ΠŸΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒ Π² написании студСнчСских Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚
АнтистрСссовый сСрвис

Π Π°Π·Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ° эффСктивных Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΠΎΠ² ΠΈ Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΉ удалСния солСвых ΠΈ ΠΆΠ΅Π»Π΅Π·ΠΎ-оксидных ΠΎΡ‚Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΉ с повСрхности ΡΡ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ оборудования

Π Π΅Ρ„Π΅Ρ€Π°Ρ‚ΠŸΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒ Π² Π½Π°ΠΏΠΈΡΠ°Π½ΠΈΠΈΠ£Π·Π½Π°Ρ‚ΡŒ ΡΡ‚ΠΎΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒΠΌΠΎΠ΅ΠΉ Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Ρ‹

На ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π΅ ΠΏΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… исслСдований Π½Π°ΠΉΠ΄Π΅Π½Ρ‹ ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ условия использования ЭДВА для удалСния ΠΎΠΊΠ°Π»ΠΈΠ½Ρ‹ с ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности ΡΡ‚Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… ΠΈΠ·Π΄Π΅Π»ΠΈΠΉ: концСнтрация (ЭДВА) 0,002βˆ’0,007 моль/Π»; рН=2,3±0,2, Π’=333 -353К. Π‘ ΠΏΠΎΠ²Ρ‹ΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρ‹ раствора процСсс растворСния Fe3O4 Π² Π­Π”Π’А Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ интСнсифицируСтся. Π’Π΅Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ½Π° эффСктивной энСргии Π°ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π°Ρ†ΠΈΠΈ процСсса составляСт 60±6 ΠΊΠ”ΠΆ/моль. Рисунок 4. Π—Π°Π²ΠΈΡΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ… Π§ΠΈΡ‚Π°Ρ‚ΡŒ Π΅Ρ‰Ρ‘ >

Π Π°Π·Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ° эффСктивных Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΠΎΠ² ΠΈ Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΉ удалСния солСвых ΠΈ ΠΆΠ΅Π»Π΅Π·ΠΎ-оксидных ΠΎΡ‚Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΉ с повСрхности ΡΡ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ оборудования (Ρ€Π΅Ρ„Π΅Ρ€Π°Ρ‚, курсовая, Π΄ΠΈΠΏΠ»ΠΎΠΌ, ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΡŒΠ½Π°Ρ)

Π Π°Π·Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ° эффСктивных Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΠΎΠ² ΠΈ Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΉ удалСния солСвых ΠΈ ΠΆΠ΅Π»Π΅Π·ΠΎ-оксидных ΠΎΡ‚Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΉ с ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности ΡΡ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ оборудования

Π’ Π½Π°ΡΡ‚оящСС врСмя Π½Π°ΠΊΠΎΠΏΠ»Π΅Π½ ΠΎΠ³Ρ€ΠΎΠΌΠ½Ρ‹ΠΉ ΡΠΊΡΠΏΠ΅Ρ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π» ΠΏΠΎ Ρ€Π°ΡΡ‚Π²ΠΎΡ€Π΅Π½ΠΈΡŽ оксидов, ΠΎΠΊΠ°Π»ΠΈΠ½Ρ‹ с ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»ΠΎΠ² ΠΈ ΡΠΏΠ»Π°Π²ΠΎΠ², ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ позволяСт ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ΡŒ процСссы ΠΏΠΎ ΠΎΡ‡ΠΈΡΡ‚ΠΊΠ΅ ΠΈ ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹Π²ΠΊΠ΅ тСхнологичСского оборудования. ΠŸΡ€Π΅Π΄Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½Π½Ρ‹Π΅ Π² Π ΠΎΡΡΠΈΠΈ ΠΈ Π·Π° Ρ€ΡƒΠ±Π΅ΠΆΠΎΠΌ Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ химичСской очистки тСплотСхничСского оборудования обоснованы Ρ‚ΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΎ эмпиричСски, тСхнологичСскиС Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΡ‹ Π½Π΅ Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΎΠ½Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ ΠΈ Π½Π΅Π΄ΠΎΡΡ‚Π°Ρ‚ΠΎΡ‡Π½ΠΎ эффСктивны с ΡΠΊΠΎΠ½ΠΎΠΌΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΠΎΠΉ ΠΈ ΡΠΊΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΠΎΠΉ Ρ‚ΠΎΡ‡ΠΊΠΈ зрСния.

