnetrons / N. Brenning, I. Axnas, M. A. Raadu, D. Lundin, U. Helmerson // Plasma Sources Science and Technology. Vol. 17. — No. 4. — 2008. — p. 45 009.
  35. Munz W.-D. HIPIMS: The new PVD-technology / W.-D.Munz // Vakuum in Forschung und Praxis. Vol. 19. — No. 1. — 2007. — p. 12−17.
  36. Ochs D. HIPIMS Power for Improved Thin Film Coatings / D. Ochs // Vakuum in Forschung und Praxis. Vol. 20. — No. 4. — 2008. — p. 34−38.
  37. Benzeggouta D. Study of a HPPMS discharge in Ar/02 mixture: I. Discharge characteristics with Ru cathode / D. Benzeggouta, M. C. Hugon, J. Bretagne, M. Ganciu // Plasma Sources Sei. Technol. Vol. 18. — 2009. — p. 45 025.
  38. Alami J. On the deposition rate in a high power pulsed magnetron sputtering discharge / J. Alami, K. Sarakinos, G. Mark, M. Wuttig // Applied Physics Letters. Vol. 89. — 2006. — p. 154 104.
  39. Window B. Charged particle fluxes from planar magnetron sputtering source /
  40. B. Window, N. Savvides // J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 4. — No. 2. — 1986. -p. 196−200.
  41. Savvides N. Unbalanced magnetron ion-assisted deposition and property modification of thin films / N. Savvides, B. Window // J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 4. — No. 3. — 1986. — p. 504−508.
  42. Wang C.-S. Unbalanced Magnetron Sputtering Using Cylindrical Target for Low-Temperature Optical Coating / C.-S. Wang, K. Sasaki, Y. Yonezawa and T. Hata // Japanese Journal of Applied Physics. Vol. 44. — No. IB. — 2005. -p. 669−672.
  43. Kelly P. J. Magnetron sputtering: a review of recent developments and application / P. J. Kelly, R. D. Arnell // Vacuum. Vol. 56. — 2000. — p. 159 172.
  44. Kelly P. J. The production of porous and chemically reactive coatings by magnetron sputtering / P. J. Kelly, J. O’Brien, R. D. Arnell // Vacuum. Vol. 74. -2004. — p. 1−10.
  45. Rohde S. L. Dual-unbalanced magnetron deposition of TiN films / S. L. Rohde, L. Hultman, M. S. Wong, W. D. Sproul // Surface and Coatings Technology. Vol. 50. — No. 3. — 1992. — p. 255−262.
  46. Yao Z. Q. Fabrication and sutface characterization of pulsed reactive closed-field unbalanced magnetron sputtered amorphous silicon nitride films // Surface and Coatings Technology. Vol. 200. — 2006. — p. 4144−4151.
  47. Lideroth S. Investigations of metallic alloys for use as interconnects in solid oxide fuel cell stacks / S. Lideroth, P. V. Hendriksen, M. Mogensen, N. Langvad // J. Mat. Sci. Vol. 31.-1996. — p. 5077−5082.
  48. Yang Z. Selection and evaluation of heat-resistant alloys for SOFC interconnect applications / Z. Yang, K. S. Weil, D. M. Paxton, J. W. Stevenson // J. Electrochemical Society. Vol. 150. — No. 9. — 2003. — p. A1188-A1201.
  49. Chen X. Protective coating on stainless steel interconnect for SOFCs: oxidation kinetics and electrical properties / X. Chen, P. Y. Hou, C. P. Jacobson, S. J. Visco, L. C. De Joghe // Solid State Ionics. Vol. 176. — 2005. -p. 425−433.
  50. Badwal S.P.S. Interaction between chromia forming alloy interconnects and air electrode of solid oxide fuel cells / S. P. S. Badwal, R. Deller, K. Foger, Y. Ramprakash, J. P. Zhang // Solid State Ionics. Vol. 99. — 1997. — p. 297−310.
  51. IUe4)Tejib H.T. TepMope3HCrropbi / H. T. LLIe^rejib. M.: FlayKa, 1973. — 397 c.
  52. Stevenson J. W. SOFC Interconnects & Coatings / J. W. Stevenson, Z. G. Yang, G. G. Xia, G. D. Maupin, X. S. Li, P. Singh // 7th Annual SECA Workshop and Peer Review, Philadelphia, 2006.
  53. Z. (Mn, Co)304 spinel coatings on ferritic stainless steels for SOFC interconnect applications / Z. Yang, G.-G. Xia, X.-FI. Li, J. W. Stevenson // International Journal of Hydrogen Energy. Vol. 32. — No. 16. — 2007. — p. 3648−3654.
  54. Г. В. Нанесение неорганических покрытий / Г. В. Бобров, А. А. Ильин. М.: Интермет Инжиниринг, 2004. — 623 с.
  55. А. И. Справочник оператора установок по нанесению покрытий в вакууме / А. И. Костржицкий, В.Ф.карпов, М. П. Кабанченко,
  56. Н.Соловьева, и др. М.: Машиностроение, 1991. — 176 с.
  57. Устройства магнетронного распыления АВ 5100/ АВ 5200: Техническое описание и инструкция по эксплуатации. ООО «АВАКС», г. Санкт-Петербург, 2011.
  58. P. М. Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings / P.M.Martin. William Andrew, 2010. — 912 p.
  59. Sen D. Reference Book on Chemical Engineering / D. Sen. New Delhi: New Age International (P) Ltd, 2005. — 352 p.
  60. Han S. M. Study of surface reactions during plasma enhanced chemical vapor deposition of Si02 from SiH4, 02, and Ar plasma / S. M. Han, E. S. Aydil // Journal of Vacuum Science and Technology A. Vol. 14. — No. 4. — 1996. — p. 2062−2070.
  61. Hsieh W. Characteristics of low-temperature and low-energy plasma-enhanced chemical vapor deposited Si02 / W. Flsieh, C. Y. Chang, S. C. Hsu // J. Appl. Phys. Vol. 74. — 1993. — p. 2638−2648.
  62. Rats D. Mechanical properties of plasma-deposited SiOxNy coatings on polymer substrates using low load carrying capacity techniques / D. Rats, L. Martinu, J. von Stebut // Surface and Coatings Technology. Vol. 123. — No.1.- 2000.-p. 36−43.
  63. Martinu L. Plasma deposition of optical films and coatings: A review / L.
  64. Martinu, D. Poitras // J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 18. — No. 6. — 2000. — p. 2619−2645.
  65. Kim J.-K. Characterization and preparation of Si02 and SiOF films using an RF PECVD technique from TE0S/02 and TE0S/02/CF4 precursors / J.-K. Kim, S.-H. Jeong, B.-S. Kim, S.-H. Shim // Journal of Physics D. Vol. 37. -No. 17. -2004. — p. 2425−2431.
