Неоднородность текстуры.
Материаловедение.
Фрагментация и текстурообразование при деформации металлических материалов
Чтобы проверить это предположение, рассчитаем распределения I220 от sm ф согласно разделу 5.2 для разных значений дисперсии D. Расчет показывает (рис. 5.13а), что по мере того, как текстура с ростом деформации становится более острой, высота пика при ф = 30°, 1П1ах> стремится к постоянной величине около 2.31. Следовательно, более высокие значения 1|Шх в эксперименте обусловлены не большей… Читать ещё >
Неоднородность текстуры. Материаловедение. Фрагментация и текстурообразование при деформации металлических материалов (реферат, курсовая, диплом, контрольная)
Как ясно из вышеизложенного, для оценки остаточных напряжений необходима информация о текстуре материала. В частности, если нас интересует распределение напряжений по сечению проволоки, предварительно необходимо количественно охарактеризовать соответствующую неоднородность распределения текстуры, если такая неоднородность присутствует. Кроме того, текстура и сама по себе может давать существенную информацию о состоянии материала, в частности, о неоднородности степени деформации в поперечном сечении образов.
Выше было показано, что остроту текстуры можно оценить, используя зависимость интегральной интенсивности пика для рефлекса {220} от угла у при <�р=0 (см. рис. 5.3). В случае текстуры пики интенсивности Ьго должны находиться при у = 0, 30° и 90° (заметим, что пик интенсивности при у = 90° соответствует основному текстурному пику, регистрируемому при специальном текстурном анализе образцов, результаты которого представлены в главе 4). При этом в силу фактора повторяемости пик для у = 30° оказывается значительно сильнее, чем для vp = 0.
Рис. 5.11. Распределения интенсивности пика для рефлекса {220} в относительных единицах, 122о (у)/122о (00) при ср = 0, на разных расстояниях от поверхности образца.
На рис. 5.11 представлены распределения интенсивности 122о, нормированные на 122о (ф=0°), на разных расстояниях от поверхности, начиная с 0.1 мм. Видно, что текстура практически всюду одинаковая, лишь незначительно острота пика возрастает по мере приближения к оси проволоки.
Однако в приповерхностном слое, как будет показано ниже, определенные отклонения от аксиальной текстуры, свойственной внутреннему объему, имеют место. Рассмотрим рис. 5.12, на котором приведены распределения интенсивности 122о на глубинах менее 0.1 мм. Также здесь показаны интенсивности для исходного состояния, которое, как было показано в главе 4, является практически бестекстурным. Распределение интенсивностей при (р = 0 (рис. 5.12а), полученное для исходного состояния, подтверждает отсутствие текстуры. В то же время, для ср = 90° (рис. 5.126) интенсивность в исходном состоянии падает с ростом vp. Очевидно, эта особенность обусловлена сложной геометрией образца (рис. 5.10): кривизной поверхности и наличием экранирующего материала. Влияние этих факторов должно проявляться именно в случае наклона образца вокруг оси проволоки.
На рис. 5.126 видно, что для <�р=90° по мере увеличения расстояния от поверхности распределение интенсивности приближается к распределению для бесгекстурного состояния. Поскольку последнее не зависит от у, то можно заключить, что текстура с увеличением глубины становится более аксиальной (для аксиальной текстуры интенсивность также, как и для бсстскстурного состояния, нс должна зависеть от ф при ср = 90° в случае нормального плоского образца). Таким образом, на расстояние от поверхности 0.1 мм и глубже мы имеем аксиальную текстуру, а в поверхностном слое имеются отклонения от осевой симметрии.
Заметим, что вариации высоты пика при у = 30° для <�р = 0 на рис. 5.12а коррелируют с вариациями распределения интенсивностей при Ф = 90° на рис. 5.126. В то же время, как видно из рис. 5.11, во внутреннем объеме проволоки высота этого пика остается всюду практически неизменной Следовательно, вариации высоты в приповерхностном слое при Ф = 0, как и рассмотренные выше вариации распределения при ф = 90°, могут быть связаны с отклонением текстуры от осевой симметрии.
Чтобы проверить это предположение, рассчитаем распределения I220 от sm ф согласно разделу 5.2 для разных значений дисперсии D. Расчет показывает (рис. 5.13а), что по мере того, как текстура с ростом деформации становится более острой, высота пика при ф = 30°, 1П1ах> стремится к постоянной величине около 2.31. Следовательно, более высокие значения 1|Шх в эксперименте обусловлены не большей остротой текстуры, а другими причинами, в частности, отклонением от аксиальности, как это мы уже предположили выше. Заметим, что интегральные интенсивности отнесены здесь к величине I220 для у = 0. В таком случае увеличение относительной величины 111Вх может быть результатом уменьшения 122о ('|/ = 0). Это предположение согласуется с результатами работы Виллемса [204], где было отмечено уменьшение доли ориентации {110} за счет увеличения доли.
{100} на поверхности стальной проволоки по сравнению с аксиальной текстурой.
Рис. 5.12. Распределения относительной интенсивности пика для рефлекса {220} в поверхностном слое на глубинах от 0.01 до 0.1 мм при ср = 0 (а) и <�р = 90° (б).
Рис. 5.13. а — рассчитанные зависимости относительной интенсивности от у при трех значениях параметра, характеризующего остроту текстуры; б — зависимость Imi" (значение минимальной интенсивности в интервале между у = 0 и 30°) от расстояния от поверхности проволоки.
Как ясно из вышесказанного, 1″их не подходит в качестве характеристики остроты текстуры в случае не строго аксиальных текстур. В то же время, из рис. 5.13а видно, что для сильных текстур их острота коррелирует с интенсивностью Imin, которая соответствует минимуму между пиками при хр = 0 и 30°. Зависимость величины 1П1щ от глубины в приповерхностных слоях приведена на рис. 5.136. Она показывает, что вблизи поверхностности существует слой, в котором текстура сильнее, чем непосредственно на поверхности и на больших глубинах. Следовательно, в этом слое мы, по-видимому, имеем повышенную степень пластической деформации.