Π’ ΡΠ²ΡΠ·ΠΈ с ΡΡ‚ΠΈΠΌ Π²ΠΎΠ·Π½ΠΈΠΊΠ»Π° Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ Ρ€Π°Π·Π²ΠΈΠ²Π°Ρ‚ΡŒ Π½ΠΎΠ²ΠΎΠ΅ Π½Π°ΡƒΡ‡Π½ΠΎ-тСхничСскоС Π½Π°ΠΏΡ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ комплСксного Π°Π½Π°Π»ΠΈΠ·Π° Ρ„Π°ΠΊΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ², Π²Π»ΠΈΡΡŽΡ‰ΠΈΡ… Π½Π° ΠΏΡ€ΠΎΡ†Π΅ΡΡΡ‹ растворСния, изучСния ΠΏΡ€ΠΈΡ€ΠΎΠ΄Ρ‹ Π»ΠΈΠΌΠΈΡ‚ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‰Π΅ΠΉ стадии процСсса ΠΈ ΠΏΠΎΠΈΡΠΊΠ° Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠΎΠ΄Π΅Π»Π΅ΠΉ для ΠΏΠΎΠ»Π½ΠΎΠ³ΠΎ Π°Π½Π°Π»ΠΈΠ·Π° влияния стимуляторов ΠΈ ΠΊΠΎΠΌΠΏΠ»Π΅ΠΊΡΠΎΠ½ΠΎΠ² Π½Π° Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ†ΠΈΠΈ, ΠΏΡ€ΠΎΡ‚Π΅ΠΊΠ°ΡŽΡ‰ΠΈΠ΅ Π½Π° Π³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ†Π΅ Ρ€Π°Π·Π΄Π΅Π»Π° Ρ‚Π²Π΅Ρ€Π΄ΠΎΠ΅ Ρ‚Π΅Π»ΠΎ/раствор для эффСктивного управлСния процСссами растворСния.

ЦСль Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Ρ‹ — поиск эффСктивных Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΠΎΠ² примСнСния стимуляторов (ЭДВА, ΠžΠ­Π”Π€) для провСдСния процСссов растворСния ТСлСзооксидных ΠΈ ΡΠΎΠ»Π΅Π²Ρ‹Ρ… ΠΎΡ‚Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΉ с ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности тСхнологичСского оборудования.

Для поиска ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… условий удалСния ΠΊΠ°Ρ€Π±ΠΎΠ½Π°Ρ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΎΡ‚Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΉ с ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности ΡΡ‚Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… ΠΈΠ·Π΄Π΅Π»ΠΈΠΉ ΠΈΠ·ΡƒΡ‡Π΅Π½Π° ΠΊΠΈΠ½Π΅Ρ‚ΠΈΠΊΠ° растворСния ΠΊΠ°Π»ΡŒΡ†ΠΈΡ‚Π° (БаБО3). Π Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Ρ‹ экспСримСнта ΠΏΠΎ Ρ€Π°ΡΡ‚Π²ΠΎΡ€Π΅Π½ΠΈΡŽ ΠΊΠ°Π»ΡŒΡ†ΠΈΡ‚Π° ΠΈ Π²Π·ΡΡ‚Ρ‹Π΅ ΠΈΠ· Π»ΠΈΡ‚Π΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π½Ρ‹Ρ… источников [1−6] ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Ρ‹ Π½Π° Ρ€ΠΈΡΡƒΠ½ΠΊΠ΅ 1.