  66. Lee H. Radio frequency source power-induced ion energy impact on SiN films deposited by using a pulsed-PECVD in SiH4-N2 plasma at room temperature / H. Lee, B. Kim, S. Kwon // Current Applied Physics. Vol. 10. -No. 3.-2010.-p. 971−974.
  67. Choi D. The Study of dielectric constant change of a-SiC:H films deposited by remote PECVD with low deposition temperatures / D. Choi, S. Cho // Journal of the Korean Physical Society. Vol. 55. — No. 5. — Part 1. — 2009. — p. 1920−1924.
  68. Wang M. Influence of substrate bias on the composition of SiC thin films fabricated by PECVD and underlying mechanism / M. Wang, X. G. Diao, A. P. Huang, P. K. Chu, Z. Wu // Surface and Coatings Technology. Vol. 201. -No. 15.- 2007. — p. 6777−6780.
  69. Fourches N. Influence of hydrocarbon gasses on PECVD a-C:H film deposition / N. Fourches, G. Turban // Plasmas and Polymers. Vol. 1. — No. 1. — 1996. — p. 47−64.
  70. De Barros M. I. Plasma-assisted chemical vapor deposition process for depositing smooth diamond coatings on titanium alloys at moderate temperature / M.I. De Barros, L. Vandenbulcke // Diamond and Related
  71. Materials. Vol. 9. — 2000. — p. 1862−1866.
  72. Borges C. F. M. A novel technique for diamond film deposition using surface wave discharge / C. F. M. Borges, M. Moisan, A. Gicquel // Diamond and Related Materials. Vol. 4. — 1995.-p. 149−154.
  73. Konyashin I. Plasma-Assisted CVD of Cubic Boron Nitride / I. Konyashin, J. Bill, F. Aldinger // Chem. Vap. Deposition. Vol. 3. No. 5. — 1997. — p. 239 255.
  74. Szymanowski H. Optical properties and microstructure of plasma deposited Ta205 and Nb205 films / FI. Szymanowski, O. Zabeida, J. E. Klemberg-Sapieha, L. Martinu // J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 23. — No. 2. — 2005. — p. 241−247.
  75. Itoh K.-I. Deposition process of metal oxide thin films by means of plasma CVD with (3-diketonates as precursors / K.-I. Itoh, O. Matsumoto // Thin Solid Films. Vol. 345. — No. 1. — 1999. — p. 29−33.
  76. Patscheider J. Plasma-induced deposition of thin films of aluminum oxide / J. Patscheider, S. Veprek // Plasma Chemistry and Plasma Processing. Vol. 12. -No. 2, — 1992.-p. 129 — 145.
  77. Henley W. B. Deposition of Electrochromic Tungsten Oxide Thin Films by Plasma-Enchansed Chemical Vapor Deposition / W. B. Henley, G. J. Sacks // J. Eclectrochem. Soc. Vol. 144. — No. 3. — 1997. — p. 1045−1050.
  78. В. И. Моделирование процесса разложения силана в высокочастотной плазме / В. И. Струнин, А. А. Ляхов, Г. Ж. Худайбергенов, В. В. Шкуркин // ЖТФ. Т. 72. — № 6. — 2002. — с. 109−114.
  79. Hellmich A. CVD-process by hollow cathode glow discharge / A. Hellmich,
  80. Т. Jung, A. Kielhorn, М. Ribland // Surf. Coat. Technol. Vol. 98. — 1998. — p. 1541−1546.
  81. Gorczyca Т. B. Plasma-enchanced chemical vapor deposition of dielectrics / Т. B. Gorczyca, B. Gorowitz // VLSI Electronics, Microstructure Science. -Vol. 8. 1984. — p. 69−88.
  82. Leonhardt D. Plasma enhanced surface treatment using electron beam-generated plasmas / D. Leonhardt, C. Muratore, S. G. Walton, R. A. Meger // Surf. Coat. Technol. Vol. 188−189. — 2004. — p. 299−306.
  83. Handbook of thin film deposition: process and techiques / под ред. К. Seshan. New York: NoyesPublications, 1988. — 413 p.
  84. Zaharia T. Fast deposition of diamond-like hydrogenated carbon films / T. Zaharia, J. L. Sullivan, S. O. Saied, R. С. M. Bosch, M. D. Bijker // Diamond & Related materials. Vol. 16. — 2007. — p. 623−629.
  85. Donnet C. tribochemistry of diamond-like carbon coatings in various environments / C. Donnet, M. Belin, J. C. Auge, J. M. Martin, A. Grill, V. Patel // Surface and Coatings Technology. Vol. 68−69. — 1994. — p. 626−631.
  86. Oliver W. C. Improved technique for determining hardness and elastic modulus using load and displacement sensing indentation experiments / W. C. Oliver, G. M. Pharr//J. Mater. Res. Vol. 7. — No. 6. — 1992. — p. 1564−1580.
  87. Sepold G. Influence of UV-laser radiation on the synthesis of DLC films by ECR-plasma-CVD / G. Sepold, A. Stephen, S. Metev // Diamond and Related Materials. Vol. 8. — No. 8−9. — 1999. — p. 1677−1681.
  88. Koskinen J. Wear and hardness of diamondlike coatings prepared by ion beam deposition / J. Koskinen, J.-P. Hirvonen, A. Anttila // Appl. Phys. Lett. Vol. 47. — No. 9. — 1985. — p. 941.
  89. Dai M. The cutting performance of diamond and DLC-coated cutting tools / M. Dai, K. Zhou, Z. Yuan, Q. Fu Ding // Diamond and Related Materials. -Vol. 9. 2000. — p. 1753−1757.
  90. Sato T. Anti-galling property of a diamond-like carbon coated tool in aluminium sheet forming / T. Sato, T. Besshi, I. Tsutsui, T. Morimoto // J. Mater. Proc. Technol. Vol. 104. — 2000. — p. 21−24.
  91. Azzi M. Corrosion performance and mechanical stability of 316/DLC coating system: Role of interlayers / M. Azzi, P. Amirault, M. Paquette, J. E. Klemberg-Sapieha, L. Martinu // Surface & Coatings Technology. Vol. 204 -2010.-p. 3986−3994.
  92. Sheeja D. Feasibility of diamondlike carbon coatings for orthopaedic applications / D. Sheeja, B. K. Tay, L. N. Nung // Diamond and Related Materials. Vol. 13. — 2004. — p. 184−190.
