Разработка технологических мероприятий по повышению эффективности процесса магнетронного напыления упрочняющих 3D-нанокомпозитных покрытий металлорежущего инструмента
Диссертация
Магнетронное напыление, обеспечивающее формирование нанокомпозитной структуры покрытия, обладающей низким коэффициентом трения и обеспечивающей высокоэффективную защиту от износа и коррозии при повышенных температурах, является в настоящее время наиболее перспективным методом нанесения упрочняющих покрытий'.' Несмотря на это, данный метод нанесения покрытий не получает промышленного… Читать ещё >
Список литературы
- Полетаев, В. А. Разработка и внедрение наноструктурированных покрытий при изготовлении деталей газотурбинных двигателей Текст. / В. А. Полетаев, Т. Д. Кожина // Инновации. 2007. — № 12. — С. 89 — 91.
- Федотов, А. В. Многофункциональные нанокомпозитные покрытия Текст. / А. В. Федотов, Ю. В. Агабеков, В. С. Мачикин // Наноиндустрия: Научно-технический журнал. М: Техносфера. — 2008. — № 1. — С. 24 — 26.
- Chen, F. Industrial applications of low temperatures plasma physics Text. / F. Chen // Phys. Plasmas. — 1995. — vol. 2. — n. 6. — P. 2164 — 2175.
- Hultman, L. Nanotechnology Turning Nanoscience into Business Text. / L. Hultman. — 2005. — P. 76 — 88.
- Арцимович, JI. А. Плазменные ускорители Текст. / Л. А. Арцимович. М.: Машиностроение, 1973. — 282 с.
- Kirk, J. G. The evolution of a test particle distribution in a strongly magnetized plasma Text. / J. G. Kirk, D. J. Galloway // Phys. Plasmas. 1982. vol. 24. — n. 4 — P. 339 -359.
- Никитин, M. M. Технология и оборудование вакуумного напыления Текст. / М. М. Никитин. М.: Металлургия, 1992. — 112 с.
- Vriens, L. Energy balance in low pressure gas discharges Text. / L. Vriens // J. Appl. Phys. — 1973. — vol. 44 — n. 9 — P. 3980 — 3989.
- Kuwahara, K. Application of the Child Langmuir Law to Magnetron Discharge Plasmas Text. / K. Kuwahara, H. Fujiyama // IEEE Trans. Plasma. Sci. — 1994. -vol. 22.-n.4-P. 442−448.
- Агабеков, Ю. В. Магнетронное распыление Текст. / Ю. В. Агабеков. -Дзержинск: Элан-Практик, 2010. 130 с.
- Азгальдов, Г. Г. О квалиметрии Текст. / Г. Г. Азгальдов, Э. П. Райхман. -М.: Издательство стандартов, 1972. 172 с.
- Теленкевич, В. В. Квалиметрия: история, возможности, методы Текст. / В. В. Теленкевич // Бизнес-образование в условиях глобализации. Материалы науч.-практ. конф. Иркутск: БИБММ ИГУ, 2006. — С. 40 — 44.
- Варжапетян, А. Г. Квалиметрия Текст. / А. Г. Варжапетян. СПб.: СПбГУАП, 2005. — 176 с.
- Фомин, В. Н. Квалиметрия. Управление качеством. Сертификация Текст. / В. Н. Фомин. М.: ЭКМОС, 2000. — 320 с.
- Калейчик, М. М. Квалиметрия Текст. / М. М. Калейчик. М.: МГИУ, 2005.-200 с.
- Шишкин, И. Ф. Квалиметрия и управление качеством Текст. / И. Ф. Шишкин, В. М. Станякин. М.: ВЗПИ, 1992. — 210 с.
- Смирнов, В. А. Роль символизации и формализации в научном познании Текст. / В. А. Смирнов // Труды томского государственного университета имени В. В. Куйбышева. Том 149. — 1961. — С. 152 — 164.
- Хвастунов, Р. М. Экспертные оценки в квалиметрии машиностроения Текст. / Р. М. Хвастунов, О. И. Ягелло. М.: МГУ, 2002. — 142 с.
- Азгальдов, Г. Г. Количественная оценка качества (Квалиметрия) Текст. / Г. Г. Азгальдов, Л. А. Азгальдова. -М.: Издательство стандартов, 1971. 178 с.
