Развитие метода атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом для послойного анализа покрытий на металлах и сплавах
Проведён анализ метрологических характеристик метода и ограничений при определении толщины тонких плёнок методом спектрометрии тлеющего разряда По результатам измерений, полученных на спектрометрах тлеющего разряда SA-2000 и GDS 850А, показана возможность применения полученных калибровок для анализа различных градиентных материалов. Экспериментально изучены основные причины искажения формы… Читать ещё >
Развитие метода атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом для послойного анализа покрытий на металлах и сплавах (реферат, курсовая, диплом, контрольная)
Содержание
Для получения разнообразных свойств конструкций и деталей различного назначения в мировой практике широко используются разнообразные покрытия и способы обработки поверхности. Защита от факторов окружающей ! среды, повышение прочностных характеристик — свойства, которые можно получить с помощью нанесения различного рода тонких покрытий, а также термохимической обработки поверхности, создающей в деталях зоны нитроцементации, внутреннего окисления и т. д.
Так, например, для уменьшения трения в узлах вращения автомобилей используют высокоэффективные низкофрикционные покрытия твёрдого гальванического хрома, молибдена, а также вакуумные РУО-покрыгия, способные работать при высоких температурах (до 600−700 °С) и малом расходе смазки. Одно лишь уменьшение коэффициента трения на 20% при работе шестерен в коробке передач автомобиля может дать экономию в десятки млрд. евро только в транспортной индустрии.
На современные высокопроизводительные режущие инструменты с помощью дуговых и магнетронных распылителей всё чаще наносятся градиентные и многослойные покрытия на основе титана и алюминия с добавлением в качестве легирующих компонентов хрома, иттрия, циркония, ванадия, бора или гафния [1].
Нанесение нитридов и карбидов различных металлов в качестве защитных покрытий на поверхности позволяет получить высокую твёрдость, коррозионную стойкость и жаропрочность. Такие покрытия способны сохраняться на различных конструкциях длительное время благодаря наноструктурному строению плёнки, которую они образуют [2].
Отдельной группой стоят способы химико-термической обработки металлов. Цементация, азотирование, нитроцементация, борирование — являются методами насыщения поверхностей изделий различными элементами, посредством получения растворов замещения (хром, алюминий, кремний) или внедрения (углерод, азот, сера). Эти операции позволяют повысить износостойкость, контактную выносливость и коррозионную стойкость в агрессивных средах.
Постоянно растущий расход материалов с различными покрытиями в технической практике, приводит к возрастанию требований по контролю качества таких покрытий, мониторингу и оптимизации технологии нанесения покрытий, контролю материалов с покрытиями при приемке, идентификации дефектов и профилактике их появлений [3].
Прогресс в современных металлургических технологиях невозможен без развития методов аналитической химии и диагностики, обладающих соответствующими показателями экспрессносги, точности и воспроизводимости. С этой точки зрения аналитические методы вносят свой весьма важный вклад в создание материалов высокого качества и снижение себестоимости производства. Задачами контроля качества поверхности являются контроль поверхностных дефектов, анализ толщины, состава и плотности покрытий, контроль загрязнений на поверхности металла
В промышленности и исследованиях наиболее часто используются следующие методы локального анализа и анализа поверхности:
— Растровая электронная микроскопия с рентгеновским микроанализом (РЭМ-МАР) —
— Оже-электронная спектроскопия (ОЭС) —
— Электронная спектроскопия для химического анализа (ЭСХА) —
— Агомно-эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (АЭСТР) —
— Масс-спектрометрия вторичных ионов (МСВИ).
Большинство методов анализа поверхности — ЭСХА, ОЭС, МСВИ—обладают хорошими аналитическими показателями, но достаточно сложны, требуют применения длительной подготовки проб и дороги в эксплуатации. Эти особенности, а также длительность выполнения анализа делает эти методы малопригодными для аналитического контроля в промышленности.
Метод АЭСТР обладает прекрасными аналитическими характеристиками — узкими спектральными линиями, сводящими к минимуму взаимное влияние элементов, линейностью калибровок и относительно низкой температурой плазмы, позволяет быстро и точно анализировать широкий спектр элементов, а также изменение их содержания при послойном анализе от поверхности вглубь образцов. Кроме того, количественный послойный спектральный анализ с тлеющим разрядом является одним из самых экспрессных методов из-за относительно высокой скорости ионного травления образца и не требует длительной пробоподготовки.