  93. Shi B. Tribological performance of some alternative bearing materials for artificial joints / B. Shi, O. O. Ajayi, G. Fenske, A. Erdemir, Fl. Liang // Wear. -Vol. 255.- 2003.-p. 1015−1021.
  94. Roy R. K. Biomedical Applications of Diamond-Like Carbon Coatings: A Review / R. K. Roy, K.-R. Lee // J. Biomed. Mater. Res. Part B. Vol. 83B. -2007. — p. 72−84.
  95. Nitta Y. Development of Novel DEC Film using Plasma Tecnique for Medical Material / Y. Nitta, K. Okamoto, T. Nakatani, A. Mochizuki // J. Potopolymer Sci. and Technol. Vol. 23. — No. 2. — 2010. — p. 245−250.
  96. Bobzin K. Plasma coatings CrAIN and a-C:Fl for high efficient power train in automobile / K. Bobzin, N. Bagcivan, S. Theiss, K. Yilmaz // Surface & Coatings Technology. Vol. 205. — 2010. — p. 1502−1507.
  97. Kano M. Super low friction of DLC applied to engine cam follower lubricated with ester-containing oil / M. Kano // Tribology International. Vol. 39. — No. 12.-2006. — p. 1682−1685.
  98. Hershberger J. Evaluation of DLC coatings for spark-ignited direct-injected fuel systems / J. Hershberger, O. Ozturk, J. B. Ajayi, J. B. Woodford, A. Erdemir, R. A. Erck, G. R. Fenske // Surface and Coatings Technology. Vol.179.- 2004.-p. 237−244.
  99. Franklin S. E. Conditions affecting the sliding tribological performance of selected coatings for high vacuum bearing applications / S. E. Franklin, J. Baranowska // Wear. Vol. 263. — 2007. — p. 1300−1305.
  100. Kano M. Wear mechanism of high wear-resistant materials for automotive valve trains / M. Kano, I. Tanimoto // Wear Vol. 151. — No. 2. — 1991. — p. 229−243.
  101. Cruz R. DLC ceramic multilayers for automotive applications / R. Cruz, J. Rao, T. Rose, K. Lawson, J. R. Nicholls // Diamond and Related Materials. -Vol. 15. 2006. — p. 2055−2060.
  102. Jiang J. C. Structure and mechanics ofW-DLC coated spur gears / J. C. Jiang, W. J. Meng, A. G. Evans, C. V. Cooper // Surface and Coatings Technology. -Vol. 176. 2003. — p. 50−56.
  103. Kalin M. The tribological performance of DLC-coated gears lubricated with biodegradable oil in various pinion/gear material combinations / M. Kalin, J. Vizintin // Wear. Vol. 259. — 2005. — p. 1270−1280.
  104. Gahlin R. Me-C:FI coatings in motor vehicles / R. Gahlin, M. Larsson, P. Hedenqvist // Wear. Vol. 249. — 2001. — p. 302−309.
  105. Patsalas P. Optical properties of amorphous carbons and their applications and perspectives in photonics // Thin Solid Films. Vol. 519. — 2011. — p. 39 903 996.
  106. Tamuleciciene A. Multilayer amorphous hydrogenated carbon (a-C:H) and SiOx doped a-C:FI films for optical applications / A. Tamuleciciene, S. Meskinis, V. Kopustinskasm, S. Tamulevicius // Thin Solid Films. Vol. 519.-2011.-p. 4004−4007.
  107. Semenenko M. Electrical conditioning of diamond-like carbon films for the formation of coated field emission cathodes / M. Semenenko, G. Okrepka, O. Yilmazoglu, H. L. Hartnagel, D. Pavlidis // Appl. Surf. Sci. Vol. 257. — 2010. -p. 388−392.
  108. Wang S.-F., Investigation of nitrogen doped diamond-like carbon films as counter electrodes in dye sensitized solar cells / S.-F. Wang, K. Rao, T. Yang, H.-P. Wang// J. Alloys and Compounds. Vol. 509. — 2011. — p. 1969−1974.
  109. Casiraghi C. Diamond-like carbon for data nad beer storage / C. Casiraghi, J. Robertson, A. C. Ferrari // Materialstoday. Vol. 10. — No. 1−2. — 2007. — p. 44−53.
  110. Tan A. H. Corrosion and tribological properties of ultra-thin DLC films with different nitrogen contents in magnetic recording media // Diamond and Related Materials. Vol. 16. — 2007. — p. 467−472.
  111. Numata T. Chemical analysis of wear tracks on magnetic disks by TOF-SIMS / T. Numata, H. Nanao, S. Mori, S. Miyake // Tribol. Int. Vol. 36. — 2003. -p. 305−309.
  112. Yang L. The influence of the structures and compounds of DLC coatings on the barrier properties of PET bottles / L. Yang, Z.-D. Wang, S.-Y. Zhang, L.-Z. Yang, Q. Chen // Chinese Physics B. Vol. 18. — No. 12. — 2009. — p. 54 015 405.
  113. Tsai P.-C. Evaluation of microstructures and mechanical properties of diamond like carbon films deposited by filtered cathodic arc plasma / P.-C. Tsai, K.-H. Chen // Thin Solid Films. Vol. 516. — No. 16. — 2008. — p. 54 405 444.
  114. Park Y. S. Structural and tribological properties of nitrogen doped amorphous carbon thin films synthesized by CFUBM sputtering method for protective coatings / Y. S. Park, B. Hong // Applied Surface Science. Vol. 255. — 2009. -p. 3913−3917.
  115. Yeldose B. C. Characterization of DC magnetron sputtered diamond-like carbon (DLC) nano coating / B. C. Yeldose, B. Ramamoorthy// Int. J. Adv. Manuf. Technol. Vol. 38. — 2008. — p. 705−717.
  116. Bugaev S. P. Properties of diamondlike films obtained in a barrier discharge at atmospheric pressure / S. P. Bugaev, A. D. Korotaev, K. V. Oskomov, N. S. Sochugov // Technical Physics. Vol. 42. — No. 8. — 1997. — p. 945−949.
  117. Grill A. Diamondlike carbon films by rf plasma assisted chemical vapor deposition from acetylene / A. Grill, B. S. Meyerson, V. V. Patel // IBM J. Res. Develop. Vol. 34. — No. 6. — 1990. — p. 849−857.
  118. Veerasamy V. S. Diamond-like amorphous carbon coatings for large areas of glass / V. S. Veerasamy, H. A. Luten, R. H. Petrmichl, S. V. Thomsen // Thin Solid Films. Vol. 442. — 2003. — p.1−10.