- Кершенбаум, В. Я. Методы квалиметрии в машиностроении Текст. / В. Я. Кершенбаум, Р. М. Хвастунов. М.: МГУ, 1999. — 213 с.
- Азгальдов, Г. Г. Теория и практика оценки качества товаров (основы квалиметрии) Текст. / Г. Г. Азгальдов. М.: Экономика, 1982. — 282 с.
- Осипов, Д. С. Методика квалиметрической оценки и анализа производственных процессов Текст. / Д.'С. Осипов, И. А. Михайловский, И. Г. Гунн // Век качества. 2011. — № 3. — С. 36−38.
- Райзер, Ю. П. Физика газового разряда Текст.: 2-е изд. перераб. и доп. / Ю. П. Райзер. М.: Наука. Гл. ред. физ.-мат. лит., 1992. — 536 с.
- Чен, Ф. Введение в физику плазмы Текст.: Пер. с англ. / Ф. Чен. М.: Мир, 1987.-398 с.
- Ключарев, А. Н. Введение в физику низкотемпературной плазмы Текст. / А. Н. Ключарев, В. Г. Мишаков, Н. А. Тимофеев. СПб.: СПбГУ, 2008. — 214 с.
- Кабардин, О. Ф. Физика Текст. / О. Ф. Кабардин. М.: АСТРЕЛЬ, 2005.416 с.
- Дэшман, С. Научные основы вакуумной техники Текст. / С. Дэшман. -М.: Мир, 1964.-446 с.
- Королев, Б. И. Основы вакуумной техники Текст. / Б. И. Королев. М.:о
- Госэнергоиздат., 1957. 400 с.
- Ланис, В. А. Техника вакуумных испытаний Текст. / В. А. Ланис, Л. Е. Левина. М.: Госэнергоиздат, 1963. — 62 с.
- Ворончев, Т. А. Физические основы электровакуумной техники Текст. / Т. А. Ворончев, В. Д. Соболев М.: Высшая школа, 1967. — 352 с.
- Хасс, Г. Физика тонких плёнок Текст.: Том 1 /Г. Хасс. М.: Мир, 1967.383 с.
- Тагиров, Р. Б. О некоторых параметрах высокого вакуума их роли в физике тонкослойных покрытий Текст. / Р. Б. Тагиров // Вакуумная техника: научно-технический сборник. Вып. 2. — Казань, 1970. — С. 3 — 11
- ДеБур, Я. Динамический характер адсорбции Текст. / Я. Де Бур. М.: Мир, 1962.-290 с.
- Данилин, Б. С. Вакуумное нанесение тонких плёнок Текст. / Б. С. Данилин. М.: Энергия, 1967. — 312 с.
- Востров, Г. А. Вакуумметры Текст. / Г. А. Востров, Л. Н. Розанов Л.: Машиностроение, 1967. — 236 с.
- Луизова, Л. А. Проблемы и перспективы исследования упорядоченных структур в плазме. НОЦ «Плазма» Текст. / Л. А. Луизова, А. Д. Хахаев -Петрозаводск: ПетрГУ, 2002. 31 с.
- Кудрявцев, А. А. Положительный столб тлеющего разряда Текст. / А. А. Кудрявцев, В. Г. Мишаков, Т. Л. Ткаченко СПб.: СПбГУ, 2006. — 32 с.
- Ключарев, А. Н. Процессы ионизации при тепловых и субтепловых1.столкновениях тяжелых частиц в низкотемпературной плазме Текст. /
- A. Н. Ключарев. СПб.: СПбГУ, 2006. — 87 с.
- Шайхиев, Г. Ф. О подобии процессов молекулярного переноса в разряженных газах Текст. / Г. Ф. Шайхиев // Вакуумная техника: научно-технический сборник. Вып. 2. — Казань, 1970. — С. 24 — 27.
- Данилин, Б. С. Энергетическая эффективность процесса ионного распыления материалов и систем для его реализации Текст. / Б. С. Данилин,
- B. Ю. Киреев, В. К. Сырчин // Физика и химия обработки материалов. 1979. — № 2. — С. 52−56.
- Данилин, Б. С. Ионное травление микроструктур Текст. / Б. С. Данилин,
- B. Ю. Киреев М.: Советское радио, 1979. — 103 с.
- Григорьев, Ф. И. Осаждение тонких, пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков в технологии микроэлектроники Текст. / Ф. И. Григорьев. М.: Моск. гос. ин-т электроники и математики, 2006. — 35 с.
