Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Взаимосвязь условий электролиза и состава магнитного слоя в слоистых наноструктурах Cu/ (Co+Cu) и Cu/ (Ni+Cu)

Диссертация: Взаимосвязь условий электролиза и состава магнитного слоя в слоистых наноструктурах Cu/ (Co+Cu) и Cu/ (Ni+Cu)
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

С помощью электрохимической микрогравиметрии и разработанной инверсионно-волтьамперометрической методики анализа состава магнитных слоев (Со+Си) и (№+Си) впервые дана количественная оценка вклада побочных реакций в процессе осаждения многослойных наноструктур (Си/(№+Си) и Си/(Со+Си) из ацетатного, сульфаматного и сульфосалицилатного электролитов, а также получены парциальные поляризационные… Читать ещё >

Взаимосвязь условий электролиза и состава магнитного слоя в слоистых наноструктурах Cu/ (Co+Cu) и Cu/ (Ni+Cu) (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • Принятые обозначения
  • Глава 1. Литературный обзор
    • 1. 1. Введение: микрослоистые материалы, их свойства и способы получения
    • 1. 2. Краткая история развития работ по электрохимическому получению М
    • 1. 3. Эффект вМЯ
    • 1. 4. Методы контроля толщины слоев при электроосаждении М
    • 1. 5. Включение немагнитного компонента в магнитный слой
      • 1. 5. 1. Включение немагнитного компонента в период осаждения магнитного слоя
      • 1. 5. 2. Включение немагнитного компонента в магнитный слой в процессе осаждения немагнитного слоя
      • 1. 5. 3. Изменение состава и толщины слоев за счет реакции контактного обмена
  • Глава 2. Методическая часть
    • 2. 1. Экспериментальная установка для электрохимических измерений
    • 2. 2. Электроды и подготовка поверхности электродов перед электрохимическими измерениями
    • 2. 3. Состав растворов и приготовление электролитов
    • 2. 4. Ех-вки измерения параметров получаемых осадков
      • 2. 4. 1. Микроскопия
    • 2. 4.2. Анализ элементного состава образцов
      • 2. 4. 3. Определение содержания меди в осадке
      • 2. 4. 4. Измерения магнитотранспортных характеристик (вМЯ)
      • 2. 5. Методика проведения расчетов равновесного состава электролитов и парциального тока меди при решении электродиффузионной задачи
  • Глава 3. Влияние условий электроосаждения магнитного слоя на содержание в нем немагнитного компонента
    • 3. 1. Зависимость содержания меди в магнитном слое от природы электролита и потенциала осаждения. Возможные причины повышенного содержания меди в магнитном слое
    • 3. 2. Моделирование процессов массопереноса ионов меди при электроосаждении магнитного слоя из ацетатного и сульфаматного электролитов
    • 3. 3. Поиск «идеального» электролита для получения МЬ. Обоснование выбора сульфосалицилатного электролита
    • 3. 4. Расчет равновесного состава сульфосалицилатного электролита и оценка влияния тока выделения N1 и Н2 на массоперенос ионов меди
    • 3. 5. Экспериментальные исследования зависимости парциального тока по меди от потенциала осаждения и состава 88А электролита
    • 3. 6. Магнитотранспортные свойства МЬ в зависимости от рН 8БА электролита
  • Выводы
  • Глава 4. Изменение состава магнитного слоя в процессе осаждения немагнитного компонента
    • 4. 1. Анодное растворение осадков № и Со в растворах, не содержащих Си
    • 4. 2. Анодное растворение Со в растворах, содержащих медь
    • 4. 3. Анодное растворение N1 в растворах, содержащих медь
    • 4. 4. Анодное растворение №-Со-Си осадков
    • 4. 5. Магнитотранспортные характеристики МЬ в условиях различной устойчивости магнитного слоя
  • Выводы
  • Глава 5. Изменение состава магнитного слоя при бестоковом потенциале
    • 5. 1. Контактный обмен в системе
  • Со/Си
    • 5. 2. Контактный обмен в системе
  • Ni/Cu
    • 5. 3. Влияние контактного обмена на магнитотранспортные характеристики ML Cu/(Co+Cu)
  • Выводы
  • Глава 6. Особенности электроосаждения медного слоя из кислых хлорид ных растворов
    • 6. 1. Введение
    • 6. 2. Вольтамперометрические измерения
    • 6. 3. Микрогравиметрические измерения
  • Выводы