Поэтому целью данной работы являлась разработка методов послойного анализа тонких покрытий на спектрометрах тлеющего разряда, проведение с их помощью исследований различных материалов и изучение факторов, оказывающих влияние на результаты послойного анализа.
Цель работы
Целью данной работы являлось развитие метода атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом для послойного анализа градиентных материалов, определение ограничений метода и разработка методик и стандартных образцов для количественного послойного анализа и определения толщины покрытий на металлах и сплавах.
Для достижения цели работы решены следующие задачи:
— Разработаны методики количественного послойного анализа на спектрометрах тлеющего разряда БА-2000 и йЭБ 850А фирмы ЬЕСО-
— Определены основные источники искажения аналитических кривых при количественном послойном анализе — влияние шероховатости поверхности, управляющих параметров плазмы тлеющего разряда, профиля кратера ионного травления, времени стабилизации плазмы-
— Совместно с Факультетом вычислительной математики и кибернетики (ВМК) МГУ им. Ломоносова разработано программное обеспечение на основе двухпараметрического регуляризирующего метода сглаживания экспериментальных функций, полученных при количественном послойном анализе методом атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом, и восстановления исходного сигнала-
— Исследованы метрологические характеристики метода и ограничения при определении толщины тонких плёнок методом спектрометрии тлеющего разряда-
— Разработаны и аттестованы методами кулонометрии и фотометрии образцы с известной толщиной покрытия электрохимического хрома для калибровки методов количественного послойного анализа на спектрометрах тлеющего разряда-
— Разработана методика количественного послойного анализа состава и микроструктуры градиентных материалов, включающая количественный послойный анализ на спектрометре тлеющего разряда с последовательным микрорентгеноспекгральным анализом кратеров ионного травления на растровом электронном микроскопе (РЭМ), анализом поперечных шлифов методом количественной оптической микроскопии и фракционным газовым анализом для идентификации оксидных включений-
— С помощью разработанной методики количественного послойного анализа проведены комплексные исследования различных градиентных материалов — образцов сталей после химико-термической обработки, анизотропной электротехнической стали с электроизоляционным покрытием, защитных покрытий на магнитах системы Nd-Fe-B.
Методы исследования
Анализ зоны внутреннего окисления анизотропной электротехнической стали, диффузионного слоя стали после химико-термической обработки, экспериментальных покрытий нитридов титана и защитных покрытий магнитов системы Nd-Fe-B проводили на спектрометрах тлеющего разряда SA-2000 и GDS 850А фирмы LECO. Измерение профилей кратеров ионного травления проводилось на оптическом профилометре VEECO WYKO NT 1100, позволяющем получить трёхмерное изображение с визуализацией посредством цветовой шкалы. Толщины и структуру различных покрытий изучали методами оптической металлографии на микроскопе OLIMPUS РМЕ-3, оснащённым цифровой видеокамерой и анализатором изображения Inclusion Expert фирмы LECO, и на сканирующем электронном микроскопе Carl Zeiss LEO 4301 с энергодисперсионным рентгеновским микроанализатором. Оксидные включения в поверхностном слое анизотропной электротехнической стали изучали методом восстановительного плавления в потоке газа-носителя на газоанализаторах ТС-436 и ТС-600 фирмы LECO. Для напыления тонких покрытий на экспериментальные образцы использовалась установка вакуумного нанесения покрытий на базе откачивающей системы УВН-2М. Для обработки результатов исследования использовалось современное специально разработанное программное обеспечение.
Научная новизна
В работе получены следующие новые результаты:
1. На примере количественного послойного анализа образцов легированных сталей исследовано влияние управляющих параметров плазмы тлеющего разряда на профиль кратера травления и определены области значений тока и напряжения, при которых форма кратера вносит минимальное искажение. Правильность определения параметров подтверждена экспериментальными результатами измерения профиля на оптическом профилометре. Показана применимость параметров к другим материалам.
2. Экспериментально изучено влияние шероховатости поверхности раздела «покрытие-матрица» на форму графика количественного послойного анализа. Показана возможность количественной оценки шероховатости.