  119. Silinskas M. Hydrogen influence on the structure and properties of amorphous hydrogenated carbon films deposited by direct ion beam / M. Silinskas, A. Grigonis, V. Kulikauskas, I. Manika // Thin Solid Films. Vol. 516. — No. 8. -2008. — p. 1683−1692.
  120. Pan Y.Q. Diamond-like carbon films with End-Hall ion source enhanced chemical vapour deposition / Y. Q. Pan, Y. Yin // Diamond and Related
  121. Materials. Vol. 16. — 2007. — p. 220−224.
  122. Laegreid N. Sputtering yields of metals for ar+ and ne+ ions with energies from 50 to 600 eV / N. Laegreid, G. K. Wehner // J. Appl. Phys. Vol. 32. -No. 3. — 1961. — p. 365−369.
  123. Casiraghi C. Raman spectroscopy of hydrogenated amorphous carbons / C. Casiraghi, A. C. Ferrari, J. Robertson // Phys. Rev. B. Vol. 72. — No. 8. -2005. — p. 85 401.
  124. Ferrari A. C. Interpretation of Raman spectra of disordered and amorphous carbon / A. C. Ferrari, J. Robertson // Phys. Rev. B. Vol. 61. — No. 20. -2000. — p. 14 095−14 107.
  125. Ferrari A. C. Diamond-like carbon for magnetic storage disks // Surface and Coatings technology. Vol. 180−181. — 2004. — p. 190−206.
  126. Voevodin A. A. Pulsed laser deposition of diamond-like carbon wear protective coatings: A review / A. A. Voevodin, M. S. Donley, J. S. Zabinski // Surface and Coatings Technology. Vol. 92. — No. 1−2. — 1997. — p. 42−49.
  127. Schwan J. Tetrahedral amorphous carbon films prepared by magnetron sputtering and dc ion plating / J. Schwan, S. Ulrich, FI. Roth, H. Ehrhardt, S.
  128. R. P. Silva, J. Robertson, R. Samlenski, R. Brenn // J. Appl. Phys. Vol. 79. -No. 3. — 1996. — p. 1416−1422.
  129. Anders S. Thermal stability of amorphous hard carbon films produced by cathodic arc deposition / S. Anders, J. Diaz, J. W. Agerlll, R. Y. Lo, D. B. Bogy//Appl. Phys. Lett. Vol. 71. — No. 23. — 1997. — p. 3367−3369.
  130. Robertson J. Diamond-like amorphous carbon// J. Mater. Sci. Eng. R. Vol. 37.- 2002.-p. 4−6.
  131. Tamor M. A. Atomic constraint in hydrogenated «diamond-like» carbon / M. A. Tamor, W. C. Vassell, K. R. Carduner // Appl. Phys. Lett. Vol. 58. — No. 6. — 1991. — p. 592−594.
  132. Yoon S. F. Modeling and analysis of the electron cyclotron resonance diamond-like carbon deposition process / S. F. Yoon, K. H. Tan, J. Ahn. Rush // J. Appl. Phys. Vol. 91. — No. 3. — 2002. — p. 1634.
  133. Schwarz-Selinger T. Plasma chemical vapor deposition of hydrocarbon films: Yhe influence of hydrocarbon source gas on the film properties / T. Schwarz-Selinger, A. Von Keudell, W. Jacob // J. Appl. Phys. Vol. 86. — No. 7. -1999. — p. 3988−3996.
  134. Ferrari A. C. Elastic constants of tetrahedral amorphous carbon films by surface Brillouin scattering / A. C. Ferrari, J. Robertson, M. G. Beghi, C. E. Bottani, R. Ferulano, R. Pastorelli // Appl. Phys. Lett. Vol. 75. — No. 13.1999. p. 1893−1895.
  135. Morrison N. A. High rate deposition of ta-C:H using an electron cyclotron wave resonance plasma source / N. A. Morrison, S. E. Rodil, A. C. Ferrari, J. Robertson, W. I. Milne // Thin Solid Films. Vol. 337. — No. 1−2. — 1999. — p. 71−73.
  136. Weiler M. Deposition of tetrahedral hydrogenated amorphous carbon using a novel electron cyclotron wave resonance reactor / M. Weiler, K. Lang, E. Li, J. Robertson//Appl. Phys. Lett. Vol. 72. — No. 11. — 1998. — p. 1314−1316.
  137. Popescu B. Hydrogen incorporation and its structural effect on a-C:H films deposited by magnetron sputtering / B. Popescu, A. Tagliaferro, F. De Zan, E. A. Davis // J. Non-Cristalline Solids. Vol. 266−269. — Part B. — 2000. — p. 803−807.
  138. Adamopoulos G. Flydrogen content estimation of hydrogenated amorphous carbon by visible Raman spectroscopy / G. Adamopoulos, J. Robertson, N. A. Morrison, C. Godet // J. Appl. Phys. Vol. 96. — No. 11. — 2004. — p. 63 486 352.
  139. Moon M.-W. An experimental study of the influence of imperfections on the buckling of compressed thin films / M.-W.Moon, J.-W. Chung, K.-R. Lee, K. H. Oh, R. Wang, A. G. Evans // Acta Materialia. Vol. 50. — 2002. — p. 1219— 1227.
  140. Horiuchi T. Evaluation of Adhesion and Wear resistance of DLC Films Deposited by Various Methods / T. Horiuchi, K. Yoshida, M. Капо, M. Kumagai, T. Suzuki // Plasma Process. Polym. Vol. 6. — 2009. — p. 410−416.
  141. Robertson J. Deposition mechanisms for promoting sp3 bonding in diamondlike carbon // Diamond and Related Materials. Vol. 2. — No. 5−7. — 1993. — p. 984−989.
  142. Utsumi T. Effect of a hard supra-thick interlayer on adhesion of DLC film prepared with PBIID process / T. Utsumi, Y. Oka, E. Fujiwara, M. Yatsuzuka // Nucl. I strum. Mech. Phys. res. B. Vol. 257. — No. 1−2. — 2007. — p. 706−709.
  143. Fan Q. H. Adherent diamond coating on copper using an interlayer / Q. H. Fan, A. Fernandes, E. Pereira, J. Gracio // Vacuum. Vol. 52. — No. 1−2. -1999. — p. 193−198.
  144. Wang P. Comparing internal stress in diamond-like carbon films with different structure / P. Wang, X. Wang, T. Xu, W. Liu, J. Zhang // Thin Solid Films. Vol. 515. — No. 17. — 2007. — p. 6899−6903.
  145. Ali N. Chromium interlayers as a tool for enchancing diamond adhesion on copper / N. Ali, W. Ahmed, C. A. rego, Q. H. Fan // Diamond and Related Materials. Vol. 9. — No. 8. — 2000. — p. 1464−1470.