Актуальность темы

В последние 15 лет особый интерес исследователей привлекают многослойные наноструктуры (ML-multilayers), в том числе из магнитного и немагнитного металлов — например Cu/Ni или Си/Со, благодаря наличию у них ряда уникальных свойств. Одним из таких свойств является зависимость сопротивление ML от напряженности магнитного поля (Giant MagnetoResistanceGMR), что делает их практически идеальным материалом для применения в качестве датчиков магнитного поля и магнитных носителей информации, например, для изготовления считывающих головок в различных устройствах магнитной записи.

Физические методы получения ML (различные виды вакуумного напыления) достаточно сложны и дороги. Поэтому импульсный электролиз благодаря простоте управления электрическими параметрами, низкому расходу материалов и недорогому оборудованию рассматривается как наиболее перспективный метод для промышленного производства ML. Однако, по величинам GMR электроосажденные ML заметно уступают аналогичным структурам, полученным методами вакуумного напыления, и причины этого следует искать в особенностях электролиза. Наиболее характерной особенностью электрохимического процесса получения ML является включение немагнитного компонента (например, Си) в магнитный слой. Роль и масштаб изменений элементного состава магнитного слоя до настоящего времени не выяснены, а сведения, полученные различными авторами при фиксированном режиме осаждения, трудно сопоставимы между собой из-за взаимосвязанности многих факторов, влияющих на магнитотранспортные свойства получаемых структур. Поэтому систематическое изучение поведения компонентов магнитного слоя в широком диапазоне изменения условий осаждения, определение основных факторов, регулирующих включение меди в магнитный слой и поиск путей управления этими факторами являются актуальными направлениями исследований в области электрохимического осаждения многослойных наноструктур.

Цели исследования. Основная цель работы состояла в изучении закономерностей взаимного влияния процессов осаждения и растворения магнитного и немагнитного компонентов при получении ML в системах Со/Си и Ni/Cu импульсным электролизом, приводящих к значительному обогащению магнитного слоя Си, и поиску путей ослабления этого эффекта.

Для достижения поставленной цели представлялось необходимым решение следующих задач:

— выявление причин и закономерностей включения меди в период формирования магнитного слоя на основе Ni и Со за счет совместного разряда ионов в широком диапазоне потенциалов и в различных электролитах;

— изучение электрохимического поведения компонентов магнитного слоя в период катодного осаждения Си слоя или бестоковой паузы;

— выяснение корреляций между составом магнитного слоя и магнито-транспортными характеристиками ML;

— разработка электрохимических in-situ методов селективного. послойного исследования состава ML.

Основными применяемыми в настоящей работе методами исследования являются электрохимические методы — различные варианты вольтамперомет-рии, кварцевой микрогравиметрии и их сочетания, позволяющие в in-situ условиях, просто, быстро и надежно получать достаточную информацию о составе слоев.

Научная новизна. Впервые получены следующие результаты:

— Дана количественная оценка вклада побочных реакций в процессе осаждения ML (Cu/(Ni+Cu) и Cu/(Co+Cu) из ацетатного, сульфаматного и сульфосали-цилатного (SSA) электролитов и получены парщальные поляризационные кривые осаждения меди в широком диапазоне потенциалов.

— Установлена важная роль миграции и перемешивания приэлектродного слоя раствора выделяющимся водородом в области потенциалов осаждения магнитного слоя как наиболее вероятных причин роста iCuС помощью численных расчетов оценены возможные масштабы этих эффектов и предложены пути их ослабления (перевод ионов меди в форму многозарядных анионов и увеличение рН раствора).

— Экспериментально подтверждена возможность уменьшения содержания Си в магнитном слое ниже количества, отвечающего предельному току диффузии. В SSA электролите с рН"6 содержание Си в магнитном слое снижается с 17,9 до 7,7 ат.%, что приводит к росту эффекта GMR на 0.9-И.7% при комнатной температуре. Показано, что осаждение Си слоя в ML Си/(Со+Си) при потенциалах, способствующих растворению Со из магнитного слоя, также приводит к росту эффекта GMR.

