Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Технология танталовых конденсаторных порошков с зарядом 8000-14000 мкКл/г

Диссертация: Технология танталовых конденсаторных порошков с зарядом 8000-14000 мкКл/г
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Актуальность проблемы. Примерно с шестидесятых годов 20 века основным потребителем тантала во всем мире является электронная промышленность. В настоящее время более 40% общего производства металла приходится на порошок, применяемый для изготовления анодов электролитических конденсаторов /1−3/. Танталовые конденсаторы, помимо их широкого применения в сотовых телефонах, компьютерах, автомобильной… Читать ещё >

Технология танталовых конденсаторных порошков с зарядом 8000-14000 мкКл/г (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • 1. ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР
    • 1. 1. Получение танталовых порошков
    • 1. 2. Методы модификации танталовых порошков
  • 2. ИССЛЕДОВАНИЕ ПРОЦЕССА ПОЛУЧЕНИЯ ПЕРВИЧНОГО НАТРИЕТЕРМИЧЕСКОГО ПОРОШКА
    • 2. 1. Методика и аппаратура экспериментов
    • 2. 2. Выбор возможных составов расплавов для восстановления
    • 2. 3. Термодинамический анализ возможных процессов
    • 2. 4. Влияние параметров процесса восстановления на гранулометрический состав и электрические характеристики порошков
      • 2. 4. 1. Влияние температуры
      • 2. 4. 2. Влияние состава расплава
      • 2. 4. 3. Влияние некоторых микропримесей в расплаве
        • 2. 4. 3. 1. Влияние содержания кислорода
        • 2. 4. 3. 2. Фосфор в расплаве
      • 2. 4. 4. Калиетермическое восстановление гептафторотанталата калия
    • 2. 5. Гидрометаллургическая обработка продуктов восстановления
    • 2. 6. Морфология танталовых натриетермических порошков
    • 2. 7. Выводы
  • 3. СОВЕРШЕНСТВОВАНИЕ МЕТОДОВ МОДИФИКАЦИИ ХАРАКТЕРИСТИК ПЕРВИЧНЫХ НАТРИЕТЕРМИЧЕСКИХ ПОРОШКОВ
    • 3. 1. Методика экспериментов и аппаратура
    • 3. 2. Влияние легирования порошка на характеристики анодов
    • 3. 3. Исследование условий агломерации первичного порошка. 71 3.3.1 Термообработка в вакуумной печи сопротивления
      • 3. 3. 2. Термообработка высокочастотным кратковременным нагревом
      • 3. 3. 3. Очистка от примесей. ф 3.3.4 Гранулирование методом окатывания
    • 3. 4. Рафинирование порошков
      • 3. 4. 1. Термодинамический анализ процесса рафинирования
      • 3. 4. 2. Экспериментальные данные
    • 3. 5. Выводы
  • 4. ОПЫТНО-ПРОМЫШЛЕННЫЕ ИСПЫТАНИЯ
    • 4. 1. Аппаратура и методика экспериментов
    • 4. 2. Результаты экспериментов и их обсуждение
      • 4. 2. 1. Гидрометаллургическая обработка продуктов реакции
      • 4. 2. 2. Характеристики порошков
    • 4. 3. Выводы

Актуальность проблемы. Примерно с шестидесятых годов 20 века основным потребителем тантала во всем мире является электронная промышленность. В настоящее время более 40% общего производства металла приходится на порошок, применяемый для изготовления анодов электролитических конденсаторов /1−3/. Танталовые конденсаторы, помимо их широкого применения в сотовых телефонах, компьютерах, автомобильной электронике, пейджерах, видеокамерах и другой бытовой технике /4−6/, где они успешно конкурируют с алюминиевыми и многослойными керамическими конденсаторами /4, 7, 8/, по-прежнему незаменимы в электронной аппаратуре специального назначения, где требуется особая надежность. Потребление танталовых конденсаторов растет бурными темпами: с 1988 по 1996 год их производство выросло более чем на 200% и составило в 1995 г 13 млрд, а в 2000 г — 25 млрд штук /1/. При этом потребление тантала увеличилось в значительно меньшей степени — 1.3 млн в 1995 г. и 1.6 млн фунтов (590 тыс. и 730 тыс. кг) танталового порошка в 2000 г. /3/.

Это явилось следствием разработки порошков с более высокой величиной удельного заряда. В 60-х годах получали танталовый порошок с удельной поверхностью 0.05 м /г и емкостью 2000 мкКл/г, в 80-х — 0.2 м /г и 10 000 мкКл/г. В настоящее время танталовые порошки конденсаторного класса имеют поверхность от 0.1 до 2 м /г и заряд от 5000 до 100 000 мкКл/г. Этот прогресс связан с развитием метода натриетермического восстановления тантала из гептафторотанталата калия. При этом следует заметить, что применение порошка с тем или иным удельным зарядом определяется требуемыми параметрами конденсатора. Наиболее высокоемкие порошки применяют для изготовления конденсаторов с наименьшими типоразмерами (2.0×1.2×1.2 мм- 1.6×0.8×0.8 мм) на напряжения 4−6 В.