  146. Wang D.-Y. Study on metal-doped diamond-like carbon films synthesized by cathodic arc evaporation / D.-Y. Wang, K.-W. Weng, S.-Y. Hwang // Diamond and related Materials. Vol. 9. — No. 9. — 2000. — p. 1762−1766.
  147. Gerth J. The influence of metallic interlayers on the adhesion of PVD TiN coatings on high-speed steel / J. Gerth, U. Wiklund // Wear. Vol. 264. — No.9.10.- 2008. p. 885−892.
  148. Pauleau Y. Residual stresses in DLC films and adhesion to various substrates / под ред. С. Donnet, A. Erdemir. Tribology of Diamond-Like Carbon Films. — Springer, 2008.- 664 p.
  149. Liu D. G. Improving mechanical propeeties of a-CNx films by Ti-TiN/CNx gradient multilayer / D. G. Liu, J. P. Tu, C. F. Hong, C. D. Gu, Y. J. Mai, R. Chen // Appl. Surf. Sci. Vol. 251.- 2010. — p. 487−494.
  150. Oka Y. Effect of ion implantation layer on adhesion of DLC film by plasma-based ion implantation and deposition / Y. Oka, M. Nishijima, K. Hiraga, M. Yatsuzuka // Surface and Coatings Technology. Vol. 201. — 2007. — p. 66 476 650.
  151. Yatsuzuka M. Microstructure of interface for high-adhesion DLC film on metal substrates by plasma-based ion implantation / M. Yatsuzuka, Y. Oka, M. Nishijima, K. Hiraga// Vacuum. Vol. 83. — 2009. — p. 190−197.
  152. Tiainen V.-M. In situ surface oxide reduction with pulsed arc discharge for maximum adhesion of diamond-like carbon coatings / V.-M. Tiainen, A. Soininen, E. Alakoski, Y. T. Konttinen // Diamond and Related Materials. -Vol. 17. 2008. — p. 2071−2074.
  153. Chen K.-W. The study of adhesion and nonomechanical properties of DLC films deposited on tool steels / K.-W. Chen, J.-F. Lin// Thin Solid Films. -Vol. 517.- 2009.-p. 4916−4920.
  154. Podgornik B. Friction and wear properties of DLC-coated plasma nitrided steel in unidirectional and reciprocating sliding / B. Podgornik, J. Vizintin, H. Ronkainen, K. Holmberg // Thin Solid Films. Vol. 377−378. — 2000. — p. 254 260.
  155. Ham M. Diamond-like carbon films grown by large-scale DC plasma CVD reactor: system, design, film characteristics and applications / M. Ham, K. A. Lou// J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 8. — No. 3. — 1990. — p. 2143−2149.
  156. Anders A. Physics of arcing, and implications to sputter deposition // Thin Solid Films. Vol. 502. — No. 1−2. — 2006. — p. 22−28.
  157. Sproul W. D. Control of reactive sputtering processes / W. D. Sproul, D. J. Christie, D. C. Carter // Thin Solid Films. Vol. 491. — 2005. — p. 1−17.
  158. Jonsson L. B. Frequency response in pulsed DC reactive sputtering processes / L. B. Jonsson, T. Nyberg, I. Katardjiev, S. Berg // Thin Solid Films. Vol. 365.- 2000.-p. 43−48.
  159. Kelly P. J. Pulsed DC titanium nitride coatings for improved tribological performance and tool life / P. J. Kelly, T. Braucke, Z. Liu, R. D. Arnell, E. D. Doyle // Surface and Coatings Technology. Vol. 202. — No. 4−7. — 2007. — p. 774−780.
  160. Belkind A. Mid-frequency reactive sputtering of dielectrics: A1203 / A. Belkind, A. Freilich, G. Song, Z. Zhao, R. Scholl, E. Bixon // Surface and Coatings Technology. Vol. 174−175. — 2003. — p. 88−93.
  161. Robertson J. Mechanism of sp3 bond formation in the growth of diamond-like carbon // Diamond & Related Materials. Vol. 14. — 2005. — p. 942−948.
  162. Ю. M. Химико-термическая обработка металлов / Ю. М. Лахтин, Б. Н. Арзамасов. М.:Металлургия, 1985. — 256 с.
  163. В. К. Электронное строение и термодинамика сплавов железа. М.: Наука, 1970. — 292 с.
  164. Т. А. Создание максимальной насыщающей способности газовой среды при ионном азотировании сплавов // Физика и химияобработки материалов. Т. 4. — 2003. — с. 70−78.
  165. Beer P. Low temperature ion nitriding of the cutting knives made of HSS / P. Beer, J. Rudnicki, S. Bugliosi, A. Sokolowska, E. Wnukowski // Surf. Coat. Technol. Vol. 200. — 2005. — p. 146−148.
  166. Jie Z. Fabrication of functionally graded Ti (C, N)-based cermets by double-glow plasma carburization / Z. Jie, Z. Young, Y. Quan, Z. Yixin, Y. Lixin // Int. Journal of Refractory Metals & Hard Materials. Vol. 27. — 2009. — p. 642−646.
  167. IO. X. Азотирование технического чистого титана в тлеющем разряде с полым катодом / IO. X. Ахмадеев, И. М. Гончаренко, Ю. Ф. Иванов, Н. Н. Коваль, П. М. Щанин // Письма в ЖТФ. Т. 31. — В. 13. -2005. — с. 24−30.
  168. А. А. Азотирование сталей в газовом дуговом разряде низкого давления / А. А. Андреев, В. М. Шулаев, JI. П. Саблев // ФИП. Т. 4. — № 3−4. — 2006. — с. 191−197.
  169. Manova D. Influence of annealing conditions on ion nitriding of martensitic stainless steel / D. Manova, S. Mandl, H. Neumann, B. Rauschenbach // Surf. Coat. Technol. Vol. 200. — 2006. — p. 6563−6567.
  170. Muratore С. Low-temperature nitriding of stainless steel ia an electron beam generated plasma / C. Muratore, D. Leonhardt, S. G. Walton, D. D. Blackwell, R. F. Femsler, R. A. Meger // Surf. Coat. Technol. Vol. 191. — 2005. — p. 255−262.
  171. Zhecheva A. Enchancing the microstructure and properties of titanium alloys through nitriding and other surface engineering methods / A. Zhecheva, W. Sha, S. Malinov, A. Long // Surf. Coat. Technol. Vol. 200. — 2005. — p. 21 922 207.
  172. . К. Термическая обработка титановых сплавов. М.:Металлургия, 1969. 376 с.
  173. И. М. Теория и практика безводородного азотирования в тлеющем разряде. Харьков: ННЦ ХФТИ, 2006. — 304 с.