3. Проведены системные исследования и разработаны методические принципы определения толщины покрытия на спектрометрах тлеющего разряда. Показана возможность их применения на различных классах образцов.
4. На основе разработанного двухпараметрического регуляризирующего метода предложено и опробовано программное обеспечение для сглаживания экспериментальных функций, полученных при послойном анализе методом атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом, и восстановления истинного сигнала, позволяющее уменьшать влияние аналитического и электрического шумов на результаты и проводить количественный послойный анализ тонких слоев.
5. На основе комплексного анализа различных покрытий (ТМ, Тл, Сг и т. д.) методами оптической и растровой микроскопии определена зависимость скорости распыления и определены доверительные интервалы определения толщины покрытий на АЭСТР.
6. Разработана и опробована комплексная методика количественного послойного анализа состава и структуры градиентных материалов, включающая в себя количественный послойный анализ на спектрометре тлеющего разряда, анализ кратеров травления на растровом электронном мшфоскопе, анализ поперечных шлифов методом количественной оптической микроскопии и фракционный газовый анализ (ФГА) для идентификации оксидных включений.
Практическая ценность работы
1. Разработана методика количественного послойного анализа образцов анизотропных электротехнических сталей (АЭТС) после стадий обезуглероживающего отжига и нанесения электроизоляционного покрытия на атомно-эмиссионных спектрометрах тлеющего разряда 8А-2000 и СББ 850А и газоанализаторе ТС-600 фирмы ЬЕСО. Методика была использована на Новолипецком металлургическом комбинате (НЛМК) при анализе АЭТС на всех стадиях производства, что подтверждено справкой о практическом использовании результатов работы для оптимизации технологии производства АЭТС-
2. Совместно с ОАО «Лысьвенский металлургический завод» (ЛМЗ) разработаны и аттестованы образцы с известной толщиной покрытия электрохимического хрома для калибровки методов количественного послойного анализа на спектрометрах тлеющего разряда. Образцы используются в качестве стандартных образцов предприятия на ОАО ЛМЗ-
3. Совместно с ВМК МГУ разработано программное обеспечение, основанное на двухпараметрическом регуляризирующем методе сглаживания экспериментальных функций, полученных при послойном анализе методом атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом-
4. Предложена возможность применения комплекса методик — спектрометра тлеющего разряда, металлографического и микрорешгеноспектрального анализа для комплексного исследования градиентных материалов и сложных покрытий. Методика использована при анализе
АЭТС НЛМК, сталей, прошедших химико-термическую обработку и магнитов системы Ш-Ре-В с различными защитными покрытиями.
Апробация работы
Основные результаты исследовании доложены и обсуждены на:
— Конференции молодых специалистов ИМЕТ им. А. А. Байкова РАН, г. Москва, 2005.
— Конференции молодых научных сотрудников и аспирантов ИМЕТ им. А. А. Байкова РАН, г. Москва, 2006.
— IV Российской ежегодной конференции молодых научных сотрудников и аспирантов, г. Москва, 2007.
— Конференции «Центры коллективного пользования (ЦКП) и испытательные лаборатории — в исследованиях материалов: диагностика, стандартизация, сертификация и метрология», г. Москва, 2007 г.
— V Российской ежегодной конференции молодых научных сотрудников и аспирантов, г. Москва, 2008.
— Всероссийской конференции «Функциональные материалы и высокочистые вещества», г. Москва, 2009 г.
— Съезде аналитиков России «Аналитическая химия — новые методы и возможности», г. Москва, 2010 г.
Публикации
По материалам диссертации опубликовано 5 статей в изданиях, рекомендованных ВАК- 5 тезисов докладов.
Структура диссертации
Введение.1
Актуальность.1
Цель работы.3
Методы исследования.4
Научная новизна.4'
Практическая ценность работы.5
Апробация работы.6
Публикации.6
Структура диссертации.6
Общие выводы по работе.
1. Экспериментально изучены основные причины искажения формы аналитического сигнала при проведении количественного послойного анализа на спектрометрах тлеющего разряда — влияние эффекта формы кратера травления, аналитических шумов и особенностей поверхности анализируемых образцов.
2. На примере количественного послойного анализа образцов легированных сталей исследовано влияние управляющих параметров плазмы тлеющего разряда на профиль кратера травления и определены области значений тока и напряжения, при которых форма кратера вносит минимальное искажение.
3. Экспериментально исследовано влияние шероховатости поверхности раздела «покрытие-матрица» на форму графика количественного послойного анализа Также получена количественная зависимость тангенса угла наклона кривой послойного анализа от величины шероховатости поверхности подложки. Показано, что при соблюдении оптимальных условий контроля плазмы тлеющего разряда метод позволяет оценить шероховатость поверхности раздела «покрытие-матрица» и сделать выводы о возможной взаимной диффузии покрытия в подложку.
4. Рассмотрена задача подавления шума в экспериментальных функциях, полученных методом атомно-эмиссионной спектрометрии. Предложен двухпараметрический ретуляризирующий метод устранения шума, который может быть применен для широкого класса задач сглаживания экспериментальных данных.
5. На основе проведённых экспериментов и теоретических исследований предложен метод восстановления сигнала послойного анализа Также разработано программное обеспечение для обработки аналитических кривых количественного послойного анализа.
6. Разработаны и аттестованы стандартные образцы предприятия с известной толщиной покрытия электрохимического хрома для калибровки методики количественного послойного анализа на спектрометрах тлеющего разряда Проведено сравнение результатов определения толщины хромового покрытия методами кулонометрии, фотометрии и спектрометрии тлеющего разряда Показано хорошее совпадение результатов. По набранной статистике вычислена погрешность определения толщины покрытия на спектрометрах 8А-2000 и ОББ 850А.
7. Проведена линейная аппроксимация результатов послойного анализа и определены коэффициенты калибровки определения толщины хромового покрытия для спектрометров SA-2000 и GDS 850А.
8. Проведён анализ метрологических характеристик метода и ограничений при определении толщины тонких плёнок методом спектрометрии тлеющего разряда По результатам измерений, полученных на спектрометрах тлеющего разряда SA-2000 и GDS 850А, показана возможность применения полученных калибровок для анализа различных градиентных материалов.
9. Разработана комплексная методика послойного анализа состава и микроструктуры градиентных материалов, включающая количественный послойный анализ на спектрометре тлеющего разряда с последовательным микрорентгеноспектральным анализом кратеров ионного травления на растровом электронном микроскопе, анализом поперечных шлифов методом количественной оптической микроскопии и фракционным газовым анализом.
10. На примере анализа экспериментальных образцов магнитов системы Nd-Fe-B с защитными покрытиями и детали, подвергнутой химико-термической обработке, продемонстрированы возможности применения разработанной методики для комплексного исследования градиентных материалов.
11. В рамках развития совместного применения спектрометрии с другими методами анализа проведено исследование ЗВО электротехнических сталей. Проведена идентификация соединений кремния, марганца и железа методом ФГА совместно со спектральным анализом. Определены оптимальные технологические параметры процесса обезуглероживающего отжига АЭТС.
12. Разработанная методика исследования градиентных материалов была опробована на ОАО «НЛМК» для изучения профиля концентраций основных легирующих элементов и структуры образцов АЭТС, отобранных на разных стадиях производства Результаты выполненной работы были использованы в ОАО «НЛМК» для оптимизации технологии производства АЭТС. Также, разработанная методика количественного послойного анализа была использована на ОАО «НПО «Магнетон» при разработке и оптимизации технологии нанесения защитных покрытий на постоянные магниты системы Nd-Fe-B.
1. Mahan J.E. Physical vapor deposition of thin films: John Wiley & Sons, 2000.106.
2. Bunshah R.F. Handbook of hard coatings. William Andrew Publishing, 2001.
3. Вейс 3. Оптическая спектрометрия с тлеющим разрядом (GD-OES) в анализе покрытий // Аналитика и контроль. 2000. Т.4. № 3. С.232−243.
4. Angeli J. Chemical analysis of micron and submicron areas — an advanced stage in materials and surface analysis // European Commission «Progress in analytical chemistry in steel and metals industries». 1999, P. 109−119.
5. Карпов Ю. А., Савостин А. П., Сальников В. Д. Аналитический контроль в металлургическом производстве: Учебное пособие. М.: ИКЦ «Академкнига», 2006. — 352 с.
6. Аналитическая химия. Проблемы и подходы: В 2 т: Пер. с англ. / Под ред. Р. Кельнера, Ж.-М. Мерме, М. Отго, М. Видмера. М.: «Мир»: ООО «Издательство ACT», 2004. — (Лучший зарубежный учебник). Т 2. — 728 е.: ил.
7. Фельдман Л., Майер Д. Основы анализа поверхности и тонких пленок.- М.: Мир, 1989.-564с.
8. Ковалев А. И., Щербединский Г. В. Современные методы исследования поверхности металлов и сплавов.- М.: Металлургия, 1989.-192 с.
9. Вудраф Д., Деячар Т. Современные методы исследования поверхности.- М.: Мир, 1989. 564 с.
10. Watt. The principles and practice of electron microscopy, Cambridge University Press, 1985, p. 303.
11. Утевский Л. М. Дифракционная электронная микроскопия в металловедении. М.: Металлургия, 1973. 384 с.
12. Гоулдстейн Д., Ньюбери Д., Эчлин П. и др. Растровая электронная микроскопия и рентгеновский микроанализ / Пер. с англ. под. ред. Петрова В. И. Кн. 1,2. М.: Мир, 1984.486 с.
13. Г. Бинниг, Х.Рорер. Сканирующая туннельная микроскопия — от рождения к юности. Нобелевские лекции по физике—1986. УФН, т. 154 (1988), вып.2, с. 261.
14. В. С. Эдельман. Сканирующая туннельная микроскопия (обзор). ПТЭ, 1989, № 5, с. 25.
15. Н. С. Маслова, В. И. Панов. Сканирующая туннельная микроскопия атомной структуры, электронных свойств и поверхностных химических реакций. УФН, 1989, т.157, выл.1, с. 185.
16. Бргатс Д., Сих М. П. Анализ поверхности методами ожеи рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии. М.: Мир, 1987 — 598 с.
17. Benninghoven A., Rudenauer F. G., Werner Н. W., Secondary Ion Mass Spectrometry: Basic Concepts, Instrumental Aspects, Applications, and Trends. New York: Willey, 1987,1227 p.
18. Зайдель A H. Основы спектрального анализа. M.: Наука, 1965.324 с.
19. Harrison W.W., Hang W. Powering the analytical glow discharge // Fresenius J. Anal. Chem. 1996, V. 355, P. 803−807.
20. Аналитическая, химия. Проблемы и подходы: В 2 т: Пер. с англ. / Под ред. Р. Кельнера, Ж.-М. Мерме, М. Отто, М. Видмера. М.: «Мир»: ООО «Издательство ACT», 2004. — (Лучший зарубежный учебник). Т 2. — 728 е.: ил.
21. Спектральный анализ чистых веществ. Под редакцией X. И. Зйльбернтгейна. С.-П.: Химия, 1994.336 с.
22. Москалев Б. И. Разряд с полым катодом. М.: Энергия, 1969.184 с.
23. W. Grimm, Naturwiss., 1967,54,586.
24. W. Grimm, Spectrochimica Acta B, 1968,23,443.
25. Bogaerts A., Gijbels R. Fundamental aspects and applications of glow discharge spectromctric techniques //Spectrochimica Acta Part B, 1998, V. 53, P. 1 -42.
26. Григорович K.B., Яйцева E.B. Спектрометры тлеющего разряда — новое перспективное направление в приборостроении // Аналитика и контроль. 2002, Т.6, № 2, С.143−150.
27. Bengston A., EklundA., Lundholm М. Quantitative depth profile analysis of solid samples using glow discharge optical emission // Conf. Plasma Spectrochem., San Diego, Calif., Jan. 10−15, 1994. Amherst (Mass.), 1994. P. 304.
28. Suzuki K., Nishizaka K., Ohtsubo Т., Trans. ISU 1984,24, B-259.
29. Suzuki K., Nishizaka K., Ohtsubo Т., Honmi N. and Nakajima K, Tetsu to Hagane, 1985, 71 (2), A109-A 112.
30. Bengtson A., Spectrochim. Acta, 1985,40B, 631−639.
31. Bengtson A. and Eklund A., Swedish Institute for Metals Research Rept., 1992, IM-2859,pp40.
32. Beusse R., Preissler S. Analysis of Surfaces and Layers of coated Steel Sheet by GDOES // European Commission «Progress in analytical chemistry in the steel and metal industries» 16−18 May 2006,2006, P. l 74−179.
33. Xhoffer C., Dillen H. The Versatility of GDOES: from Bulk Analysis to Thin-film and Surface Analysis // European Commission «Progress in analytical chemistry in the steel and metal industries» 16−18 May 2006,2006, P. 159−167.
34. Glow discharge optical emission spectrometry / edited by R. Payling, D.G. Jones and A. Bengtson. ChichesterNew York: J. Wiley, с1997.
35. Дробышев А. И. «Поверхностный слой с измененным содержанием элементов и его влияние на правильность результатов послойного анализа многокомпонентных материалов с использованием ионного распыления» //Журн. аналит. химии. 1987. Т.42. С.2265−2268.
36. Rose Е., Mayr P. Analysis of nitrogen-influenced surface near zones of ferrous materials by glow discharge spectroscopy // Mikrochim. Acta 1989, V. 1, P. 197−212.
37. Berneron R., Michel H., Gantois M. Spectrochemical analysis of ion-nitrided, ion-carbuzized and ion-plateu-lauers on steels by optical emission using a glow-discharge If Heat Treat: '1' Proc. Int. Conf. Birmingham, 1979. London, 1980, P. 45−51,210−213.
38. Quantitative depth profile analysis of hot dip Galvanization. GD-OES. Spectroscopy Application Note. № 203−821−071. LECO, 1998.4 p.
39. Berneron R., ChetrefF В., Colin J.P. Surface analysis by glow discharge lamp. Study of galvanited steel sheets // Colloq. Spectrosc. Int. 24 Garmish-Partenkirchen, Sept 15−20, 1985. Book Abstr. V. 4. Dortmund. P. 646−647.
40. Weiss Z., Smid P. Zinc based reference materials for glow discharge optical emission spectrometry: sputter factors and emission yields // J. Anal. Atom. Spectrom. 2000, V. 15, P. 14 851 492.
41. Полешка И. М., Иванов Ю. Ф., Голковский М. Г., Перовская М. В. Структура и свойства покрытий, полученных электронно-лучевой наплавкой // Физика и химия обработки материалов. 2007, № 6, С. 48−56.
42. Погребняк А. Д., Братушка С. Н., Ердыбаева Н. К. и др. Свойства защитных Ni-Cr покрытий после дуплексной обработки // Физика и химия обработки материалов. 2007, № 6, С. 37−47.
43. Stock H.-R., Hohl F., Mayr P. Calibration standards for composition depth profiles of non-stoichiometric titanium nitride coatings // Fresenius J. of Anal. Chem. 1994, V. 349, N. 1 -3. P. 208−209.
44. Marcus R.K., Anfone A.B., Luesalwong W., Hill T.A., Perahia D., Shimizu K. Radio frequency glow discharge optical emission spectroscopy: a new weapon in the depth profiling arsenal // Anal, and Bioanal. Chem. 2002, V. 373, N. 7, P. 656−663.
45. Anfone A.B., Marcus R.K. Radio frequency glow discharge optical emission spectrometry (rf-GD-OES) analysis of solid glass samples // Journal of Analytical Atomic Spectrometiy, 2001, V. 16, P. 506−513.
46. Belenguer P., Pitchford L.C., Hubinois J.C. Electrical characteristics of RF-GD-OES cell // Journal of Analytical Atomic Spectrometry, 2001, V.16, P. 1−3.
47. Gibeau T.E., Marcus R.K. Influence of discharge parameters on the resultant sputtered crater shapes for a radio frequency glow discharge mass spectrometry source // Journal of Analytical Atomic Spectrometry, 1998, V. 13, P. 1303−1311.
48. Hartenstein M.L., Marcus R.K. Practical aspects in the determination of gaseous elements by radiofrequency glow discharge atomic emission spectrometry // Journal of Analytical Atomic Spectrometry, 1997, V. 12, P. 1027−1032.
49. Hocquaux H., Meilland R., Boutin G. Trends in glow discharge spectrometry with a radio frequency source // European Commission «Progress in analytical chemistry in the steel and metals industries» 12 to 14 May 1998,1999. P. 84−91.
50. Ko J.B. New design of glow discharge lamps for the analisis of metals by atomic emission spectroscopy // Spectrochim. Acta. Part B. 1984 V. 39, N. 9−11. P. 1045−1423.
51. Christov N. Neutral atoms sputtered cathode glow discharge spectrometry analysis / N. Christov, Y. Pacheva // 7 Pol. Spectroanal. Conf. and 10 CANAS. Torun 5−10 Sept, 1998: Abstr. Warszawa, 1998. P. 9.
52. Mollow D. The influence of glow discharge parameters of analytical results at analysis of metals and alloys / D. Mollow, A.P. Petkov // ICP information Newslett. 1989. V. 15, N.6. P. 311−312.
53. Slickers K. //Automatic Emission Spectroscopy. Giessen: Bruhlsche Universitatsdruckerai, 1989.540 p.
54. Marshall K.A. A comparison of lamp control parameters in both bulk and depth profile analysis by glow discharge optical emission spectroscopy // Journal of Analytical Atomic Spectrometry. 1999, V. 14, P. 923−928.
55. Weiss Z. Quantitative depth profile analysis by glow discharge optical emission spectrometry: alternative approach// J. Analyt. Atom. Spectrom. 1995, V.10, P. 891.
56. Bengtson A. Quantitative depth profile analysis by glow discharge // Spectrohimica Acta PartB. 1994, V. 49, P. 411.
57. Hanstrom S., Granstam P., Nordh J. RF-GDOES Depth Profile Analyses of anodizing layers on aluminium // European Commission «Progress in analytical chemistiy in the steel and metals industries» 12 to 14 May 1998,1999, P. 685−692.
58. Nelis Т., Payling R., Kartheuser B: GD-OES Analysis of coated steel // European Commission «Progress in analytical chemistry in the steel and metals industries» 12 to 14 May 1998, 1999, P. 71−75.
59. Wetzig K., Baunack S., Hoffmann V., Oswald S., Prassler F. Quantitative depth profiling of thin layers // Fresenius J Anal. Chem. 1997, V. 358, P. 25−31.
60. Weiss Z., Smid P. Zn based Reference materials for Glow Discharge Optical Emission Spectrometry // J. Analyt. Atom. Spectrom. 2000, V. 10, P. 891.
61. Weiss.Z. Quantitative evaluation of depth profiles analysed by glow discharge optical' emission spectroscopy: analysis of diffusion processes // Spectrochimica Acta. Part B. 1992, V. 47, P. 859−876.
62. Bogaerts A., Gijbels R. Calculation of crater profiles on a flat cathode in a direct current glow discharge, and comparison with experiment // Spectrochimica Acta. Part B. 1997, V. 52, P. 765 778.
63. Fernandez М., Bordel N., Pereireo R. Investigations on the use of radiofrequency glow discharge optical emission spectrometry for in-depth profile analysis of painted coatings // J. Anal. At Spectrom. 1997, V. 12, N. 10, P. 1209−1214.
64. Demeny D. Influence of anode geometry on electric field distribution and crater profile using a glow discharge lamp // J. J. Anal. At Spectrom. 1992, V. 7, N. 7, P. 707−710.
65. Bengtson A., Hanstrom S. Emission yield for quantitative depth profile analysis by glow discharge optical emission—the influence of discharge parameters (Invited Lecture) // Journal of Analytical Atomic Spectrometry. 1998, V. 13, P. 437−41.
66. Yang C., Ingeneri K., Harrison W.W. A pulsed Grimm glow discharge as an atomic emission source // Journal of Analytical Atomic Spectrometry. 1999, V. 14, P. 693−698.
67. Yang С., Ingeneri KL, Mohill M., Harrison W.W. Influence of discharge parameters on the resolution of depth profiling by pulsed glow discharge atomic emission spectrometry // Journal of Analytical Atomic Spectrometry. 2000, V. 15, P. 73−78.
68. ГОСТ 2789–73 «Шероховатость поверхности. Параметры и характеристики» .
69. ГОСТ 25 142–82 «Шероховатость поверхности. Термины и определения» .
70. Тихонов А. Н. Арсенин В. Я. Методы решения некорректных задач. М.: Наука Главная редакция физико-математической литературы, 1979.