На территории СНГ единственным производителем танталовых порошков является Ульбинский металлургический завод (УМЗ) в Казахстане, который в настоящее время выпускает порошки с осколочной формой частиц с удельным зарядом не выше 6000 мкКл/г.

В 80-х годах прошлого века на УМЗ были разработаны два класса на-триетермических танталовых порошков: НВ-1 и НВ-2 с удельным зарядом.

8500−10 000 мкКл/г и 10 000−13 000 мкКл/г (ТУ 95−1399−85 ЛУ). Основные недостатки этих порошков: малая насыпная плотность (1.0−1.6 г/см для НВ-1 и 0.8−1.3 г/см для НВ-2), отсутствие текучести, недостаточно низкое содержание примесей, вследствие чего они не нашли применения в промышленности. Однако отечественная промышленность нуждалась в порошках с такими зарядами для создания современных конденсаторов специального назначения.

Технология современного танталового конденсаторного порошка многостадийный процесс, который включает собственно восстановление, отмывка порошка от солей, термообработку и т. д. (рисунок 1). Поэтому для разработки технологии конденсаторных порошков с учетом требований отечественной электронной промышленности было необходимо исследовать влияние условий восстановления и процессов модификации первичного на-триетермического порошка тантала для придания ему необходимых характеристик.

Исследования выполнялись по плановой тематике ИХТРЭМС им И. В. Тананаева КНЦ РАН в рамках следующих документов: Государственный заказ на 1992;1995 г. г. «Комплект технической документации на разработку технологии получения высокоёмких порошков для анодов танталовых электролитических конденсаторов», ГНТП «Новые материалы» проект «Материалы для высокоёмких конденсаторов» 1996;1998 г. г.

Цель работы. Разработка технологии натриетермических танталовых конденсаторных порошков с удельным зарядом 8000−14 000 мкКл/г и насыпной плотностью на уровне 2 г/см3.

Для решения этой задачи необходимо:

• исследовать влияние состава расплава и условий восстановления на гранулометрические характеристики и морфологию порошков;

• оценить возможность и выбрать оптимальные условия очистки от примеси кислорода при низкотемпературном раскислении с использованием магния;

• разработать режимы агломерации первичных порошков, позволяющие обеспечить необходимую текучесть;

• выбрать условия легирования, позволяющие максимально сохранить поверхность порошка в процессе спекания анодов.

KzTaF-, NaCl, KC1 -> Сушка 4.

Восстановление.

H20 ->

Гидрометаллургическая обработка I.

HC1, HF —" Кислотная обработка I.

Легирование Сушка I.

Агломерация.

Размол Раскисление Выщелачивание I.

Сушка.

Na Очистка.

Конденсаторный порошок.

Рисунок 1 — Схема процесса получения высокоёмких натриетермических танталовых конденсаторных порошков.

Методы исследования. В работе были использованы стандартные методы контроля характеристик порошков (гранулометрический состав порошка, удельная поверхность, насыпная плотность, удельный заряд, ток утечки, усадка при спекании), электронная микроскопия, атомно-эмиссионная масс-спектроскопия, химический, рентгенофазовый, кристаллооптический анализы, ИК спектроскопия.

Научная повита работы определяется следующими положениями:

• установлена зависимость гранулометрических характеристик порошков и их морфологии от условий восстановления — температуры процесса, вида восстановителя, физико-химических свойств и состава расплава;

• выполнена термодинамическая оценка реакций раскисления с использованием магния, показана возможность очистки от примеси кислорода, фтора и щелочных металлов и получено практическое подтверждение результатов;

• разработаны методы агломерации высокодисперсных порошков, позволяющие обеспечить необходимые насыпную плотность и текучесть порошка;

• определены условия легирования, позволяющие максимально сохранить поверхность порошка в процессе спекания анодов.

Практическая значимость работы.

Разработана технология танталовых конденсаторных натриетермиче-ских порошков с удельным зарядом от 8000 до 14 000 мкКл/г, которая освоена в опытно-промышленном масштабе. Совместно с НИИ «Гириконд» выпущены технические условия ТЦАФ.670 093.001 на натриетермические танталовые конденсаторных порошки типа: К-10 — заряд 8000−10 000 мкКл/г, К-12 — заряд 10 000−12 000 мкКл/г, К-14 — заряд 12 000;14000 мкКл/г. Насыпная плотность — 2−2.5 г/см'. Порошки успешно применяются в производстве конденсаторов на предприятиях РФ.

Основные положения, выносимые на защиту:

• Условия восстановления: состав шихты, температурный интервал ведения процесса;

• Методы модификации первичного порошка, позволяющие повысить текучесть, насыпную плотность и удельный заряд анодов.

Личный вклад автора. Материалы, представленные в диссертации, получены самим автором или при его непосредственном участии.