  174. Ю. М. Теория и технология азотирования: Монография / Ю. М. Лахтин, Я. Д. Коган, Г. Шпис, 3. Бемер М.: Металлургия, 1991. — 320 с.
  175. Kolbel J. Die Nitridschitbildung beider Glimmnitricrung// Forschungsberichte des Landes Nordrhein-Westfalen. Bd. 1555.- 1965. — s. 1−19.
  176. Keller K. Jonnitriren steurbare Oberflachcnver festigung durch Jonnitriren// Technishe Rundshau. Bd. 63. — №. 37. — 1971 — s. 33−39.
  177. Edenhofer B. Physikalishe und metallkundlichhe Vorgange beim Nitriren in Plasma einer Glimmentladung // Harterci-Technishe Mitteilungen. Bd. 29. -№ 2, — 1974.-s. 105−112.
  178. .Н. Ионная химико-термическая обработка сплавов: Монография / Б. Н. Арзамасов, А. Г. Братухин, Ю. С. Елисеев, Т. А. Панайоти. М.: Изд. МГТУ им Баумана, 1999. — 400 с.
  179. Ю. Е. Об азотировании анода в тлеющем разряде / Ю. Е. Крейндель, Л. П. Пономарёва, В. П. Пономарёв, А. И. Слосман // Электронная обработка материалов. № 4. — В. 118. — 1983. — с. 32−34.
  180. Tibbetts G. G. Role of nitrogen atoms in «ion-nitriding» // J. Appl. Phys. Vol45.-No. П. 1974.-p. 5072−5073.
  181. А.А. Азотирование стали в плазме модифицированного вакуумно-дугового разряда / А. А. Андреев, В. В. Кунченко, Л. П. Саблев, Р. И. Ступак, В. М. Шулаев // Технология машиностроения. № 5.- 2002.-с. 27−30.
  182. Е. А. Азотирование поверхности титановых сплавов дуговой плазмой низкого давления / Е. А. Неровный, 13. В. Перемитько // ФХОМ. -Т. 3. 1995. — с. 49−54.
  183. Cao Z. X. Effect of concurrent N2+ and N+ ion bombardment on the plasmaassisted deposition of carbon nitride thin film / Z. X. Cao, H. Oechsner // J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 22. — No. 2. — 2004. — p .321−323.
  184. Walton S.G. Electron-beam-generated plasmas for materials processing / S. G. Walton, C. Muratore, D. Leonhardt, R. F. Fernsler, D. D. Blackwell, R. A. Meger// Surface & Coatings Technology. Vol. 186. — 2004. — p. 40−46.
  185. Oechsner H. Process controlled microstructural and binding properties of hard physical vapor deposition films // J.Vac.Sci.Technol. A. Vol. 16. — No. 3. -1998. — p. 1956−1962.
  186. Szabo A. Zum Mechanismus der Nitrierung von Stahloberflachen in Gleichspannungsglimmentladungen / A. Szabo, H. Wilhelmi // HartereiTechnische Mitteilungen. Bd. 39. -№ 4. — 1984. — p. 148−154.
  187. Lutz J. Nitrogen diffusion in medical CoCrNiW alloys after plasma immersion ion implantation / J. Lutz, A. Lehmann, S. Mandl // Surface & Coatings technology. Vol. 202. — 2008. — p. 3747−3753.
  188. Ю. P. Технология формирования структуры и свойств титановых сплавов для медицинских имплантатов с биоактивными покрытиями / // Российские нанотехнологии. Т. 4. — № 9−10. — 2009. — с. 19−31.
  189. Lo К. Н. Recent developments in stainless steels / К. H. Lo, С. H. Shek, J. К.
  190. Lai // Materials Science and Engineering R. Vol. 65. — 2009. — p. 39−104.
  191. Xi Y. Improvement of erosion and erosion-corrosion resistance of AISI420 stainless steel by low temperature plasma nitriding / Y. Xi, D. Liu, D. Han // Applied Surface Science. Vol. 254. — 2008. — p. 5953−5958.
  192. Meletis E. I. Intensified plasma-assisted processing: science and engineering // Surf. Coat. Technol. Vol. 149. — 2002. — p. 95−113.
  193. Ochoa E. A. The influence of tthe ion current density on plasma nitriding process / E. A. Ochoa, C. A. Figueroa, F. Alvarez // Surface & Coatings Technology. Vol. 200. — 2005. — p. 2165−2169.
  194. Moller W. Surface processes and diffusion mechanisms of ion nitriding of stainless steel and aluminium / W. Moller, S. Parascandola, T. Telbizova, R. Gunzel, E. Richter// Surf. Coat. Technol. Vol. 136. — 2001. — p. 73−79.
  195. Singh G. P. Effect of surface roughness on the properties of the layer formed on AISI304 sainless steel after plasma nitriding / G. P. Singh, J. Alphonsa, P.
  196. К. Barhai, P. A. Rayjada, P. M. Raole, S. Mukherjee // Surface & Coatings Technology. Vol. 200. — 2006. — p. 5807−581 1.
  197. Kwon S. C. Geometric Effect of Ion Nitriding on the Nitride Growth Behavior in Hollow Tube / S. C. Kwon, M. J. Park, W. S. Baek, G. H. Lee // Journal of Materials Engineering and Performance. Vol. 1. — No. 3. — 1992. — p. 353 358.
  198. Rolinski E. Negative Effects of Reactive Sputtering in an Industrial Plasma Nitriding / E. Rolinski, J. Armer, G. Sharp // Journal of Materials Engineering and Performance. Vol. 14. — No. 3. — 2005. — p. 344−350.
  199. Pogrelyuk I. N. On the problem of intensification of nitriding of titanium alloys // Metal Science and Heat Treatment. Vol. 41. — No. 5−6. — 1999. — p. 242−245.
  200. Szabo A. Mass Spectrometric Diagnosis of the Surface Nitriding Mechanism in a D.C. Glow Discharge / A. Szabo, H. Wilhelmi // Plasma Chemistry and Plasma Processing. Vol. 4. — No. 2. — 1984. — p. 89−105.
  201. А. В. Несамостоятельный тлеющий разряд с полым катодом для широкоапертурных ионных источников / А. В. Визирь, Е. М. Оке, П. М. Щанин, Г. Ю. Юшков // ЖТФ. В. 67. — № 6. — 1997. — с. 27−31.
  202. Н. В. Осаждение алмазоподобных покрытий в несамостоятельном разряде с плазменным катодом / Н. В. Гаврилов, А. С. Мамаев, А. С. Кайгородов // Письма в ЖТФ. В. 35. — № 1. — 2009. — с. 69−75.