Рисунок 2. Π—Π°Π²ΠΈΡΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ скорости растворСния ΠΊΠ°Π»ΡŒΡ†ΠΈΡ‚Π° ΠΎΡ‚ ΠΊΠΎΠ½Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ ЭДВА Π² 0,7 Πœ KCl ΠΏΡ€ΠΈ рН=12, Π² Π°Ρ‚мосфСрС Π°Π·ΠΎΡ‚Π°, T=293±2 К

Из Π°Π½Π°Π»ΠΈΠ·Π° кинСтичСских закономСрностСй слСдуСт, Ρ‡Ρ‚ΠΎ с ΡƒΠ²Π΅Π»ΠΈΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ рН ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒ растворСния Ρ€Π΅Π·ΠΊΠΎ сниТаСтся Π² ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Ρ€Π²Π°Π»Π΅ рН ΠΎΡ‚ 2 Π΄ΠΎ 5. Π’ ΠΎΠ±Π»Π°ΡΡ‚ΠΈ рН ΠΎΡ‚ 5 Π΄ΠΎ 10 Π½Π°Π±Π»ΡŽΠ΄Π°Π΅Ρ‚ΡΡ ΠΏΠΎΡ‡Ρ‚ΠΈ постоянная ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒ растворСния Π½Π΅ Π·Π°Π²ΠΈΡΡΡ‰Π°Ρ ΠΎΡ‚ ΠΊΠΎΠ½Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ ΠΈΠΎΠ½ΠΎΠ² Н+. ΠŸΡ€ΠΈ рН Π±ΠΎΠ»ΡŒΡˆΠ΅ 10 происходит дальнСйшСС сниТСниС интСнсивности процСсса.

ΠŸΠΎΡΠΊΠΎΠ»ΡŒΠΊΡƒ ЭДВА ΠΏΠΎΠ»Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ диссоциирован ΠΏΡ€ΠΈ рН? 12, Ρ‚ΠΎ Π½Π°ΠΌΠΈ ΠΈΠ·ΡƒΡ‡Π΅Π½Π° Π·Π°Π²ΠΈΡΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ скорости растворСния ΠΊΠ°Π»ΡŒΡ†ΠΈΡ‚Π° ΠΎΡ‚ ΠΊΠΎΠ½Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ ЭДВА ΠΏΡ€ΠΈ рН=12 (рисунок 2).

Из Π΄Π°Π½Π½Ρ‹Ρ… рисунка 2 слСдуСт, Ρ‡Ρ‚ΠΎ с Ρ€ΠΎΡΡ‚ΠΎΠΌ ΠΊΠΎΠ½Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ комплСксона ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒ растворСния ΠΊΠ°Π»ΡŒΡ†ΠΈΡ‚Π° увСличиваСтся.

ΠœΠ΅Ρ…Π°Π½ΠΈΠ·ΠΌ растворСния ΠΊΠ°Π»ΡŒΡ†ΠΈΡ‚Π° Π² ΠΊΠΎΠΌΠΏΠ»Π΅ΠΊΡΠΎΠ½Π°Ρ… ΠΏΡ€ΠΈ рН 12 прСдставлСн ΠΏΠΎΡΠ»Π΅Π΄ΠΎΠ²Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ стадий (1−3):

Но ΠΈΠ· Π΄Π°Π½Π½Ρ‹Ρ… рисунка 1 слСдуСт, Ρ‡Ρ‚ΠΎ с Ρ€ΠΎΡΡ‚ΠΎΠΌ рН ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒ растворСния ΠΊΠ°Ρ€Π±ΠΎΠ½Π°Ρ‚ΠΎΠ² ΡƒΠΌΠ΅Π½ΡŒΡˆΠ°Π΅Ρ‚ΡΡ. Π’ ΡΠ²ΡΠ·ΠΈ с ΡΡ‚ΠΈΠΌ Π±Ρ‹Π»ΠΈ ΠΏΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Ρ‹ исслСдования ΠΏΠΎ ΠΈΠ·ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΡŽ зависимости скорости растворСния ΠΊΠ°Π»ΡŒΡ†ΠΈΡ‚Π° ΠΎΡ‚ Ρ€Π Π² ΠΏΡ€ΠΈΡΡƒΡ‚ствии комплСксонов, с Ρ†Π΅Π»ΡŒΡŽ опрСдСлСния ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… Π·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠΉ рН ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΡ комплСксонов. Π Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Ρ‹ исслСдований ΠΎΡ‚Ρ€Π°ΠΆΠ΅Π½Ρ‹ Π½Π° Ρ€ΠΈΡΡƒΠ½ΠΊΠ΅ 3.