Апробация результатов. Материалы диссертации были доложены и обсуждены на следующих совещаниях и конференциях: III, V, VII и VIII Российско-Китайском симпозиумах «Новые материалы и технологии» (Калуга, 1995, Байкальск, 1999, Агой, 2003, Guangou, China, 2005), Международной конференции «Редкоземельные металлы: переработка сырья, производство соединений и материалов на их основе» (Красноярск, 1995) — симпозиуме «Синергетика. Структура и свойства материалов. Самоорганизующиеся технологии» (Москва, 1996), IV международной конференции «Наукоемкие химические технологии» (Волгоград, 1996), Международная конференция «Переходные металлы в расплавленных солях. Их химия, электрохимия и технология» (Апатиты, 1997), XI конференции по физической химии и электрохимии расплавленных и твердых электролитов (Екатеринбург, 1998) — X симпозиуме по химии неорганических фторидов (Москва, 1998) — Конференции «Химия и химическая технология в освоении природных ресурсов Кольского полуострова» (Апатиты, 1998) — XI, XII конференции по химии высокочистых веществ (Н. Новгород, 2000, 2004) — XVII научном совещании «Высокочистые материалы с особыми физическими свойствами» (Суздаль, 2001) — Всероссийской научно-практической конференции «Редкие металлы и порошковая металлургия» (Москва, 2001) — XVII Менделеевском съезде по общей и прикладной химии (Казань, 2003) — Научной конференции «Переработка природного и техногенного сырья, содержащего редкие, благородные и цветные металлы» (Апатиты, 2003) — The 20th Euchem Conference on Molten Salts (Poland, Wroclaw, 2004) — международной конференции «Новые перспективные материалы и технологии их получения (НПМ)-2004» (Волгоград, 2004) — 206lh Meeting of the Electrochemical Society (Honolulu, Hawaii, 2004) — XX Российская конференция по электронной микроскопии (РКЭМ-2004) (Черноголовка, 2004) — IV, V международных конференциях «Химия твердого тела и современные микрои нанотехнологии» (Кисловодск, 2004, 2005) — 7Ih International Symposium on Molten Salts. Chemistry & Technology (Toulouse, France, 2005).

Публикации. Материалы диссертации отражены в 12 научных статьях, а также в тезисах докладов и сборниках трудов вышеперечисленных конференций, получено 2 патента на изобретение РФ.

1 ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР.

Интерес к танталу, как материалу электронной техники, обусловлен его способностью образовывать прочную оксидную пленку при анодном окислении. Пленка Таг05 устойчива в кислых электролитах, аморфна, имеет высокую диэлектрическую постоянную 27.6 /9/ и высокое удельное электросопротивление (7.5'1012 Ом’см) /10/. Благодаря химической инертности тантала и его оксида, танталовые конденсаторы обладают высокой надежностью и стабильными характеристиками /11/. Известно /9/, что емкость конденсатора С прямо пропорциональна площади его поверхности:

С = 8.8610″ 8'(e'S/d), мкФ, (1) где с — диэлектрическая постояннаяS — площадь обкладки конденсатора, см2, d — толщина оксидной анодной пленки, см.

Возможность использовать в качестве анода объемно-пористое тело, изготовленное из порошка тантала, обеспечивает высокий удельный заряд конденсатора на единицу объема. Поэтому, когда в аппаратуре особенно важны надежность, высокий удельный заряд и малая величина тока утечки применяют именно танталовые объемно-пористые конденсаторы, несмотря на более высокую стоимость по сравнению, например, с алюминиевыми конденсаторами.

ОСНОВНЫЕ ВЫВОДЫ.

1. Разработана технология натриетермических танталовых конденсаторных порошков с удельным зарядом 8000−14 000 мкКл/г и насыпной плотностью 2−2.5 г/см3.

2. Впервые выполнено комплексное исследование влияния физико-химических свойств расплавов и условий натриетермического восстановления на гранулометрические характеристики танталового порошка.

Повышение концентрации гептафторотанталата в расплаве и температуры восстановления приводит к образованию более крупных частиц порошка тантала с менее развитой поверхностью и, следовательно, меньшим удельным зарядом. Переход от чисто фторидных к фторидно-хлоридным расплавам при прочих равных условиях позволяет уменьшить размер частиц порошка за счет снижения поверхностного натяжения расплава. Аналогичный результат даёт изменение катионного состава от натрия к цезию.

Увеличение содержания кислорода в расплаве с 5-Ю2 до 6−10″ 1 мае. % или введение в шихту микродобавки солей фосфора в количестве 0.5-И.0−10″ мае. % позволило повысить величину удельной поверхности порошка тантала в 2−3 раза. Таким образом, введение микродобавок определённых веществ в расплав открывает перспективу дальнейшего увеличения удельного заряда танталовых порошков, полученных методом жидкофазного натриетермического восстановления. Предложен механизм влияния микропримесей этих элементов.

3. Морфологическим анализом установлено, что основную массу порошка, полученного восстановлением в расплаве, составляют частицы дендритной формы, состоящие из отдельных фрагментов, соединенных перешейками. С повышением температуры восстановления или увеличением начальной концентрации ФТК происходит сглаживание микронеровностей, совершенствование формы и увеличение размеров, как отдельных фрагментов, так и дендритов в целом, что сказывается на величине поверхности порошка.