  203. А. С. Динамика электронных пучков в плазме // ЖТФ. Т. 71.-В. 4.-2001.-с. 111−121.
  204. Leonhardt D. Fundamentals and applications of a plasma-processing system based on electron-beam ionization / D. Leonhardt, S. G. Walton, R. F. Fernsler // Physics of Plasmas. Vol. 14. — 2007. — p. 57 103.
  205. Halas St. Cross sections for the production of N2+, N+ and N2 2+ from nitrogen by electrons in the energy range 16−600 eV / St. Halas, B. Adamczyk // Int. J. Mass Spectrometry and Ion Phys. Vol. 10. — 1972. — p. 157−160.
  206. Schram B. L. Ionization cross sections for electrons (0,6−20 keV) in noble and diatomic gases / B. L. Schram, F. J. de Heer, M. J. Van der Wiel, J. Kistemaker // Physica. Vol. 31, — 1965. — p. 94−112.
  207. Tian C. Electron impact ionization of N2 and 02: contributions from different dissociation channels of multiply ionized molecules / C. Tian, C. R. Vidal // J. Phys. B. Vol. 31. — 1998. — p. 5369−5381.
  208. Abraha P. Surface modification of steel surfaces by electron beam excited plasma processing / P. Abraha, Y. Yoshikawa, Y. Katayama // Vacuum. Vol. 83. -2009. — p. 497−500.
  209. Оке E. M. Источники электронов с плазменным катодом: физика, техника, применения. Томск: изд-во НТЛ, 2005. — 216 с.
  210. Thornton J. A. High rate thick film growth // Annual Review of Materials science. Vol. 7. — 1977. — p. 239−260.
  211. Messier R. Revised structure zone model for thin film physical structure / R. Messier, A. P. Giri, R. A. Roy // J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 2. — No. 2. -1984. — p. 500−503.
  212. Kelly P. J. Development of a novel structure zone model relating to the closed-field unbalanced magnetron sputtering system / P. J. Kelly, R. D. Arnell// J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 16. — No. 5. — 1998. — p. 2858−2869.
  213. Musil J. Reactive sputtering of TiN films at large substrate to target distances / J. Musil, S. Kadlec // Vacuum. Vol. 40. — № 5. — 1990. — p. 435−444.
  214. Spatenka P. A comparison of internal plasma parameters in a conventional planar magnetron and a magnetron with additional plasma confinement / P. Spatenka, I. Leipner, J. Vicek, J. Musil // Plasma Sources Sci. Technol. Vol. 6. — 1997. — p. 46−52.
  215. Chen X. Cr-doped DLC multilayered thin films depositited using cathodic vacuum arc- and DC magnetron-assisted ion beam sputtering / X. Chen, Z. Peng, Z. Fu, C. Wang // Advanced Materials research. Vol. 105−106. — 2010. -p. 429−431.
  216. Bather K.-FI. Ion-beam-assisted deposition of magnetron-sputtered metal nitrides / K.-H. Bather, U. Herrmann, A. Schroer // Surface anbd Coatings Technology. Vol. 74−75. — 1995. — p. 793−801.
  217. Kaufman PI. R. End-Hall ion source / H. R. Kaufman, R. S. Robinson, R. Seddon//J. Vac. Sci. Technol A. Vol. 5. — No. 4. — 1987. — p. 2081−2084.
  218. В. Т. Формирование пучка равномерной плотности в холловском ионном источнике с открытым торцом / В. Т. Свирин, А. И. Стогний // Приборы и техника эксперимента. Т. 5. — 1996. — с. 103−105.
  219. Berg S. Fundamental understanding and modeling of reactive sputtering processes / S. Berg, T. Nyberg // Thin Solid Films. Vol. 476. — 2005. — p. 215−230.
  220. Mohan G. Studies on glow-disacharge characteristics during DC reactive magnetron sputtering / G. Mohan, S. Mohan // J. Appl. Phys. Vol. 69. — No. 9. — 1991. — p. 6652−6655.
  221. Ball D. J. Plasma Diagnostics and Energy Transport of a DC Discharge Used for Sputtering // J. Appl. Phys. Vol. 43. — No. 7. — 1972. — p. 3047−3057.
  222. Brylewski T. Application of Fe-16Cr ferritic alloy to interconnect for a solid oxide fuel cell / T. Brylewski, M. Nanko, T. Maruyama, K. Przybylski // Solid State Ionics.-Vol. 143. 2001. — p. 131−150.
  223. Fergus J. W. Metallic interconnects for solid oxide fuel cells // Materials science and Engineering A. Vol. 397. — 2005. — p. 271−283.
  224. В. Ф. Маиганиты: равновесные и нестабильные состояния / В. Ф. Балакирев, В. FI. Бархатов, Ю. В. Голиков, С. Г. Майзель. -Екатеинбург: УрО РАН, 2000. 397 с.
  225. S. М. Ion beam bombardment effects during film deposition / S. M. Rossnagel, J. J. Cuomo // Vacuum. Vol. 38. — No. 2. — 1988. — p. 73−81.
  226. Musil J. Ion-assisted sputtering of TiN films / J. Musil, S. Kadlec, V. Valvoda, R. Kuzel, R. Cerny // Surf. Coat. Technol. Vol. 43−44. — 1990. — p. 259−269.
  227. Л.С. Поры в пленках / Л. С. Палатник, П. Г. Черемской, Я. М. Фукс. Москва: Энергоиздат, 1982. — с. 92−100.
  228. П. Высокотемпературное окисление металлов. М.: Мир, 1969. — 392 с.
  229. С. Вакуумная техника: Справочник / С. Фролов, В. Е. Минайчев, А. Т. Александрова и др. М.: Машиностроение, 1992. — 480 с.
  230. H.B. Ионный источник с крупноструктурным сеточно-плазменным катодом / Н. В. Гаврилов, Д. Р. Емлин, А. С. Каменецких // Изв. вузов. Физика. Т. 50. — № 9. — 2007. — с. 149−153.
  231. Grill A. Plasma-deposited diamondlike carbon and related materials // IBM J. Res. Develop.-Vol. 43.-No. ½, — 1999.-p. 147−161.
  232. Bremond F. Test temperature effect on the tribological behaviour of DLC-coated 100C6-steel couples in dry friction / F. Bremond, P. Fournier, F. Platon// Wear. Vol. 254. — 2003. — p. 774−783.
  233. Bull S.J. Nanoindentation of coatings // J. Phys. D: Appl. Phys. Vol. 38. -2005. — p. 393−413.
  234. С.Н. Микротвердость материалов: Методические указания к лабораторной работе / С. Н. Паршев, Н. Ю. Полозенко. ВолГТУ, Волгоград, 2004. — 15 с.