- Плешивцев, Н. В. Физические проблемы катодного распыления Текст. /Н. В. Плешивцев. М.: ИАЭ им. И. В. Курчатова, 1979. — 90 с.
- Westwood, W. D. Calculation of Deposition Rates in Diode Sputtered Systems Text. / W. D. Westwood // J. Vac. Sei. Technol. 1978. — Vol. 15. — № 1 — P. 1 — 9.
- Meyer, K. Thermalization of Sputtered Atoms Text. / K. Meyer, I. K. Shuller,
- C. M. Falco // J Appl. Phys. 1981. — Vol. 52. — № 9. — P. 5803 — 5805.
- Mase, H. Direct Measurement of Diffusion Coefficients of Sputtered Atoms in Argon Text. / H. Mase, Т. Tanabe, G. Miyamoto // J. Appl. Phys. 1979. — Vol. 50. -№ 5.-P. 3684−3686.
- Ефремов, A. M. Вакуумно-плазменные процессы и технологии Текст. / А. М. Ефремов, В. И. Светцов, В. В. Рыбкин. Иваново: Иван. гос. хим.-технол. унт., 2006.-260 с.
- Епифанов, Г. И. Физические основы микроэлектроники Текст. / Г. И. Епифанов. М.: Советское радио, 1971. — 376 с.
- Бериш, Р. Распыление твёрдых тел ионной бомбардировкой Текст.: перевод с англ. /Р. Бериш. М.: Мир, 1984. — 488.с. .
- Вольпяс, В. А. Технология элементов электронной техники Электронный ресурс. / В. А. Вольпяс, Е. К. Гольман, В. Е. Логинов, (http://old.eltech.ru/kafedrs/ /feteips/ golman/BOOK/)
- Электронный ресурс: http://dic.academic.ru
- Киреев, В. Ю. Плазмохимическое и ионно-химическое травление микроструктур Текст. / В. Ю. Киреев, Б. С. Данйлин, В. И. Кузнецов. М.: Радио и связь, 1983. — 128 с.
- Князев, Б. А. Низкотемпературная плазма и газовый разряд Текст. / Б. А. Князев. Новосибирск: НГТУ, 2000. — 164 с.
- Андреев, А. А. Влияние давления азота при осаждении сверхтвердых ЛЫ покрытий на их свойства Текст. / А. А. Андреев, В. М. Шулаев // ФИЛ РБЕ, т. 5, 2007. -№ 3.С. 203−206.
- Петухов, В. В. Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок Текст. / В. В. Петухов,
- A. А. Гончаров // ФИП РБЕ, т. 3,2005. № 3. — С. 241−244.
- Хороших, В. М. Влияние давления азота на процесс фокусировки потоков частиц, генерируемых вакуумным дуговым разрядом Текст. / В. М. Хороших, С. А. Леонов, Г. И. Носов // ФИП РБЕ. т. 8, 2010. № 2. — С. 150−154.
- Агабеков, Ю. В. Лабораторная вакуумная установка магнетронного нанесения многофункциональных нанокомпозитных покрытий «ШЛСОАТ 400». Руководство по эксплуатации Текст. /. Ю. В. Агабеков, А. М. Сутырин,
- B. С. Мачикин. Дзержинск: Элан-Практик, 2010. — 56 с.
- Агабеков, Ю. В. Инструкции по осуществлению процессов магнетронного распыления Текст. /Ю. В. Агабеков. Дзержинск: Элан-Практик, 2010. — 32 с.
- Кузьмичёв, А. И. Магнетронные распылительные системы. Книга 1. Введение в физику и технику магнетронного распыления Текст. / А. И. Кузьмичёв. К.: Аверс, 2008. — 224 с.
- Адлер, Ю. П. Планирование эксперимента при поиске оптимальных условий: издание 2-е, переработанное Текст. / Ю. П. Адлер, Е. В. Маркова, Ю. В. Грановский. М.: Наука, 1976. — 279 с.
- Система для измерения микротвердости с программным обеспечением ТО^-НСи ШЗСНЕКБСОРЕ НМ 2000: Руководство по эксплуатации Текст. -Санкт-Петербург, 2010. 121 с.
- Микроскоп металлографический инвертированный Метам ЛВ-41: руководство по эксплуатации Текст.- Санкт-Петербург, 2010. 49 с.