— Установлено, что при разомкнутой цепи процесс цементации меди практически отсутствует на Ni, но с заметной скоростью протекает на Со. Определена скорость цементации меди и показано, что она лимитируется доставкой ионов Си. Экспериментально подтверждено (методами инверсионной волтьамперо-метри (ИВА), кварцевой микрогравиметрии (КМГ) и рентгенфлюоресцентного анализа (РФлА)) изменение содержания меди в осадках в ходе реакции цементации и его влияние на магнитотранспортные свойства ML Cu/(Co+Cu).

— Методами ВА и КМГ изучен процесс осаждения меди из кислых хлоридных растворов при различных соотношениях СГ/Си2+. В условиях катодной поляризации при C17Cu2+"5 зафиксировано появление солевой пленки промежуточного соединения в Cu (II)/Cu (I) процессе и идентифицировано как CuCl. Научно-практическая ценность. Ряд выявленных в диссертации закономерностей поведения компонентов магнитного слоя в широком диапазоне изменения условий осаждения (миграционный перенос немагнитного компонента, перемешивание приэлектродного слоя, устойчивость магнитного компонента и др.) носят более общий характер и могут быть использованы при электроосаждении других ML. Руководствуясь выводами данной работы, представляется возможным прогнозировать выбор условий осаждения и состав электролитов для целенаправленного получения пленок с минимальным содержанием немагнитного компонента.

Разработаны существенные для ряда полислойных многофазных систем приемы электрохимических исследований в условиях растворения и осаждения металлов, основанные на сочетании метода ИВА с методом КМГ. Связь диссертации с планами научно-исследовательских работ. Исследования выполнялись в рамках следующих программ: программа СО РАН 15.3.4 «Кинетика электрохимических процессов на межфазной границе твердое телораствор" — проект INTAS-96−0553 «Electrodeposited nanowires» — интеграционная программа № 8 Президиума РАН «Фундаментальные проблемы физики и химии наноразмерных систем и материалов» (проект 8.15 «Направленный синтез веществ с заданными свойствами и создание функциональных материалов на их основе») — Грант Королевского общества Великобритании (The Royal Society) «Cobalt electrodeposition: kinetics, film structure and morphology». Апробация работы. Основные результаты работы докладывались и обсуждались на: Fundamental Aspects of Electrochemical Deposition and Dissolution, PV.99−33, p.375−380, The Electrochemical Society Proceedings Series, Pennington, NJ (1999) — Международной конференции «Электрохимия, гальванотехника и обработка поверхности» (Москва, 2001) — 6-th Russian-Korean International Symposium On Science and Technology «KORUS-2002» (Novosibirsk, 2002) — научно-практической конференции «Теория и практика электрохимических технологий» (г.Екатеринбург, 2003) — VII конференции «Аналитика Сибири и Дальнего востока» (г.Новосибирск, 2004) — I Всероссийской конференции по наномате-риалам «Нано-2004» (г. Москва, 2004) — 8th International Frumkin Symposium «KINETICS OF ELECTRODE PROCESSES» (Moscow, 2005) — Международной научной конференции «Химия, химическая технология и биотехнология на рубеже тысячелетий» (2006, г. Томск) — II Всероссийской конференции по наноматериалам «Наио-2007» (г. Новосибирск, 2007) — ежегодных научных отчетных конференциях ИХТТМ СО РАН.

Публикации. По материалам диссертации опубликовано 16 работ (7 статей и 9 тезисов докладов на международных и всероссийских конференциях) и получен 1 патент РФ.

Глубокую благодарность автор выражает к.т.н. Поддубному Н. П. и Кос-тыря М.А. за помощь в проведении расчетов, профессору Беку Р. Ю. за полезное обсуждение результатов исследований, академику Болдыреву В. В. за инициативу постановки и поддержку работ по МЬ в нашем институте.

Общие выводы.

1. С помощью электрохимической микрогравиметрии и разработанной инверсионно-волтьамперометрической методики анализа состава магнитных слоев (Со+Си) и (№+Си) впервые дана количественная оценка вклада побочных реакций в процессе осаждения многослойных наноструктур (Си/(№+Си) и Си/(Со+Си) из ацетатного, сульфаматного и сульфосалицилатного электролитов, а также получены парциальные поляризационные кривые осаждения меди в широком диапазоне потенциалов. Показана необходимость учета реального снижения выхода по току при расчете толщины магнитного и немагнитного слоев из данных кулонометрии.