Из Π°Π½Π°Π»ΠΈΠ·Π° Π΄Π°Π½Π½Ρ‹Ρ… рисунка 3 слСдуСт, Ρ‡Ρ‚ΠΎ использованиС комплСксонов для удалСния ΠΊΠ°Ρ€Π±ΠΎΠ½Π°Ρ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΎΡ‚Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΉ Π½Π° ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности тСплоэнСргСтичСского оборудования Π½Π°ΠΈΠ±ΠΎΠ»Π΅Π΅ эффСктивно Π² ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Ρ€Π²Π°Π»Π΅ рН 4−5.

На ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠΈ ΠΏΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… исслСдований Π½Π°ΠΉΠ΄Π΅Π½Ρ‹ ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ условия удалСния ΠΊΠ°Ρ€Π±ΠΎΠ½Π°Ρ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΎΡ‚Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΉ с ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности тСхнологичСского оборудования: раствор HCl рН=4−5, Π‘ (ЭДВА)? 0,01 Πœ (ΡΠΎΠΎΡ‚Π½ΠΎΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ НБl: ЭДВА 100:1).

Для поиска ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… условий удалСния ТСлСзооксидных ΠΎΡ‚Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΉ с ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности ΡΡ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ оборудования исслСдовано влияниС ЭДВА Π½Π° ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒ растворСния основного ΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ½Π΅Π½Ρ‚Π° ΠΎΠΊΠ°Π»ΠΈΠ½Ρ‹ — ΠΌΠ°Π³Π½Π΅Ρ‚ΠΈΡ‚Π°.

Из Π°Π½Π°Π»ΠΈΠ·Π° Π΄Π°Π½Π½Ρ‹Ρ…, прСдставлСнных Π½Π° Ρ€ΠΈΡΡƒΠ½ΠΊΠ΅ 4, слСдуСт, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒ растворСния ΠΌΠ°Π³Π½Π΅Ρ‚ΠΈΡ‚Π° Π² Π­Π”Π’А ΠΏΡ€ΠΎΡ…ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ Ρ‡Π΅Ρ€Π΅Π· максимум ΠΎΡ‚ Π²Π΅Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ½Ρ‹ рН. Для ЭДВА рН ΠΌΠ°ΠΊΡΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ скорости растворСния соотвСтствуСт Π·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½ΠΈΡŽ рН 2,3±0,2.

Рисунок 4. Π—Π°Π²ΠΈΡΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ скорости растворСния ΠΌΠ°Π³Π½Π΅Ρ‚ΠΈΡ‚Π° Π² ΡΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠΉ кислотС ΠΎΡ‚ рН ΠΏΡ€ΠΈ ΠΊΠΎΠ½Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ ЭДВА — 0,01 Πœ (1), ΠžΠ­Π”Π€-0,1 Πœ (2)-0,01 Πœ (3), Н2SO4 ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΡŒ Π±Π΅Π· Π΄ΠΎΠ±Π°Π²ΠΎΠΊ комплСксонов (4).

Как Π²ΠΈΠ΄Π½ΠΎ ΠΈΠ· Ρ€ΠΈΡΡƒΠ½ΠΊΠ° 5 ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒ растворСния ΠΌΠ°Π³Π½Π΅Ρ‚ΠΈΡ‚Π° зависит ΠΎΡ‚ ΠΊΠΎΠ½Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ ЭДВА Π² ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Ρ€Π²Π°Π»Π΅ 0,0025−0,02 моль/Π» ΠΈ ΠΏΡ€ΠΎΡ…ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ Ρ‡Π΅Ρ€Π΅Π· максимум ΠΏΡ€ΠΈ ΠΊΠΎΠ½Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ 0,003 моль/Π».