- Спиридонов, А. А. Планирование эксперимента при исследовании технологических процессов Текст. / А. А. Спиридонов. М.: Машиностроение, 1981.-184 с.
- Нанивская, В. Г. Теория экономического прогнозирования Текст. / В. Г. Нанивская, И. В. Андронова. Тюмень: ТюмГНГУ, 2000. — 98 с.
- Воздвиженский, В. М. Планирование эксперимента и математическая обработка результатов в литейном производстве Текст. / В. М. Воздвиженский, А. А. Жуков. Ярославль: ЯПИ, 1985. — 88 с.
- Румшиский, Л. 3. Математическая обработка результатов эксперимента Текст. / Л. 3. Румшиский. -М.: Наука, 1971. 192 с. •
- Смирнов, Н. В. Курс теории вероятностей и математической статистики для технических приложений Текст. / Н. В. Смирнов, И. В. Дунин-Барковский. -М.: Наука, 1965.-512 с.
- Венцтель, Е. С. Теория вероятностей и её инженерные приложения Текст. /Е. С. Венцтель, Л. А. Овчаров. М.: Наука, 1988. — 480 с.
- Налимов, В. В. Логические основания планирования эксперимента Текст. /В. В. Налимов, Т. И. Голикова. -М.: Металлургия, 1980. 152 с.
- Кухлинг, X. Справочник по физике: пер. с нем. 2-е изд. Текст. / X. Кухлинг. М.: Мир, 1985. — 520 с.
- Никольский, Б. П. Справочник химика, т.1. Текст. / Б. П. Никольский. -М-Л.: Химия, 1982. 1062 с.
- Майссел, Л. Технология тонких плёнок: справочник. Пер. с англ. Т.2. Текст. / Л. Майссел, Р. Гленг. М.: Сов. радио, 1977 — 768 с.
- Фролов, Е. С. Вакуумная техника: справочник Текст. / Е. С. Фролов,
- A. Т. Минайчев. М.: Машиностроение, 1992. — 480 с.
- Прохоров, А. М. Физическая энциклопедия Текст. / А. М. Прохоров. -М.: Сов. Энциклопедия., 1988. 704 с.
- Орлов, К. А. Моделирование и оптимизация химико-технологических процессов Текст. /К. А. Орлов. М.: МЭИ, 2008. — 77 с.
- Медведева, Т. В. Моделирование и оптимизация технологических процессов Текст. /Т. В. Медведева. -М.: МГУС, 2008. 115 с.
- Суркова, В. М. Оптимизация технологических процессов Текст. /
- B. М. Суркова, В. Ф. Булгаков. СПб.: СПГУТД, 2007. — 21 с.
- Дерканосова, Н. М. Моделирование и оптимизация технологических процессов Текст./ Н. М. Дерканосова, А. А. Журавлев, И. А. Сорокина. Воронеж: ВГТА, 2011.-196 с.
- Суркова, В. М. Оптимизация технологических процессов в Microsoft Excel Текст. /В. М. Суркова. СПб.: СПГУТД, 2005. — 29 с.
- Лащенко, Г. И. Плазменное упрочнение и напыление Текст. / Г. И. Лащенко. К.: Екотехнология, 2003. — 67 с.
- Голант, В. Е. Основы физики плазмы Текст. / В. Е. Голант, А. П. Жилинский, С. А. Сахаров. М.: Атомиздат, 1977. — 384 с.
- Грановский, В. Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток. Текст. /В. Л. Грановский. М.: Наука, 1971. — 544 с.
- Майссел, Л. Технология тонких плёнок: справочник. Пер. с англ. Т. 1. Текст. / Л. Майссел, Р. Гленг. М.: Сов. радио, 1977 — 664 с.
- Морозов, А. И. Введение в плазмодинамику Текст. / А. И. Морозов. М.: ФИЗМАТЛИТ, 2006. — 576 с.
- Вольпяс, В. А. Регрессионная модель каскада смещённых атомов при ионном распылении твёрдого тела Текст. / В. А. Вольпяс, П. М. Дымашевский // Журнал технической физики. Том 71. Вып. 11. — Санкт-Петербург, 2001. — С. 1−5.
- Костржицкий, А. И. Справочник оператора установок по нанесению покрытий в вакууме Текст. / А. И. Костржицкий, В. Ф. Карпов. М.: Машиностроение, 1991. — 176 с.