Установлено, что в ацетатных и сульфаматных электролитах парциальный ток по меди (^и) остается постоянным и равным предельному диффузионному току меди (1прСи) только до потенциалов начала выделения магнитного компонента и Н2, ас ростом тока выделения Со, N1, и Н2 превышение парци.

• Си -> с ального тока меди над 1пр увеличивается и достигает 3−5 раз в ацетатных электролитах и 5−6 раз — в сульфаматном.

2. Выявлены наиболее вероятные причины роста ¡-си в области потенциалов осаждения магнитного слоя (миграция и перемешивание приэлектродного слоя раствора выделяющимся водородом), и с помощью численных расчетов оценены возможные масштабы этих эффектов, а также предложены пути их ослабления (перевод ионов меди в форму многозарядных анионов и увеличение рН раствора).

Показано, что оба эффекта могут быть одновременно достигнуты в сульфосалицилатном электролите при рН"6. По сравнению с рН"2, когда все ионы меди находятся в катионной форме и ток по водороду значителен, увеличение рН до 6 позволяет снизить содержание меди в магнитном слое с 17,9 до 7,7 ат.% и обеспечить рост эффекта вМЛ на 0.9ч-1.7% при комнатной температуре.

3. Методами кварцевой микрогравиметрии и анодной хроновольтаме-рометрии изучена анодная устойчивость магнитных слоев (N1 и (№+Си), Со и (Со+Си)) в области потенциалов осаждения немагнитного слоя меди. Установлено, что N1 практически не растворяется ни в сульфатных, ни в хлоридсодер-жащих электролитах, а в случае Со скорость растворения в сульфатных электролитах зависит от потенциала осаждения меди и растет с его смещением в положительную область. Для подавления вытравливания Со из магнитного слоя рекомендовано приближать потенциал осаждения меди к равновесному потенциалу выделения Со или же дополнительно вводить в состав магнитного слоя.

Впервые показано, что осаждение медного слоя в МЬ Си/(Со+Си) при потенциалах, способствующих растворению Со из магнитного слоя, приводит к значительному росту эффекта вМЯ.

4. Изучен процесс контактного обмена компонентов магнитного слоя с ионами меди (в сульфатных растворах для осаждения МЬ) при разомкнутой цепи. Установлено, что процесс цементации меди практически отсутствует на, но с заметной скоростью протекает на Со. Определена скорость цементации меди (в растворе 0,5 М Со804, 0,03 М Си804 V =1.01−10″ 8моль-с'1-см'2, что ~ 2.0.

2 С мА/см) и показано, что она лимитируется доставкой ионов Си (¡-&bdquo-р «2.1 мА/см). Для снижения скорости контактного обмена на Со рекомендовано уменьшение концентрации ионов меди в растворе и их комплексообразование.

5. Экспериментально подтверждено (методами инверсионной вольтам-перометрии, кварцевой микрогравиметрии и РФлА) изменение содержания меди в осадках в ходе реакции цементации и его влияние на магнитотранс-портные свойства МЬ Си/(Со+Си).

6. Методами вольтамперометрии и кварцевой микрогравеметрии изучен процесс осаждения меди из кислых хлоридных растворов при различных сооту I * I ношениях СГ/Си. В условиях катодной поляризации при СГ/Си «5 зафиксировано и идентифицировано появление солевой пленки промежуточного соединения СиС1 в Си (П)/Си (1) процессе.