71. Григорович К. В., Красовский П. В., Исаков С. А., Горохов А. А., Крылов А. С. Обработка и интерпретация результатов фракционного газового анализа // Заводская лаборатория. Диагностика материалов. 2002. Т. 68, № 9, С. 3−9.
72. Спрыгни Г. С., Григорович К. В., Мизотин М. М., Крылов А. С. Сглаживание данных атомно-эмиссионной спектроскопии // Заводская лаборатория. Диагностика материалов. 2008. Т. 74, № 2, С. 3−7.
73. Weiss Z., Marshall KL Elemental depth profiling of coated and surface-modified materials by GD-OES: hard coatings on cutting tools // Thin Solid Films. 1997, Y. 308−309, P. 382−388.
74. Beck U., Reiners G., Wirth Т., Hoffinann V., Prassler F. Multilayer reference coatings for depth profile standards // Thin Sol. Films. 1996, V. 291, P. 57−62.
75. ГОСТ 18 895–97 «Сталь. Метод фотоэлектрического спектрального анализа» .
76. ГОСТ 7727–81 «Сплавы алюминиевые. Методы спектрального анализа» .
77. ГОСТ 23 902–79 «Сплавы титановые. Методы спектрального анализа» .
78. ГОСТ 9717.1−82 «Медь. Методы спектрального анализа» .
79. ГОСТ 6012–98 «Никель. Методы химико-атомно-эмиссионного спектрального анализа» .
80. ГОСТ 23 328–95 «Сплавы цинковые. Методы спектрального анализа» .
81. Гольдштейн М. И., Грачёв С. В., Векслер Ю. Г. Специальные стали: Учебник для вузов.- 2-е изд., перераб. и доп. М.: МИСИС, 1999.-408 с.
82. Смирнов М. А., Счастливцев В. М., Журавлёв Л. Г. Основы термической обработки стали: Учебное пособие. М.: «Наука и технологии», 2002.-519 с.
83. Пужевич Р. Б., Борисенко В. Г., Шварцман Л. А., Петренко А. Г., Венцкович З. П. Получение и свойства покрытий на электротехнической холоднокатаной анизотропной стали // Черная металлургия. Бюл. НТИ. 1983, Вып. № 4, С. 14−21.
84. Каган В. Г., Корзунин Г. С., Пужевич Р. Б., Сысолятина И. П., Чистяков В. К. Контроль качества электроизоляционных покрытий при производстве электротехнической стали // Контроль. Диагностика. 2004, № 8, С. 40−48.
85. Патент США кл. Н011/04 № 4 268 326, НКИ148/113, опубликован 19.03.1981 г.
86. Патент США кл. Н011/04 № 4 255 205, НКИ 148/113, опубликован 10.03.1986 г.
87. Патент СШАкл. Н011/04 № 3 930 906, НКИ 148/113, опубликован 06.01.1976 г.
88. Григорович К. В. Фракционный газовый анализ — новое направление в контроле качества материалов // Аналитика и контроль. 2000. Т.4. № 3. С.244−251.
89. Красовский П. В., Григорович К. В. Термодинамика процессов неизотермического восстановления оксидных включений в насыщенных углеродом расплавах // Металлы. 2002. № 2. С. 10−16.открытое акционерное общество НОВОЛИПЕЦКИЙ МЕТАЛЛУРГИЧЕСКИЙ КОМБИНАТ.
90. Россия, 398 040, г. Липецк, пл. Металлургов, 2 факс: И 742} 44 11 11 | е-та!!: 1 nfoianlmk.ru-Дй/—-——Председателю ученого совета ИМЕТ.
91. РАН, академику РАН, д.х.н К. А, Солнцеву.
92. Уважаемый Константин Александрович!
93. Результаты выполненной работы были использованы в ОАО «Новолипецкий металлургический комбинат» для оптимизации технологии производства анизотропной электротехнической стали.
94. Вице-президент по перспект ивному развитию и Ю. И. Ларин.
95. В. Н. Поляков (4742) 44 42 70.
96. Результаты исследования позволили оптимизировать технологию нанесения защитных покрытий на постоянные магниты системы Nd-Fe-B в ОАО НПО «Магнетон».