4. Показано, что натриетермическое восстановление тантала из геп-тафторотанталата калия (ФТК), находящегося в расплаве с флюсом (NaCl, КС1), при соотношении флюс: ФТК=2-г6 и температуре процесса в интервале 750850 °С позволяет получить порошки тантала с величиной удельной поверхности 0.20−0.6 м2/г и насыпной плотностью до 2.5 г/см3. Такие порошки являются основой для танталового конденсаторного порошка с зарядом 800 014 000 мкКл/г.

5. Показано, что наиболее эффективным ингибитором спекания танталовых порошков является фосфор в количестве 0.005−0.01%.

Введение

фосфора можно проводить как смачиванием порошка раствором ортофосфорной кислоты, так и сорбцией из растворов. Степень извлечения фосфат-ионов из раствора имеет логарифмическую зависимость от величины поверхности порошка. Предложен механизм влияния легирующей добавки.

6. Определены условия агломерации первичного натриетермического порошка с удельной поверхностью 0.2−0.6 м2/г. Оптимальным решением является термообработка предварительно гранулированного окатыванием на тарельчатом грануляторе или прессованного в таблетки порошка при температуре 1350−1400 °С. Такая термообработка способствует увеличению насыпной плотности порошков, уменьшению усадки и повышению степени реализации поверхности в анодах.

7. Установлена возможность эффективной очистки от кислорода, щелочных металлов и фтора в процессе термообработки порошка при температуре 800−900 °С в присутствии магния с последующей кислотной обработкой.

8. Для повышения качества получаемого порошка разработан метод защиты аппаратуры от коррозии, позволяющий снизить содержание никеля в порошках в 3−5 раз.

9. Совместно с НИИ «Гнриконд» выпущены технические условия ТЦАФ.670 093.001 на 3 класса натриетермических танталовых конденсаторных порошков с зарядом 8000 — 14 000 мкКл/г. Производство таких порошков освоено опытным производством ИХТРЭМС и ООО НПЦКМ «Тантал». Опытные партии порошков используются отечественными предприятиями для разработки новых типов конденсаторов и выпуска серийной продукции.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Tantalum supply and demand // TIC Bui. № 96. 1998. — P. 2−3.
  2. Mosheim C. Edward. Tantalum and Niobium A Review of Worldwide Industry Statistics // TIC Bui. № 102. — 2000. — P. 2.
  3. Mosheim C. Edward. Tantalum and Niobium: Review of Industry Statistics // TIC Bui. № 108. 2001. — P. 3−7.
  4. Hofmaier R.L. Tantalum Capacitor Trends in Hard Disc Drives // TIC Bui. № 88.-1996.-P. 4−6.
  5. Credo J.B. Expectations of Tantalum Capacitors for Wireless Communications // Tantalum and niobium. Proceedings of International symposium 24 28 September 1995. — Goslar, Germany. — 1995. — P. 195−204.
  6. Tripp T.B. Tantalum Powder and Tantalum Wire for Capacitors // Tantalum and niobium. Proceedings of International symposium 24th 28th September 1995.- Goslar, Germany. 1995. — P 219−226.
  7. Maguire D.E. Outlook for Tantalum Capacitor Demand // Tantalum and niobium. Proceedings of International symposium 24th 28th September 1995. -Goslar, Germany. — 1995. — P 167−176.
  8. Millan W.A. Approching the Limits? The latest Developments in Solid Tantalum Elecnrolytic Capacitors // Tantalum and niobium. Proceedings of International symposium 24th 28th September 1995. — Goslar, Germany. — 1995.- P 207−217.
  9. Ф.Г., Бекон Ф. Е., Бенкрофт P.K. Применение ниобия и тантала // Ниобий, тантал и их сплавы / Пер. с англ. под ред. Е. М. Савицкого. М.: Металлургия, 1966. — С. 304−331.
  10. Ниобий и тантал / А. Н. Зеликман, Б. Г. Коршунов, А. В. Елютин, A.M. Захаров М.: Металлургия, 1990. — 296 с.
  11. И. Pozdeev Yu. Comparison of Tantalum and Niobium Solid Electrolytic Capacitors // TIC Bui. № 94. -1998. P. 2−5.
  12. Metod of producing tantalum and niobium powder from compact bodies: Pat. USA № 3 635 693, B22 °F 9/00. 18.01.72/ Fricdrich H.J., Meyer H.
  13. Tantalum metal powder: Pat. USA № 4 141 719, B22 °F 1/04. 27.02.79 / Hakko J.B.
  14. Материал для анодов электролитических и оксидно-полупроводниковых конденсаторов: Пат. РФ № 1 556 420, НОЮ 9/05. 28.02.94 / Елютин А. В., Воробьева Н. С., Патрикеев Ю. Б. и др.
  15. Hongju Chang, James A. Fife, Viren M. Pathare. Tantalum capacitor powders for the future // Tantalum and niobium. Proceedings of International symposium 24th 28th September 1995. — Goslar, Germany. — 1995. — P 227−238.
  16. P., Браун X. Ванадий, ниобий, тантал: Пер. с нем. М.: Металлургия, 1968. — 311 с.
  17. А.Г., Майоров В. Г., Николаев А. И. Экстракция ниобия, тантала и других элементов из фторидных растворов. JI: Наука, 1988. — 224 с.
  18. А.И., Майоров В. Г. Экстракция ниобия и тантала. Апатиты: ИХТРЭМС КНЦ РАН, 1995. — 210 с.
  19. Ф. Химия ниобия и тантала. М: Химия, 1972. — 277 с.
  20. А.Н. Металлургия тугоплавких редких металлов. — М: Металлургия, 1986. 440 с.
  21. В.А., Хавин В. Я. Краткий химический справочник. М: Металлургия, 1991. — 432 с.
  22. JI.K., Раков Э. Г., Громов Б. В., Маркина О. В. Теплоты образования фторониобатов и фторотанталатов щелочных металлов и аммония // ЖФХ. -1971. Т. 45, № 6. — С 1592.
  23. Натрий и калий / А. Ф. Алабышев, К. Я. Грачев, С. А. Зарецкий, М. Ф. Лантратов Л: ГОСХИМИЗДАТ, 1959. — 392 с.
  24. В.И., Цуй Бин-Синь. О температуре плавления и термической устойчивости фторотанталата калия // ЖНХ. 1963. — Т. 8. — Вып. 1.-С. 47−51.
  25. В.И. Электролитическое получение тантала, ниобия и их сплавов. М: Металлургия, 1977. — 240 с.
  26. Bose D.K., Krishnan T.S., Gupta C.R. On the preparation of metal powders // Int. J. Refract and Hard Metals. 1982. — V. 1, № 1. — P. 20−25.
  27. Improvements in relating to metal powder production: Pat. GB № 1 549 702, C22B 5/00. 08.07.76 / Haig V.
  28. High surface area valve metal powder: Pat. USA № 3 829 310, B22 °F 5/00. -13.04.73/Tyler X.M.
  29. Process for preparation of tantalum and niobium powders of improved efficiency: Pat. USA № 4 231 790, B22 °F 9/00- C22B 34/24. 04.11.80 / Hahn R., Bchrens D.
  30. Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von feinem hochkapazitiven Erdsauremetallpulver fur Electrolytkondensatoren: Pat. FRG № 2 517 180, C22B 32/34 18.04.75 / Hahn R.
  31. Electrodes of sintered tantalum powder of fine size and process of production: Pat. USA № 4 347 084, B22 °F 005/00. 31.08.82 / Hahn R., Behrens D.
  32. Process for producing tantalum and columbium powder: Pat. USA № 4 149 876, B22 °F 9/00. 17.04.79 / Rerat C.
  33. Procede de fabrication de tantale metallique: Pat. France № 1 284 531, B22 °F 9/00.-11.04.79 /NRC.
  34. Tantalum production via a reduction of K2TaF7, with diluent salt? With reducing agent provided in a fast series of slug additions: Pat. USA № 5 442 978, B22 °F 9/00. 28.08.95 / Hildreth R., Shaw M., Tripp T.B., Gibbons L.G.
  35. Tantalum powder process: Pat. USA № 4 684 399, C22B 034/20 04.08.87 / Bergman R.M., Mosheim C.E.
  36. Method of producing high surface area, low metal impurity: Pat. USA № 5 234 491, B22 °F 9/18. 10.08.93 / Chang.
  37. Производство (получение) тантала: Пат. Японии № 43−32 347, С22 В 51/00. 29.05.68 / Фуколава Масахару, Исоби Эйдзи.
  38. Способ получения тантала из фторотанталата калия и натрия, обеспечивающий высокий выход продукта: Пат. Японии № 43−36 051, С22 В 51/100. 29.05.68 / Мицуи Кидзоку когё Е.К.
  39. Г. А., Зеликман А. Н. Металлургия редких металлов. М: Металлургиздат, 1955. — 608 с.
  40. Закгейм J1.H. Электролитические конденсаторы. М.- JL: Госэнергоиздат, 1963.-283 с.
  41. Albrecht W.-W., Hoppe A. Qualitatssiecherung hochkopazitiver Tantalpulver // Erzmctall. 1985. — B. 38, № 7/8. — S. 369−374.
  42. JI.JI., Орлов В. М. Анодные оксидные пленки. Л.: Наука, 1990. -200 с.
  43. Изменение пористой структуры и токов утечки анодов ниобиевых конденсаторов при электролитическом оксидировании / Левинский Ю. В., Зайцев А. Б., Бочарова В. И. и др. // Порошковая металлургия. 1991. — № 3.- С. 56−59.
  44. Salisbury I. New desing of tantalum capacitor // TIC Bui. № 90. 1997.-P. 4−7.
  45. Hahn R., Heinrich H.I. Neue Trends bei der Entwichung von Tantal-Kondersator-pulvern // Erzmetal. 1985. — B. 38, № 3. — S. 133−138.
  46. Способ получения порошка тантала: Пат. Японии № 55−11 387,B22 °F 3/10.- 02.09.80 / Кояма К, Идзуми Т.
  47. Solid capacitor: Pat. USA № 3 825 802, H01G 9/05 / Kumagai H.Y.
  48. High charge, low leakage tantalum powder: Pat. USA № 4 544 403, B22 °F 9/00.- 01.10.85 / Schiele E.K., Manley J.R., Rerat C.F.
  49. Process for treating the surface of valve metals with chalcogens: Pat. USA № 4 548 672, B22 °F 1/00. 22.10.85 / Wolf Ruediger, Hoppe Axel, Papp Uwe, Albrecht Wolf-Wigand.
  50. Capacitor grade Tantalum powder: Pat. USA № 4 957 541, B22 °F 009/24. -18.09.90/Tripp T.D.
  51. Tantalum powder and method of making same: Pat. USA № 4 009 007, H01G 009/05. 22.02.77 / Fry S.S.
  52. In situ phosphorus addition to tantalum: Pat. USA № 4 356 028, B22 °F 9/24. -26.10.82/Bates V.T.
  53. Tantalum powder and metod of making: Pat. USA № 4 645 533, B22 °F 9/24. -24.02.87 / Izumi T.
  54. Tantalum powder and method of making same: Pat. USA № 5 261 942, B22 °F 9/04. 16.11.93 / Fife J.A., Getz M.F.
  55. Г. А., Лопатин В. Ю., Комарницкий Г. В. Процессы порошковой металлургии. В 2-х т. Т. 1. Производство металлических порошков: Учебник для вузов М: МИСИС, 2001. — 368 с.
  56. Tcrrance В. Tripp, Hiroo Naito, Klaus Andersson. Co-development of high performance powders for tantalum capacitors // TIC Bui. № 82. — 1995. P. 4−7.
  57. В.М., Рюнгенен Т. Н., Алтухов В. Г. Влияние термообработки на характеристики порошков тантала с развитой поверхностью // Физика и химия обработки материалов. 1999. — № 2. — С. 73−74.
  58. Tantalum metal powder: Pat. USA № 4 017 302, B22 °F 1/04. 12.04.77 / Bates V.T.
  59. Способ производства порошка тантала: Пат. Японии № 61−284 501- B22 °F 1/00, B22 °F 9/04. 15.12.86 / Идзумо Томоо.
  60. Method for improving handling propeties of flaked tantalum powder composition: Pat. USA № 4 555 268, C22C 001/09. 26.11.85 / Getz M.F.
  61. Tantalum powder with improved capacitor anode processing characteristics: Pat. USA № 4 968 481, B22 °F 1 /00. 06.11.90 / Rerat C.F.
  62. Method of making tantalum metal powder with controlled size distribution and products made therefrom: Pat. WO № 974 0199A1, C22C 001/04- B22 °F 009/04. -25.04.97
  63. Взаимосвязь между свойствами порошков, условиями прессования, спекания и структурой пористого ниобия. III. Пористая структура материала из спеченных порошков ниобия / Ю. В. Левинский, А. Б. Зайцев, Я.М.
  64. , Ю.Б. Патрикеев // Порошковая металлургия. 1990. — № 7. — С. 2328.
  65. Fife J.A. Tantalum capacitors: improvements to volumetric efficiency // TIC Bui. № 81.-1995.-P. 5−8.
  66. Flaked tantalum powder: Pat. USA № 5 211 741, B22 °F 001/00. 30.11.99 / Fife J.A.
  67. B.M., Одыиец Л. Л., Рюнгенен Т. Н. Об электропроводности системы Та-Та205-электролит // Электрохимия. 1980. — Т. 18, вып. 2. — С. 265−266.
  68. Method for producing tantalum powder, tantalum powder and tantalum electrolytic capacitor: Pat WO 211 932, B22 °F 9/24, C22C 1/04. 14.02.02 / Izumi Tomoo, Mizusaki Yujiro.
  69. Kircheim R. Metals as sinks and barriers for interstitial diffusion with examples for oxygen diffusion in copper, niobium and tantalum // Acta met. -1979. V. 27, № 3. — P. 869−878.
  70. Method for controlling the oxygen content in valve metal materials: Pat. USA № 5 993 513, B22 °F 001/00. 30.11.99 / Fife J.A.
  71. Solid state deoxygenation of vanadium / O. Yoshinari, T. Konno, K. Suma, M. Koiwa // J. Less-Common Met. 1981. — V. 81, № 2. — P. 239−248.
  72. Purification of niobium: Pat USA № 4 487 637- C2D 1/00. 11.12.84 / Padamsee H.S.
  73. Refining of tantalum by silicon deoxidation / Alok Awasthi, N. Krishnamurthy, Y.J. Bhatt, et al // Journal of Alloys and Compounds. 1998. — V. 265. — P. 190 195.
  74. The reduction of niobium and tantalum pentoxides by silicon in vacuum / Alok Awasthi, Y.J. Bhatt, N. Krishnamurthy, et al //Journal of Alloys and Compounds. -2001.-V. 315.-P. 187−192.
  75. Method of making powders and products of tantalum and niobium: Pat. USA № 5 242 481, B22 °F 9/20.-7.09.93 / Kumar P.
  76. Valve metal compositions and method: Pat. USA № 6 231 689, C23C 8/40. -15.05.2001 / Fife J.A.
  77. Production of highly capacitive agglomerated valve metal powder and valve metal electrodes for the production of electrolytic capacitors: Pat. USA № 4 483 819, B22 °F 3/10.-20.11.84/Albrecht W.-W., Harzburg В., Papp U.
  78. Low oxygen refractory metal powder for powder metallurgy: Pat. USA № 6 261 337, B22 °F 009/20. 17.07.2001 / Kumar P.
  79. Tantalum powder and electrolytic capacitor using same: Pat. USA № 5 605 561, B22 °F 9/20. 25.02.97 / Katsuo Iwabuchi- Tadashi Komeya- Hiroshi Oki- Deiter Behrens.
  80. Tripp T.B. The Effects of Nitrogen on the Performance of Tantalum Capacitors // TIC Bui. № 102. 2000. — P. 6.
  81. Method of making vacuum packaged, capacitor-grade tantalum powder: Pat. USA № 6 079 186, B65B 31/02 27.07.2000 / Simon R.W., Iwabuchi K., Ishikawa H., Behrens D.
  82. Ф.В., Карцев В. Е., Иоффе В. М., Леонов М. Е. Системы K2TaF7-KCl-NaCl, K2TaF7-KCl-LiCl и K2TaF7-KF-NaF. // ЖНХ. 1973. — Т. 18, № 5. -С. 1352−1355.
  83. С.С. Физико-химические свойства фторидных и фторидно-хлоридных расплавов, содержащих Та и Nb: Автореф. дис. .канд. хим.наук. Екатеринбург: Урал, политехи, ин-т, 1994. — 18 с.
  84. А.К., Жемчужина Е. А., Фирсанова Л. А. Физическая химия расплавленных солей. М.: Металлургия, 1957. — 302 с.
  85. В.А., Константинов В. И. Исследование плотности и поверхностного натяжения расплавов, содержащих комплексные фториды тантала и ниобия // Поверхностные явления в расплавах: Тез. докл. VII Всесоюзной конф. Грозный, 1976. — С. 47−48.
  86. В.П. Межфазные явления в ионных солевых расплавах. -Екатеринбург: УИФ «Наука», 1993. 316 с.
  87. Термодинамические константы веществ. Вып. 7, 10 / Медведев В. А., Бергман Г. А., Гурвич А. В. и др.- Под ред. В. П. Глушко и др. М: ВИНИТИ. 1981.
  88. В.М. К термохимии комплексных галогенидов и оксигалогенидов тантала и ниобия / Изв. вузов. Цветная металлургия 1964. — № 3. — С. 123 130.
  89. Термодинамические свойства неорганических веществ. Справочник / Под ред. А. П. Зефирова. М.: Атомиздат, 1965. — 460 с.
  90. О., Олкокк С. Б. Металлургическая термохимия: Пер. с англ. М.: Металлургия, 1982. — 392 с.
  91. Особенности коррозии металлов в расплавленных галогенидах и карбонатах / И. Н. Озеряная, М. В. Смирнов, Т. И. Манухина и др.- Под ред.
  92. A.В. Белобожеского // Высокотемпературная коррозия и методы защиты от нее. М.: Наука, 1973. — С. 76−83.
  93. Влияние состава расплава на характеристики натриетермических танталовых порошков / К.10. Беляев, В. М. Орлов, Т. Ю. Прохорова, М. Н. Мирошниченко // Расплавы 1998. — № 5 — С. 69−72.
  94. О.А. О зависимости между поверхностным натяжением, энергией связи и ионными радиусами // ДАН СССР 1955. — Т. 102, № 6. — С. 1 Hill 72.
  95. И.Д., Воскресенская Н. К. Поверхностное натяжение расплавленных солей // Успехи химии 1966. — Т. 35, № 7. — С. 1186−1203.
  96. Влияние поверхностного натяжения расплава на характеристики натриетермических танталовых порошков / В. Н. Колосов, В. М. Орлов, Т. Ю. Прохорова, А. Т. Беляевский // Расплавы. 2003. — № 2. — С. 57−60.
  97. Получение танталовых натриетермических порошков высокой чистоты /
  98. B.Н. Колосов, Э. С. Матыченко, В. М. Орлов, Т. Ю. Прохорова // XI Конференция по химии высокочистых веществ: Тез. докл. Н. Новгород, 2000. — С. 64−65.
  99. Tzvetkoff Tz., Girjinov A., Bjinov М. Corrosion of nickel, iron, cobalt and their alloys in molten salt electrolytes // J. Mater. Sci. 1995. — V. 3. — P. 55 615 575.
  100. Исследование возможности определения примеси кислорода в галогенидных фтортанталатных расплавах методом ИК-спектроскопии / О. А. Залкинд, В. Н. Колосов, Э. С. Матыченко, В. М. Орлов // Журнал аналитической химии. -2001. Т. 56, № 11. — С. 1163−1164.
  101. Kojsted P. Low Pressure Oxidation of Tantalum at 1300−1800 °C. J. Less-Common Metals. -1964. — V.7. — P. 241−243.
  102. Л.А., Штельмах С. В. Состояние кислорода в танталовых порошках / Изв. АН СССР. Металлы. 1985. — № 4. — С. 163−164.
  103. Влияние неметаллических примесей в расплаве на характеристики натриетермических танталовых порошков / В. Н. Колосов, В. М. Орлов, Т. Ю. Прохорова и др. // Расплавы. № 2. — 2005. — С. 35−42.
  104. В.И., Прохорова Т. Ю. Металлотермическое получение танталовых конденсаторных порошков // Физико-химические исследования систем и материалов на основе редких элементов. Апатиты: Кольский научный центр АН СССР, 1990.-С. 14−17.
  105. Калиетермическое получение танталовых порошков / В. Н. Колосов, М. Н. Мирошниченко, В. М. Орлов, Т. Ю. Прохорова // ЖПХ. 2005. — Т. 78. -Вып. 4. — С. 545−547.
  106. Утилизация солей при натриетермическом восстановлении тантала/В.М. Орлов, К. Ю. Беляев, Т. Ю. Прохорова, М. Н. Савоткина // Проблемы комплексного использования руд: Тез. докл. II международного симпозиума 20−24 мая 1996 г. СП б, 1996. — с. 256.
  107. Справочник экспериментальных данных по растворимости многокомпонентных водно-солевых систем / Под ред. А. Б. Здановского. В 2 т. Л.: Химия, 1973. — Т. 1., ч. 2. — 569 с.
  108. Влияние условий натриетермического восстановления на морфологию и гранулометрические характеристики танталовых порошков / В. М. Орлов, К. Ю. Беляев, Т. Ю. Прохорова и др. // Перспективные материалы 2002. -№ 3 — С. 74−78.
  109. Т.Ю., Беляевский А. Т., Орлов В. М. Морфологические особенности частиц танталовых порошков // XX Российская конф. по электронной микроскопии (РКЭМ-2004) 31 мая 4 июня 2004 г., Черноголовка: Тез. докл. — М.: 2004. — С. 187.
  110. Т.Ю., Орлов В. М. Микролегирование конденсаторных танталовых порошков // XI конференция по химии высокочистых веществ: Тез. докл. I I. Новгород, 2000 г. — С. 264−265.
  111. Т.Ю., Орлов В. М., Тузова О. М. Микролегирование конденсаторных танталовых порошков / Металлы. 2002. — № 4. — С. 101 104.
  112. Влияние фосфора на характеристики танталовых конденсаторных порошков / В. М. Орлов, Т. Ю. Прохорова, В. Н. Колосов, М. Н. Мирошниченко // Металлы № 6. — 2004. — С.54−57
  113. В.В., Солонин С. М. Физико-металлургические основы спекания порошков. М.: Металлургия, 1984. — 159 с.
  114. В.М., Рюнгенен Т. Н., Алтухов В. Г. Влияние термообработки на характеристики порошков тантала с развитой поверхностью // Физика и химия обработки материалов. 1999. — № 2. — С. 73−77.
  115. Способ изготовления анодов оксидных конденсаторов: А. с. СССР № 1 825 211, Н02 G9/05. 12.10.92 / Орлов В. М., Сухоруков В. В., Нетупский И.В.
  116. Тугоплавкие материалы в машиностроении / Под ред. А. Т. Туманова, К. И. Портного. М.: Машиностроение, 1967. — 300 с.
  117. R.L. Eager, D.B. Langmuir. Self-Diffusion of Tantalum // Physical Review. -1953.-V. 89, № 4-P. 911.
  118. П.В., Гришаев И. Г. Основы техники гранулирования. -М:Химия, 1982.-272 с.
  119. V.M. Orlov, T.Yu. Prokhorova, L.A. Fedorova. Granulation of Tantalum powders / Advanced «Materials and Processes». V Russian-Chinese International Symposium. July 27 August 1 1999, Baikalsk, Russian. — Moscow, 1999. — P. 151.
  120. B.M., Прохорова Т. Ю., Сухоруков В. В. Возможности твердофазного рафинирования порошков тантала // Всероссийская научно-практическая конференция «Редкие металлы и порошковая металлургия»: Тез. докл. М., 2001 г. — С. 18−19.
  121. М.Х., Карапетьянц M.JT. Основные термодинамические константы неорганических и органических веществ. М.: Химия, 1968. -472 с.
  122. В.М., Прохорова Т. Ю., Сухоруков В. В. Твердофазное рафинирование натриетермических танталовых порошков // Металлы. -2003.-№ 4.-С. 19−23.
  123. Юнг J1. Анодные окисные пленки. JT.: Энергия, 1967. — 232 с.
  124. Способ получения порошка вентильного металла: патент РФ № 2 164 194, B22F9/18, С22В34/24. 20.03.2001 / В. П. Колосов, Э. С. Матыченко, В. М. Орлов, Т. Ю. Прохорова, М. Н. Мирошниченко.
  125. В.Н., Матыченко Э. С., Беляевский А. Т. Защита от коррозии аппаратуры из никеля в хлорид фторотанталатных расплавах // Защита металлов. — 2000. — Т. 36- № 6.- С. 595−601.
  126. Образование соединений Ni-Ta в галогенидных фторотанталатных расплавах / Э. С. Матыченко, О. А. Залкинд, В. Я. Кузнецов и др. // Журнал прикладной химии.-2001.-Т. 74.-№ 2-С. 177−181.
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!