  235. В. И. Размерный эффект в значениях твердости материалов / В. И. Мощенок, И. В. Дощечкина, А. А. Ляпин // Вестник Харьковского национального автомобильно-дорожного университета. Т. 41. — 2008. -с. 71−77.
  236. Ю. И. Размерные эффекты в твердости в поликристаллическом ниобии / Ю. И. Головин, М. Г. Исаенкова, О. А. Крымская, В. М. Васюков, Р. А. Столяров, А. В. Шуклииов, Л. Е. Поляков // Письма в ЖТФ. Т. 36. — В. 8. — 2010. — с. 48−51.
  237. Ю. И. Введение в нанотехнику. М.: Машиностроение, 2008. -496 с.
  238. Chantidis С.A. Nanomechanical and nanotribological properties of carbon-based thin films: A review // Int. Journal of Refractory Metals & Hard Materials. Vol. 28. — 2010. — p. 51 -70.
  239. Casiraghi C. Bonding in hydrogenated diamond-like carbon by Raman spectroscopy / C. Casiraghi, F. Piazza, A. C. Ferrari, D. Grambole, J. Robertson // Diamond & Related Materials. Vol. 14. — 2005. — p. 1098−1102.
  240. H. В. Расширение рабочего диапазона давлений газа и увеличение ресурса сетки плазменного катода в ионном источнике / Н. В. Гаврилов, А. С. Каменецких // ЖТФ. Т. 77. — В. 3. — 2007. — с. 12−16.
  241. Н. В. Высокоэффективная эмиссия плазменного катода с сеточной стабилизацией / Н. В. Гаврилов, Д. Р. Гмлин, А. С. Каменецких // ЖТФ. Т. 78. — В. 10. — с. 59−64.
  242. Я. В. Потенциал изолированного электрода в системе плазма-электронный поток // ЖТФ. Т. 66. — В. 6. — 1996. — с. 70−76.
  243. Н. Азотирование сплава Ti-6%A1−4%V в плазме интенсифицированного тлеющего разряда / Н. Кашаев, Х.-Р. Шток, П. Майр / Металловедение и термическая обработка металлов. Т.7. — 2004.- с. 28−32.
  244. ASM Handbook, Volume 05: Surface Engineering / С. M. Cotell, J. A. Sprague, F. A. Smidt, Asm International Staff. ASM International (OH), 1994. — 1056 p.
  245. M. Атомные и ионные столкновения на поверхности металла. М.: Мир, 1967. — 506 с.
  246. Физические величины: Справочник / под ред. И. С. Григорьев, Е. 3. Мейлихов. М.: «Энергоагомиздат», 1991. — 1232 с.
  247. И. Г. Высокодозовая низкоэнергетичная ионная имплантация азота в сплавах / И. Г. Марченко, И. И. Марченко, И. М. Неклюдов // Вопросы атомной науки и техники. Т. 4. — 2006. — с. 182−184.
  248. Riviere J. P. Chemical bonding of nitrogen in low energy high flux implanted austenitic stainless steel / J. P. Riviere, M. Chaoreau, P. Meheust // J. Appl. Phys.-Vol. 91.- 2002.-p. 6361.
  249. .С. Термодинамика и кинетика диффузии в твердых телах / Б. С. Бокштейн, С. 3. Бокштейн, А. А. Жуховицкий. М., Металлургия, 1974.- 280 с.
  250. Gavrilov N. V. Steel Interconnects with Magnetron-Sputtered Mn-Co-0 Spinel Coatings for Solid Oxide Fuel Cells / N. V. Gavrilov, A. S. Mamaev, A. I. Medvedev, A. M. Murzakaev // Известия вузов Физика, Приложение. — № 9. — 2007. — с. 288−291.
  251. Plotnikov S. A. Properties of а-С:Н Films Obtained by Means of the Hydrocarbon Destruction in High-Frequency Impulse Discharge / S. A. Plotnikov, N. V. Gavrilov, A. S. Mamaev, I. Sh. Trakhtenberg, V. A. Ugov,
  252. A. P. Rubshtein // Proc. of 5th International Conference on Tribochemistry, Lanzhou, China. 2009. — p. 41 -42.
  253. А. В. Кислородный насос на гвердооксидном электролите / А. В. Спирин, А. С. Липилин, А. В. Никонов, С. Н. Паранин, В. Р. Хрустов, Н.
  254. B. Гаврилов, А. С. Мамаев, А. В. Валенцев // Сборник докладов Всеросийской конференции с международным участием «Твердооксидные топливные элементы и энергоустановки на их основе», Черноголовка, Россия. -2010.-е. 105−106.
  255. Патент РФ № 23 821 16. Способ нанесения аморфных углеводородных покрытий / Н. В. Гаврилов, А. С. Мамаев. Заявл. 31.03.2008. — Опубл. 20.02.2010. -Бюл. № 5. -8 с.
  256. Патент РФ № 2 413 033. Способ плазменного азотирования изделия из стали или цветного сплава / FI. В. Гаврилов, А. С. Мамаев. Заявл. 11.01.2009. — Опубл. 27.02.2011. — Бюл. № 6.-9 с.
  257. Н. В. Разработка источников ионов для ионно-плазменных технологий нанесения покрытий / Н. В. Гаврилов, А. С. Каменецких, А. С. Мамаев // Вестник УГТУ-УПИ. № 5. — В. 5. — Часть 2. — 2004. — с. 188−194.
  258. FI. В. Осаждение алмазоподобных а-С:Н покрытий в несамостоятельном разряде с плазменным катодом / Н. В. Гаврилов, А.
  259. С. Мамаев, А. С. Кайгородов // Письма в Ж’ГФ. Т. 35. — В. 1. — 2009. -с. 69−75.
  260. Н. В. Низкотемпературное азотирование титана в плазме низкоэнергетического электронного пучка // Н. В. Гаврилов, А. С. Мамаев / Письма в ЖТФ. Т. 35. — В. 15. — 2009. — с. 57−64.
  261. Н. В. Азотирование аустенитной нержавеющей стали в низковольтном пучковом разряде / Н. В. Гаврилов, А. С. Мамаев, А. И. Медведев // Известия высших учебных заведений Физика. — № 11/2.2009. -с. 166−171.
  262. Gavrilov N. V. Low-Temperature Nitriding of Titanium and Titanium Alloys by Electron-Beam-Generated Plasma / N. V. Gavrilov, A. S. Mamaev // Електротехника и Електроника «E+E». Vol. 5. -№ 6. — 2009. — p. 141 148.
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!