Показано, что при анодном растворении полученного в ходе катодной поляризации осадка меди появление интермедиатов происходит в Си (0)/Си (1) процессе, независимо от концентрации хлорид-ионов в растворе.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Т.А., Федосюк В. М., Дмитриева А. Э., Касютич О. И. О механизме формирования структуры электролитически осажденных пленок неоднородных сплавов медь-кобальт // Электрохимия -1996 -Т.32, № 11 С.1389−1393.
  2. Lashmore D. S. and Dariel М. P. Electrodeposited Cu-Ni textured superlat-tices // J. Electrochem. Soc. -1988. -Vol. 135, N. 5. -P. 1221.
  3. Ross C.A. Electrodeposited Multilayer Thin Films// Annu.Rev.Mater. Sci. -1994. -V.24. -P.159−188.
  4. А. //Физика тонких пленок. Под ред. Франкомба М. Х., Гофмана Р. У. М.: Мир, 1973. Т. VI. С. 228.
  5. С.Г. Использование синхротронного излучения для исследования магнитных материалов// Успехи физических наук. -1999. -Т. 169, № 8 -С.869−887.
  6. Binasch G., Grunberg P., Saurenbach F., and Zinn W. Enhanced magnetoresis-tence in layered magnetic structures with antiferro-magnetically interlayer exchange// Phys. Rev. B. -1988. -V. 39. -P. 4828−4830.
  7. Baibich M. N., Broto J. M., Fert A., Nguyen Van Dau F., Petroff F., Etienne P., Creuzet G., Friederich A., and Chazelas J. Giant magnetoresistence of (001) Fe/(001)Cr magnetic superlattice // Phys. Rev. Lett. 1988. -Vol. 61. -P. 24 722 475.
  8. Goldman L.M., lanpainB.B. and Spaepen F. Short wavelength compositionally modulated Ni/Ni-P films prepared by electrodeposition // J.Appl.Phys. -1986. -V.90. -P. 13 74.
  9. Brenner A. Electrodeposition of alloys: Principles and Practice.- New York: Academic, 1963.
  10. Tench D.M. and White J.T. A New Periodic Displacement Method Applied to Electrodeposition of Cu-Ag Alloys // J. Electrochem. Soc. -1992. -V.139. -P.443−446.
  11. Yahalom J., Zadok O. Formation of composition-modulated alloys by electrode-position // J. of Mater. Sci. -1987. V.22. -P.499−503.
  12. Ф.М., Зворыкин А. Я. Кобальт и никель.- М.?Издательство «Наука», 1975 г.-216 с.
  13. Parkin S.S.P., Bhadra R., Roche K.P. Oscillatory magnetic exchange coupling through thin copper layers // Phys. Rev. Lett. -1991. V. 66. -P. 2152.
  14. Schwarzacher W. and Lashmore D.S. Giant magnetoresistance in electrodepos-ited films // IEE Trans. Mag. 1996. -V. 32. -P. 31.
  15. Alper M., Schwarzacher W., Lane S.J. The effect of pH changes on the giant magnetoresistance of electrodeposited superlattices // J. Electrochem. Soc. -1997. -V.144.-P.2346.
  16. Lenczowski S.K., Schonenberger C., M. Gijs M.A., W.J.M. de Jonge. Giant magnetoresistance of electrodeposited Co/Cu multilayers/ JMMM 148. -1995. 455 465.
  17. Parkin S.S.P. Systematic Variation of the strength and oscillation period of indirect magnetic exchange coupling through the 3d, 4d, and 5d transition metals// Phys. Rev. Lett. -1991. -V. 67. -P. 3598−3601.
  18. Parkin S.S.P., More N., Roche K.P. Oscillations in exchange coupling and magnetoresistance in metallic superlattice structures: Co/Ru, Co/Cr, and Fe/Cr.
  19. Phys. Rev. Lett. -1990. -V. 64. -P. 2304−2307.
  20. Parkin S.S.P., Li Z.G., Smith D.J. Giant magnetoresistance in antiferromagnetic Co/Cu multilayers// Appl.Phys. Lett. -1991. -V.58. -P.2710−2712.
  21. Parkin S.S.P., Mauri D. Spin engineering: direct determination of the Ruderman-Kittel-Kasuya-Yosida far-field range function in ruthenium.// Phys. Rev. -1991. -V. 44.-P. 7131−7134.
  22. B.B., Звездин A.K., Попков А. Ф. Гигантское магнитосо-противление, спин-ориентационные переходы и макроскопические квантовые явления в магнитных наноструктурах //Успехи физических наук.- 1996. -Т. 166, № 4. -С.439−447.
  23. Alper М., Attenborough К., Hart R.,.Lane S. J, Lashmore D.S., Younes С., Schwarzacher W. Giant magnetoresistance in electrodeposited superlattices // Appl.Phys. Lett. 1993. -V.63. -P.2144.
  24. Alper M., Aplin P. S, Attenborough K., Dingley D.J., Hart R., Lane S.J., Lashmore D.S., Schwarzacher W. Growth and characterization of electrodeposited Cu/Cu-Ni-Co alloy superlattices // JMMM. -1993. V.126. -P.8−12.
  25. Hua S.Z., Lashmore D.S., Salamanca-Riba L.G., Schwarzacher W., Swartzen-druber L.J., McMichael R.D., Bennet L.H., Hart R. Composition modulation in ferromagnetic layer in Ni-Co (Cu)/Cu multilayer// J.Appl.Phys. 1994. — V.76. -P.6519.
  26. Ueda Y., Hataya N., Zaman H. Magnetoresistence effect of Co/Cu multilayer film produced by electrodeposition method // JMMM. -1996. -V.156.-P.350−352.
  27. Weihnacht V., Peter L., Toth J., Padar J., Kerner Zs., Schneider C.M., and Ba-konyi I. Giant magnetoresistance in Co-Cu/Cu multilayers prepared by various electrodeposition control modes // J. Electrochem.Soc.-2003.-V.150.-P.507−515.
  28. K.D. Bird и M. Schlesinger. Giant magnetoresistance in electrodeposited Ni/Cu and Co/Cu multilayers.// / J. Electrochem.Soc. -1995. -V.142. -L65-L66.
  29. Chassaing E. Effect of organic additives on the electrocrystallization and the magnetoresistance Co/Cu multilayers // J. Electrochem.Soc. -2001. -V.148. -P. 690−694.
  30. Jyoko, S. Kashiwabara, Y.Hayashi. Preparation of giant magnetoresistance Co/Cu multilayers by electrodeposittion // J.Electrochem. Soc. -1997. -V.144. L5-L8.
  31. A.A., Лубнин E.H., Полукаров Ю. М. Электроосаждение многослойных пленочных структур никель-хром из сульфатно-оксалатных электролитов //Электрохимия. -2001. -Т.37. С.833−837.
  32. Cziraki A., Gerocs I., Fogarassy В., Arnold В., Reibold М., Wetzig К., Toth-Kadar Е., Bakonyi I. Correlation of microstructure and giant magnetoresistance in electrodeposited Ni-Cu/Cu multilayers // Z.Metallkd. -1997. V.88. -P.781−789.
  33. Demenko A.V., Masliy A.I., Boldyrev V.V. Electrochemical deposition of Cu/Ni multilayers of nanometric thickness on GaAs. J. Mater. Synthesis and Processing. -1995. -V.3. -P.303−306.
  34. Schwarzacher W., Attenborough K., Michel A., Nabiyouni G., Meier J.P. Electrodeposited Nanostructures // J. Magn. Magn. Mater. -1997. -V. 165.- P.23−29.
  35. E.Chassaing, A. Morrone and J.E.Schmidt. Nanometric Cu-Co multilayers electrodeposited on indium-tin oxide glass// J. Electrochem.Soc. -1999. -V.146. -P. 1794−1797.
  36. Kazarinov V.E., Lykovtsev V.P., Dribinskii A.V., Borovkov V.S. Electrochemical methods for analysis of the thickness of thin alternating metal layers // J.Electroanalyt. Chem. -1995. -V.396. -P. 197−201.
  37. Bruckenstein S., Shay M. Experimental aspects of using quartz microbalance in solution //J. Appl. Electrochemistry 1985. — V.30. — P. 1295−1301.
  38. Schumacher R., Borges G., Kanazawa K.K. The quartz microbalance: a sensitive tool to probe surface reconstructions on gold electrodes in liquids// Surface Sci. -1985.-V.16 N1.-P.621−626.
  39. Buttry D.A., Ward M. D Measurement of interfacial processes at electrode surfaces with the electrochemical quartz crystal microbalance// Chem.Rev. -1992. -V.92. N6. -P.1355−1379.
  40. Gordon J. Application of an electrochemical quartz crystal microbalance to a study of the anodic deposition of Pb (>4 and Bi-Pb04 films on gold electrodes// J.Electrochem.Soc. -1994.-V.141- N3.- P.652−660.
  41. Despic A.R. and Jovic V.D. Electrochemical Formation of Laminar Deposits of Controlled Structure and Composition // J. Electrochem. Soc. -1987. -V.134. -P.3004−3011.
  42. Roy S. Electrodeposition of compositionally modulated alloys by a electrode-position-displacement reaction method// Surface and Coating Technology. -1998. -V.105. -P.202−205.
  43. Roy S., Matlosz M., Landolt D. Effect of Corrosion on the Composition of Pulse-Plated Cu-Ni Alloys //J. Electrochem. Soc. 1994. -V.141. -P.1509−1517.
  44. Roy S., Landolt D. Effect of Off-time on the Composition of Pulse-Plated Cu-Ni Alloys// J. Electrochem.Soc. -1995. V.142. — P.3021
  45. Bradley P.E., Roy S., Landolt D. Pulse-plating of copper-nickel alloys from a sulfamate solution // J.Chem.Soc., Faraday.Trans. -1996. -V.92. -P.4015−4019.
  46. Roy S., Landolt D. Determination of the practical range of parameters during reverse-pulse current plating.// J. of Applied Electrochemistry. -1997. -V.27. -P.299−307.
  47. P.E. Bradley h D. Landolt. Pulse-plating of copper-cobalt alloys.// Electrochem. Acta. -1999. -V.45. -P. 1077−1087.
  48. Shima M., Salamanca-Riba L.G. and MoffatT.P. Dissolution dynamics of artificially structured materials// Electrochem. and Solid-State Letters. -1999. -V.2.1. Р.271−274.
  49. S.M.S.I.Dulal, E.A.Charles and S.Roy. Dissolution from electrodeposited copper-cobalt-copper sandwiches.//! of Applied Electrochemistry. -2004. -V.34. -P.151−158.
  50. Kelly J.J., Cantony M., Landolt D. Three-dimentional structuring of electrode-posited Cu-Co multilayer alloys// J.Electrochem. Soc. -V.148. 2001. -P.620−626.
  51. Zhang J., Moldovan M., Young D.P., and Podlaha EJ. Electrochemical inspection of electrodeposited giant magnetoresistance CoNiCu/Cu multilayer films//J. Electrochem.Soc. -2005. -V.152. -P.626−630.
  52. Yuang Q. and Podlaha E.J. Selective etching of CoFeNiCu/Cu multilayers// J. of Applied Electrochemistry. -2005. -V.35. -P.l 127−1132.
  53. Peter L., Cziraki A., Pogany L., Kupay Z., Bakonyi I., Uhlemann M., Herich M., Arnold В., Bauer T. And Wetzig K. Microstructure and giant magneto-resistance of electrodeposited Co/Cu multilayers // J. Electrochem. Soc. -2001. -V.148. -P. 168.
  54. B.B., Девяткова O.B., Захаров M.C., Лучкин А. В. Инверсионно-вольтамперометрическое изучение взаимодействия элементов в электрооса-жденных системах меди с другими металлами подгруппы железа. //Электрохимия. -1999. -Т.35. -С.1146−1148.
  55. Ю.Д. Электрохимическое осаждение сплавов с модулированным по толщине составом. Обзор проблемы //Электрохимия. -2001. -Т.37. -С.686−692.
  56. Podlaha E.J., Bonhote С., Landolt D. A mathematical model and experimental study of the electrodeposition of Ni-Cu alloys from complexing electrolytes // Electrochimica Acta. -1994. -V.39. -P.2649−2657.
  57. Gabrielli C., Keddam M., and Torresi R. Calibration of electrochemical quartz crystal microbalance// J. Electrochem. Soc. -1991. -Vol. 138, No.9. P.2657−2660.
  58. К., Кедам М. Применение одновременного анализа данных пе-ременнотоковой кварцевой микрогравиметрии и импедансной спектроскопии в исследовании электрохимической кинетики // Электрохимия. -1993. -Т.21.-С.1190−1193.
  59. Sauerbrey G. Verwendung von Schwingquarzen zur Wagung dunner Schichten und zur Mikrowagung // Z. Physik. 1959. -V.155. -P.206.
  60. А.Г., Бек Р.Ю. Твердый электрод с обновляемой путем среза поверхностью // Электрохимия. -1985. Т.21. -С.66−70.
  61. Ю.Б., Александрова Т. П. Субмикронная регенерация поверхности твердых индикаторных электродов. Металлические электроды // ЖАХ. -1997. -Т.52, № 7. -С.752−755.
  62. В.А., Клетеник Ю.Б.Инверсионная вольтамперометрия меди на обновляемом графитовом электроде//Заводская лаборатория. -1997. -№ 8-С.7.
  63. L.J. van der Pauw. //Philips Res.Repts. -1958. -V.13. P. l
  64. Ю.И. Миграционные токи в электрохимической кинетике./ Итоги науки и техники. ВИНИТИ, сер. электрохимия. 1991. — Т.38. — С.144.
  65. Ю.И. К теории эффекта депрессии миграционного тока в электрохимических системах // Электрохимия. -1999. Т.35. -С.1119.
  66. Бек Р.Ю., Шураева Л. И., Кирюшов В. Н., Скворцова Л. И. Связь закономерностей накопления металла при электроосаждении в высоковольтном режиме с константой диссоциации кислоты фона // Электрохимия. -2000. -Т.36. -С.77−80.
  67. Бек Р.Ю., Цупак Т. Е., Нгуен Зуй Ши, Бородихина Л. И. Особенности массо-переноса в ацетатных растворах никелирования // Электрохимия. -1985. -Т.21. -С.1190−1193.
  68. Бек Р.Ю., Шураева Л. И. Роль эффектов миграции и комплексообразования при никелировании. 2. Хлоридные растворы // Сиб.хим.журн. (Изв. СО РАН). -1992. -Вып.З. -С.80−83.
  69. Stability Constants. P. l .Organic Ligands/Compiled by J.Bjerrum. London.-1957.
  70. Д.Ж., Рейнболдт В. Итерационные методы решения нелинейных систем уравнений со многими неизвестными. -М.: Мир, 1975. -С. 180.
  71. С.И., Сагеева P.M., Абдрахманова Л. А., Музеев И. Х. Влияние кислотности раствора на механизм электрохимического восстановления аква-комплексов Ni из сульфаматных электролитов // Электрохимия. -1977. -Т.13, № 12. -С.1900.
  72. Golognitsky D., Gudin N.V., Volyanuk G.A. Study of Nickel-Cobalt Alloy Elec-trodeposition from a Sulfamate Electrolyte with Different Anion additives // J. Electrochem. Soc. -2000. -V.147, Nol 1. P.4156 -4163.
  73. Ю.Ю. Справочник по аналитической химии. M.: Химия, 1979. -С.325.
  74. Л.И., Бек Р.Ю., Скворцова Л. И. Влияние перемешивания на скорость осаждения металла при высоковольтном режиме // Электрохимия. -1999. -Т.35. -С.649−652.
  75. Van Zee J., Newman J. Electrochemical Removal of Silver Ions from Photographic Fixing Solutions Using a Porous Flow-Through Electrode// J.Electrochem.Soc. -1977. -V.124. -P.706.
  76. Banks C.V. and Singh R.S. Composition and stability of some metal-5-sulphosalicylate complexes // J. Inorg. Nucl.Chem. 1960. -V.15. — P.125−132.
  77. Брайнина X.3., Нейман Е. Я., Слепушкин B.B. Инверсионные электроаналитические методы. -М.: Химия, 1988. -239 с.
  78. К. Электрохимическая кинетика. -М.: Химия, 1967. -С.779.
  79. В.В. Прикладная электрохимия. Харьков: Издательство Харьковского университета, 1961.-541 с.
  80. Diard J.P., Le Canut J.M., Le Corres В., Montella С. Copper electrodissolution in 1 M HC1 at low current densities. I. General steady-state study // Electrochim. Acta. 1998. -V.43. — P.2469−2483.
  81. Lee H.P., Nobe K. Kinetics and Mechanisms of Cu Electrodissolution in Chloride Media //J. Electrochem. Soc. -1986. -V.133. P.2035.
  82. King F., Litke C.D., Quinn M.J., LeNeveu D.M. The measurement and prediction of the corrosion potential of copper in chloride solutions as a function of oxygen concentration and mass-transfer coefficient//Corros.Sci.-1995.-V.37.-P.833−851.
  83. Deslouis C., Tribollet В., Mengoli G. and Musiani M. Electrochemical behaviour of copper in neutral aerated chloride solution. I. Steady-state investigation // J. Appl. Electrochem. -1988. -V.18. P.374.
  84. A.B., Маршаков И. К. Начальный этап анодного растворения Си, Аи-сплавов в хлоридных и сульфатных растворах // Электрохимия. -1997. -Т.ЗЗ. -С.298−307.
  85. Основы аналитической химии. Кн.1./ Под ред. Ю. А. Золотова. М.: Высшая школа, 1999. -С. 185−188.
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!