Π‘ ΠΏΠΎΠ²Ρ‹ΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρ‹ раствора процСсс растворСния Fe3O4 Π² Π­Π”Π’А Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ интСнсифицируСтся. Π’Π΅Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ½Π° эффСктивной энСргии Π°ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π°Ρ†ΠΈΠΈ процСсса составляСт 60±6 ΠΊΠ”ΠΆ/моль.

Как слСдуСт ΠΈΠ· Ρ€ΠΈΡΡƒΠ½ΠΊΠ° 6 Π΄ΠΎΠ±Π°Π²ΠΊΠΈ Fe (II) ΡƒΡΠΊΠΎΡ€ΡΡŽΡ‚ процСсс растворСния Fe3O4 Π² Π­Π”Π’А, Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ порядки Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ†ΠΈΠΉ ΠΏΠΎ ΠΈΠΎΠ½Π°ΠΌ ΠΆΠ΅Π»Π΅Π·Π° (II) Ρ€Π°Π²Π½Ρ‹ +0,5.

ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹Π²ΠΊΠ° оксидный ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π».

На ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π΅ ΠΏΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… исслСдований Π½Π°ΠΉΠ΄Π΅Π½Ρ‹ ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ условия использования ЭДВА для удалСния ΠΎΠΊΠ°Π»ΠΈΠ½Ρ‹ с ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности ΡΡ‚Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… ΠΈΠ·Π΄Π΅Π»ΠΈΠΉ: концСнтрация (ЭДВА) 0,002−0,007 моль/Π»; рН=2,3±0,2, Π’=333 -353К.

Π’Ρ‹Π²ΠΎΠ΄Ρ‹

  • 1. НайдСны ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ условия удалСния ΠΊΠ°Ρ€Π±ΠΎΠ½Π°Ρ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΎΡ‚Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΉ с ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности тСхнологичСского оборудования: раствор HCl рН=4−5, Π‘ (ЭДВА)? 0,01 Πœ (ΡΠΎΠΎΡ‚Π½ΠΎΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ НБl: ЭДВА 100:1).
  • 2. ΠŸΡ€Π΅Π΄Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½Ρ‹ ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ условия использования ЭДВА для удалСния ΠΎΠΊΠ°Π»ΠΈΠ½Ρ‹ с ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности ΡΡ‚Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… ΠΈΠ·Π΄Π΅Π»ΠΈΠΉ: концСнтрация ЭДВА 0,002−0,007 моль/Π», рН=2,3±0,2, Π’=333 — 353К.
  • 1. Plummer L. N., Wigley T. M. L., Parkhurst D. L. The kinetics of calcite dissolution in CO2-water systems at 5 ?10?C and 0.0−1.0 atm 2 CO. // Am. J. Sci. 1978. V. 278. P. 179.
  • 2. Fredd C. N., Fogler H.S. The influence of chelating agents on the kinetics of calcite dissolution. // Journal of colloid and interface science. 1998. V. 204. P. 187.
  • 3. Wiese G.R., James R.O., Jates D.E., Healy T.W. Electrochemistry of the Colloid/Water Interface. International Review of Science. / Ed. J.Bockris. V.6. London. 1976. P.53.
  • 4. Westall J., Hohl H. A Comparison of Electrostatic Models for The Oxide/Solution Interface. // Adv. Colloid Interface Sci. 1980. V.12. N 2. P.265.
  • 5. Devis J.A., James R.D., Lackie J.O. Surface lonization and Complexation at the Oxide/Water Interface. // J. Colloid Interface Sci. 1978. V.63. N 3. P.480.
  • 6. Devis J.A., Lackie J.O. Surface Preperties of Amorphous Iron Oxyhydroxide and Adsorption of Metal Ions. //. J. Colloid Interface Sci. 1978. V.67. N 1. P.90.
ΠŸΠΎΠΊΠ°Π·Π°Ρ‚ΡŒ вСсь тСкст
Π—Π°ΠΏΠΎΠ»Π½ΠΈΡ‚ΡŒ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡƒ Ρ‚Π΅ΠΊΡƒΡ‰Π΅ΠΉ Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΎΠΉ