Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Послойный синтез и исследование нанослоев неорганических соединений, содержащих анионы вольфрамовой, фосфорновольфрамовой или кремневольфрамовой кислот

Диссертация: Послойный синтез и исследование нанослоев неорганических соединений, содержащих анионы вольфрамовой, фосфорновольфрамовой или кремневольфрамовой кислот
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Найдены и экспериментально обоснованы условия послойного синтеза методом КН нанослоев ТЮ2-пН20, ЬаР04пН20 и Се02-пН20 с использованием в качестве реагентов, соответственно, коллоидного раствора Т1(ОН)3 и раствора № 1Ч02, коллоидного раствора гидроксида лантана и раствора ЫаН2Р04, коллоидного раствора Се (ОН)3 и раствора Н202 (ОН"). Установлено, что введение в коллоидный раствор Т1(ОН)3 соли… Читать ещё >

Послойный синтез и исследование нанослоев неорганических соединений, содержащих анионы вольфрамовой, фосфорновольфрамовой или кремневольфрамовой кислот (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • I. Обзор литературы
    • 1. 1. Химические свойства и основные области применения полиоксометаллатов
    • 1. 2. Закономерности адсорбции ионов на границе раздела твердое тело -раствор
    • 1. 3. Методы «послойного» синтеза нанослоев с использованием растворов реагентов
    • 1. 4. Фотохимические реакции и их применение для создания фотохимически самоочищающихся поверхностей
  • II. Экспериментальная часть
    • 2. 1. Методическая часть
      • 2. 1. 1. Анализ оптимальных условий послойного синтеза неорганических соединений с использованием компьютерных программ расчета равновесий в растворах
      • 2. 1. 2. Методики стандартизации поверхности подложек
      • 2. 1. 3. Методики приготовления растворов
      • 2. 1. 4. Методики синтеза нанослоев
      • 2. 1. 5. Методики исследования синтезированных слоев
    • 2. 2. Экспериментальные результаты и их обсуждение
      • 2. 2. 1. Синтез нанослоев гидратироеанных оксидов титана (IV) и церия (IV) и фосфата лантана методом коллоидного наслаивания
        • 2. 2. 1. 1. Синтез и исследование нанослоев ТЮ211Н2О и Т102-х2г02-пН20 (х = 0 — 0,5)
        • 2. 2. 1. 2. Синтез и исследование нанослоев СеОгпНгО
        • 2. 2. 1. 3. Синтез и исследование нанослоев ЬаРО^пНгО
      • 2. 2. 2. Синтез методом ионного наслаивания нанослоев, содержащих анионы гетерополикислоты и катионы комплексного соединения с лигандами CS (NH2)2 илиЫН
        • 2. 2. 2. 1. Синтез исследование нанослоев 3Ag2(tu)4−2(PWi204o)'nH
        • 2. 2. 2. 2. Синтез исследование нанослоев 2Ag2(tu)4-SiWi204o'nH
        • 2. 2. 2. 3. Синтез и исследование нанослоев Pd (tu)3)5−6W0x-nH
        • 2. 2. 2. 4. Синтез и исследование нанослоев Co (NH3)6-HSiWi204o-nH
      • 2. 2. 3. Синтез методом ионного наслаивания нанослоев, содержащих анионы волъфрамата (молибдата) и катионы Се4+, Zr4+ илиН/+
        • 2. 2. 3. 1. Синтез и исследование нанослоев Ce0,8WOx-nH2O
        • 2. 2. 3. 2. Синтез и исследование нанослоев MWxMoyOz-nH20 (M-Zr4+, Uf+)
      • 2. 2. 4. Синтез методом ионно-коллоидного наслаивания слоев нанокомпозитов, содержащих анионы изо- или гетерополиволъфрамата и коллоидные частицы гидратированного оксида (гидроксида) металла
        • 2. 2. 4. 1. Синтез и исследование нанослоев a!-Fe203-(HxPWi204o)o, o2'nH
        • 2. 2. 4. 2. Синтез и исследование нанослоев InOOH-(HxSiWi204o)o, o3"iiH
        • 2. 2. 4. 3. Синтез и исследование нанослоев SnO2-Au00,6- (HxPWi204o)o, o4, nH
        • 2. 2. 4. 4. Синтез и исследование нанослоев TiO2-(HxWOy)0−5-nH2O
        • 2. 2. 4. 5. Обсуждение результатов, полученных в разделе 2
    • 2. 3. Примеры применения синтезированных слоев для решения прикладных задач

Послойный синтез тонкослойных структур на основе нанослоев металл-кислородных соединений является важной задачей препаративной химии твердых веществ, поскольку они находят практическое применение при создании различных изделий в микрои наноэлектронике, ионике, в качестве сорбентов, ионообменников, электрохромных покрытий, электрохимических сенсоров, и т. д. Особое место среди металл-кислородных соединений занимают изои гетерополиоксометаллаты, в том числе вольфрам-содержащие, которые являются хорошими протонными проводниками, эффективными катализаторами окисления органических соединений и т. д.

В последнее время, как известно, при проведении подобных синтезов все большее применение находят методы ионного (ИН), ионно-коллоидного (ИКН) и коллоидного наслаиваний (КН), основанные на проведении на поверхности подложки в растворах последовательных и необратимых актов, соответственно, адсорбции катионов и анионов, катионов или анионов и адагуляции коллоидных частиц или только коллоидных частиц, которые после взаимодействия образуют на поверхности нанослои труднорастворимых соединений. Однако, как показали первые опыты, синтез данными методами слоев, содержащих анионы изои гетерополиоксометаллатов, в частности, вольфраматов, имеет ряд особенностей, связанных с отсутствием у данных соединений необходимого числа реакционно-способных функциональных групп. В этой связи, представляет интерес разработка новых подходов к послойному синтезу таких соединений, а также нанослоев других оксидов металлов, например Т1О2, СеОг и ряда других, которые могли бы быть матрицей-носителем при получении мультинанослоев, содержащих полиоксометаллаты вольфрама.

В качестве подложек при синтезе были выбраны полированные пластины плавленого кварца и монокристаллического кремния, которые, с одной стороны, являются удобными объектами для исследования различными физико-химическими методами, а, с другой — имеют сравнительно хорошо изученную химию поверхности.

Данная работа выполнена в рамках госбюджетной темы «Неорганическое материаловедение: направленный синтез и исследование кристаллических, аморфных и наноструктурированных материалов различного функционального назначения» (№ 12.0.103.2010) и гранта РФФИ «Тонкослойные структуры новых гибридных изои полиоксометаллатов, синтезированные по схеме „слой-за-слоем“ как основа для создания новых функциональных материалов» (№ 08−03−390-а).

Целью настоящей работы являлось создание с использованием методологии послойного синтеза новых функциональных металл-кислородных покрытий, содержащих в своем составе оксо-анионы вольфрамовой, фосфорно-или кремневольфрамовой кислот, а также новых способов синтеза слоев гидратированных оксидов титана (IV), церия (IV) и фосфата лантана, которые бы могли выполнять роль подложек-матриц при синтезе слоев изои гетерополивольфраматов.

ОБЗОР ЛИТЕРАТУРЫ.

Основные результаты и выводы.

1. Предложены новые подходы к синтезу нанослоев методом КН, один из которых основан на адагуляции на поверхности подложки коллоидных частиц реагента с последующим их деструкционно-эпитаксиальным превращением в растворе, содержащем анион, образующий с одним из компонентов коллоидной частицы труднорастворимое соединение, а второй — на последовательной и многократной адагуляции на поверхности подложки на одной из стадий КН коллоидных частиц гидроксида металла, стабилизированных путем адсорбции соединений с рН осаждения большим, чем рН осаждения гидроксида металла, образующего коллоидные частицы.

2. Найдены и экспериментально обоснованы условия послойного синтеза методом КН нанослоев ТЮ2-пН20, ЬаР04пН20 и Се02-пН20 с использованием в качестве реагентов, соответственно, коллоидного раствора Т1(ОН)3 и раствора № 1Ч02, коллоидного раствора гидроксида лантана и раствора ЫаН2Р04, коллоидного раствора Се (ОН)3 и раствора Н202 (ОН"). Установлено, что введение в коллоидный раствор Т1(ОН)3 соли 2гОС12 дает возможность получить слой ТЮ2-х7г02-пН20 (х = 0 — 0,5).

3. В качестве реагентов при синтезе методом ИН могут быть использованы комплексы тиомочевины с катионами металлов и растворы полиоксометаллатов. Так, в результате синтеза с участием растворов комплексов тиомочевины с катионами и Рс1 и растворов Н3РУ1204о, Н481У12О40 или поливольфрамовой кислоты на поверхности образуются, соответственно, нанослои ЗAg2(tu)4−2(PWl204o)nH20, 2А§ 2(Ш)4- 81У12О40'пН2О или Р (1(Ш)3−5-6?0хпН20.

4. При взаимодействии растворенных [Со (1ЧН3)6]С13 и Н481У1204о образуется коллоидный раствор, который может быть использован в процессе синтеза по методике ИКН слоев Со (>1Н3)6-Н81?1204о-пН20, состоящих из наностержней диаметром 20−30 и длиной 300 и более нанометров и имеющих кристаллическую структуру.

5. Найдены условия послойного синтеза нанокомпозитов а-Ре2Оз-(НхРУ1204о)о, 02-пН20, InOOH-(HxSiW1204o)o, oз•nH20, 8пО2-Аи00)б-(Н^1204о)о, о4-пН20 и TiO2-(Hxwoy)0)5•nH2O, состоящих из наночастиц гидроксида (оксида) металла и анионов изоили гетерополивольфраматов.

6. На примере синтеза слоев 2гУхМоу02-пН20 и Н^хМОуО^пНгО показана возможность синтеза методом ИН слоев, в состав которых входят оксометаллаты нескольких элементов.

7. Показана эффективность применения слоев Со (КНз)б-Н81?12О40,пН2О в качестве резистивных элементов электропроводных сенсоров влажности, слоев ТЮ2-(Нх\Юу)о, 5″ пН20 — электрохромных, а слоев ТЮ2 — супергидрофильных и фотокаталитических покрытий.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Е.А. / Гетерополисоединения. М. Госхимиздат. 1962. 454 с.
  2. М.Т. / Heteropoly and Isopoly Oxometalates. 1983. Springer Verlag. 190 p.
  3. M. Т., Muller A. // Angew. Chem. 1991. V. 103. p. 56.
  4. C. L. // Chem. Rev. 1998. V. 98. p. 1.
  5. Muller A., Todea A. M., J. van Slageren, and all. // Angew. Chem. 2005. V. 117. p. 3925.
  6. Long De-Liang, Tsunashima Ryo // Angew. Chem. Int. Ed. 2010. V. 49. p. 1736.
  7. B.B., Никифоров А. Ф. / Сорбция радионуклидов солями гетерополикислот. М.: Энергоатомиздат. 1982. 112 с.
  8. L. // Comprehensive Coordination Chemistry II. 2004. Vol. 7. p. 1.
  9. J.C. // The Chemistry of the Coordination Compounds. Reinhold Publishing Corporation. 1956. p. 472.
  10. Yan J., Long D.-L. // Angew. Chem. 2009. V. 121. p. 4440.
  11. Long D.-L., Kugerler P., Farrugia L. J., Cronin L. // Angew. Chem. 2003. V. 115. p. 4312.
  12. Long D.-L., Cronin L. // Chem. Eur. J. 2006. V. 12. p. 3698.
  13. G., Murmann R. K. // Inorganic Syntheses. 2007. V. 19. p.140.
  14. Sillen Lars / Stability constants of metal-ion complexes. 1964. London, Chemical Society. 754 p.
  15. I., Fuchs J., Hartl H. // Angew. Chem. Int. Ed. 1998. V. 37. p. 2668.
  16. Muller A., Krickemeyer E., Meyer J., and al. // Angew. Chem. 1995. V. 107. p. 2293.
  17. A., Krickemeyer E., Schimidtmann M. // Angew. Chem. 1998. V. 110. p. 3567.
  18. Long De-Liang, Burkholder Eric, Cronin Leroy // Chem. Soc. Rev. 2007. V. 36. p. 105.
  19. Ю.А., Атовмян JI.O. // Физическая химия. 2006. Т. 20. № 6. с. 95.
  20. Toshio Okuhara, Noritaka Mizuno and Makoto Misono // Applied Catalysis A: General. 200l.V. 222. p. 63.
  21. A., Kozhevnikova E. F., Kozhevnikov I. V. // Catal.Lett. 2008. V. 120. p. 307.
  22. Sartorel A., Carraro M. and all. // J. Am. Chem. Soc. 2008.V. 130. p. 5006.
  23. V., Moghadam M., Tangestaninejad S. // Catal. Commun. 2008. V. 9. p. 2171.
  24. Niu J.Y., You X.Z., Duan C.Y. // Inorg.Chem. 1996. V. 35. p. 4211.
  25. J., Wang E.B. // J. Chem. Soc. Dalton Trans. 1998. p. 3865
  26. Bi LiHua, Wang EnBo // Inorganica Chimica Acta. 2000. No. 305. p. 163.
  27. N., Yamaguchi K. // Chem. Rec. 2006. V. 6. p. 12.
  28. M., Sartorel A. // Synthesis. 2008. p. 1971.
  29. Ogata A., Yanagie H. and all. // Br. J. Cancer 2008. V. 98. p. 399.
  30. H., Ogata A., Mitsui S. // Biomed. Pharmacother. 2006. V. 60. p. 349.
  31. В.Б. / Химия надмолекулярных соединений. СПб.: Изд. СПбГУ. 1996. 256 с.
  32. А.П., Алесковский В. Б. / Силикагель неорганический катионит. Л.: Изд. ЛТИ им. Ленсовета, 1963, 81 с.
  33. A.W. / Physical Chemistry of Surfaces. New York: Wiley. 1990. 664 p.
  34. W. / Chemistry of the solid-water interface: Processes at the mineral-water and particle-water interface in natural systems. New York: Wiley. 1992. 428 p.
  35. И.К. / Компьютерное моделирование физико-химических процесов в геохимии. Н.: Наука. 1981. 247 с.
  36. С.Е. / Ion Exchange: Theory and Practice. Letchwords: The Royal Society of Chemistry. Turpin Distribution Services Limited. 1994. 420 p.
  37. Ю.А. / Иониты и ионный обмен. Л.: Химия. 1980. 240 с.
  38. С. / Курс коллоидной химии. М.: Химия. 1976. с. 242.
  39. . П. / Физическая химия. Л.: Химия. 1987. 880 с.
  40. A.P. / Encyclopedia of Surface and Colloid Sci. NY.: Marcel Dekker Ink. 2002. P. 440.
  41. Д.A. / Курс Коллоидной химии. 1984. Jl.:. Химия. 247 с.
  42. .Н., Левченко А. П. // Водоподготовка: Учебное пособие. 1996. М.: Издательство МГУ. 680 с.
  43. Tarlani Aliakbar, Abedini Mansour, Nemati Ali // Journal of Colloid and Interface Science. 2006. V. 303. p. 32.
  44. V. V., Zazhigalov V. A., Aleksandrova V. S. // Russian Journal of Applied Chemistry. 2007. V. 80. № 7. p. 1073.
  45. Johnson Bret J. S., Stein Andreas // Inorg. Chem. 2001. V. 40. p. 801.
  46. Blasco Т., Corma A., Martinez A., Martinez-Escolano P. // J. Catal. 1998. V. 177. p. 306.
  47. S. M., Timofeeva M. N., Kozhevnikov I. V. // Physical Chemistry Izvestiya Akademii Nauk SSSR, Seriya Khimicheskaya. 1989. № 4. p. 763.
  48. В., Nadjo L. // J. Electroanal. Chem. 1985. V. 191. p. 441.
  49. Izumi Y., Hasebe R, and Urabe K. // J. Catal. 1983. V. 84. p. 402.
  50. Edne’ia Caliman, Jose' A. Dias // Catalysis Today. 2005. V.107−108. p. 816.
  51. Liu Shaoqin, Volkmer Dirk // Journal of Cluster Science. 2003. Vol. 14. № 3. p. 2250.
  52. Yonghui Wang, Xinlong Wang // Journal of Colloid and Interface Science. 2002. V. 249. p. 307.
  53. С.И., Алесковский В. Б. // Журнал прикладной химии. 1969. Т. 42. С. 1950.
  54. С.И. // Журнал прикладной химии. 1969. Т. 42. С. 1023.
  55. С.И. // Журнал прикладной химии. 1970. Т. 43. С. 1956.
  56. В.Б. // Журнал прикладной химии. 1974. Т. 47. С. 2145.
  57. Т. // Mater. Sci. Rep. 1989. V. 4. P. 261.
  58. В.П. // Успехи химии. 2006. Т. 75. Вып. 2. с. 183.
  59. В.П. // Журнал общей химии. 2009. Т. 79, С. 1952.
  60. С.И., Алесковский В. Б. и др. // Практикум по химии твердых веществ. Л. 1985. 280 с.
  61. А.А. // Журнал прикладной химии. 1996. Т. 69. С. 1585.
  62. А.А. // Журнал общей химии. 2002. Т. 72. С. 617.
  63. Leskela М., Niinisto L., Atomic layer Epitaxy / Ed. by Suntola T. and Simpson M. London: Blackie and Son. 1990. P. 4.
  64. Т., Hyvarinen S. //Annu. Rev. Mater. Sci. 1985. V. 15. P.177.
  65. Ritala M., Leskela M. Handbook of Thin Films materials / Ed. by Nalwa H.S. San Diego: Academic Press. 2002. V.l. 103 p.
  66. A.A. // Compos. Interfaces. 1998. V. 5. P. 561.
  67. A.A. // Российские нанотехнологии. 2007. Т. 2. С. 87.
  68. Пак В.Н., Вентов Н. Г., Кольцов С. И. // Теоретическая и Экспериментальная Химия. 1974. Т. 10. С. 711.
  69. V.V., Kasperskii V.A., Gulyanitskaya N.E. // React. Kinet. Catal. Lett. 1993. V. 50. P. 415.
  70. B.M. // Кинетика и Катализ. 1993. Т. 34. С. 463.
  71. С.И., Волкова А. Н., Алесковский В. Б. // Журнал Прикладной Химии. 1969. Т. 42. С. 1028.
  72. С.И., Дрозд В. Е., Редрова Т. А., Алесковский В. Б. // Доклады АН СССР. 1977. Т. 235. С. 1090.
  73. В.Б., Дрозд В. Е., Киселев В. Ф., Кольцов С. И., Кольцов И. С., Петров А. С., Плотников Г. С. // Физика и Техника Полупроводников. 1979. Т. 13. С. 1397.
  74. В.А., Окатов М. А. // Оптико-Механическая Промышленность. 1983. Т. 50. С. 38.
  75. М.Н., Пак В.Н., Малыгин А. А., Кольцов С. И. // Неорганические материалы. 1984. Т. 20. С. 144.
  76. Л.И., Малков А. А., Малыгин А. А. // Журнал Прикладной Химии. 1986. Т. 59. С. 1224.
  77. A.A., Волкова А. Н., Кольцов С. И., Алесковский В. Б. // Журнал Общей Химии. 1972. Т. 43. С. 1436.
  78. Hanke W., Bienert R, Jerschkewitz H.-G. // Z. Anorg. Allg. Chem. 1975. V. 414. P. 109.
  79. Hanke W., Heise K., Jerschkewitz H.-G., Lischke G., Ohlmann G., Parlitz B. // Z. Anorg. Allg. Chem. 1978. V. 438. P. 176.
  80. V.B., Drozd V.E. // Acta Polytech. Scand. 1990. V. 195. P. 155.
  81. Choi S. W, Jang C. M, Kim D. Y, Ha J. S, Park H. S, Koh W, Lee C. S. // J. Korean Phys. Soc. 2003. V. 42, P. 975.
  82. Yun S. J, Lim J. W, Lee J.-H. // Electrochem. Solid-State Lett. 2004. V. 7. P. 13.
  83. J.W. Lim and Yun S.J. // Electrochem. Solid-State Lett. 2004. V. 7. F45.
  84. Lujala V, Skarp J, Tammenmaa M, Suntola T. // Appl. Surf. Sei. 1994. V. 82/83. P. 34.
  85. Sang B, Konagai M. // Jpn. J. Appl. Phys. Part 2. 1996. V. 35. L602.
  86. Saito K, Watanabe Y, Takahashi K, Matsuzawa T, Sang B, Konagai M. // Sol. Energy Mater. Sol. Cells. 1997. V. 49. P. 187.
  87. Yamada A, Sang В, Konagai M. // Appl. Surf. Sei. 1997. V. 112. P. 216.
  88. Sang B, Yamada A, Konagai M. // Sol. Energy Mater. Sol. Cells. 1997. V. 49. P. 19.
  89. Sang В, Yamada A, Konagai M. // Jpn. J. Appl. Phys. Part 2. 1998. V. 37. L1125.
  90. Sang B, Dairiki K, Yamada A, Konagai M. // Jpn. J. Appl. Phys. Part 1. 1999. V. 38. P. 4983.
  91. Chaisitsak S, Sugiyama T, Yamada A, Konagai M. // Jpn. J. Appl. Phys. Part 1. 1999. V. 38. P. 4989.
  92. Yamada A, Konagai M. // Solid State Phenom. 1999. V. 67/68. P. 237.
  93. Ott A. W, Chang R.P.H. // Mater. Chem. Phys. 1999. V. 58. P. 132.
  94. Shimizu A, Chaisitsak S, Sugiyama T, Yamada A, Konagai M. // Thin Solid Films. 2000. V. 361/362. P. 193.
  95. E.B., Fouache J., Lincot D. // Appl. Surf. Sei. 2000. V. 153. P. 223.
  96. J., Aidla A., Jaek A., Leskela M., Niinisto L. // Appl. Surf. Sei. 1994. V. 75. P. 33.
  97. Tammenmaa M., Antson H., Asplund M., Hiltunen L., Leskela M., Niinisto L., E. Ristolainen // J. Cryst. Growth. 1987. V. 84. P. 151.
  98. L., Meester B., Goossens A., Schoonman J. // J. Phys. 2001. V. 11. P. 1103.
  99. Puurunen R.L., Root A., Haukka S., Iiskola E.I., Lindblad M, Krause A.O.I. // J. Phys. Chem. B. 2000. V. 104. P. 6599.
  100. Puurunen R.L., Lindblad M., Root A., Krause A.O.I. // Phys. Chem. Chem. Phys. 2001. V. 3.P. 1093.
  101. Jokinen J., Haussalo P., KeinonenJ., Ritala M., Riihela D., Leskela M. // Thin Solid Films. 1996. V. 289. P. 159.
  102. T.M., Rogers J.W., Michalske T.A. // Chem.Mater. 1991. V. 3. P. 641.
  103. M.E., Michalske T.A., Rogers J .W., Paine R.T. // Chem. Mater. 1993. V. 5. P. 1424.
  104. Liu H., Bertolet D. C, Rogers J.W. // Surf. Sei. 1995. V. 340. P. 88.
  105. K., Ozeki M., Sakuma Y., Mochizuki K., Ohtsuka N. // J. Cryst. Growth. 1990. V. 99. P. 535.
  106. N., Kobayashi Y. // Thin Solid Films. 1993. V. 225. P. 32.
  107. R. // J. Cryst. Growth. 1991. V. 113. P. 491.
  108. M., Narahara S., Kobayashi T., Hasegawa F. // Appl. Surf. Sei. 1994. V. 82/83. P. 228.
  109. Bedair S.M., Tischler M.A., Katsuyama T., El-Masry N.A. // Appl. Phys. Lett. 1985. V. 47. P. 51.
  110. M., Mochizuki K., Ohtsuka N., Kodama K. // J. Vac. Sei. Technol. B. 1987. V. 5. P. 1184.
  111. V. // VII International nanotechnology conference. 2004. Visbaden.: P.64.
  112. И. // Актуальные инновационные исследования: наука и практика. 2010. № 2. с. 12.
  113. Р. / Химия кремнезема. M.: Мир. 1982. С. 1029.
  114. Y.F Nicolau // Appl. Surf. Sei. 1985. V. 22/23. P. 1061.
  115. Пат. 2 569 427 Франция- Chem. Abstr, 105, 33 405а (1986)
  116. Толстой В. П, Богданова Л. П, Митикова Г. В. / A.c. 1 386 600 СССР, приор, от 06.01.1986, Бюлл. Изобр. 1988. 3. С. 114.
  117. H., Lokhande С. // Bull. Mater. Sei. 2004. Vol. 27. No. 2. p. 85.
  118. Nicolau Y. F, Dupuy M, Brunei M. // J. Electrochem. Soc. 1990. V. 137. P. 2915.
  119. Клечковская B. B, Маслов B. H, Мурадов М. Б, Семилетов C.A. // Кристаллогр. 1989. T. 34. С. 182.
  120. Lindroos S, Kanniainen T, Leskela M. // J. Mater. Chem. 1996. V. 6. P. 1497.
  121. Lindroos S, Kanniainen T, Leskela M. // Mater. Res. Bull, 1997. V. 32. P. 1631.
  122. Pathan H. M, Salunkhe P. V, Sankapal B. R, Lokhande C.D. // Mater. Chem. andPhys. 2001. V. 72. P. 105.
  123. Lindroos S, Arnold A, Leskela M. // Appl. Surf. Sei. 2000. V. 158. P. 75.
  124. S.D., Lokhande C.D. // Mater. Chem. and Phys. 2000. V. 65. P. 63.
  125. Л.Б. Синтез методом ионного наслаивания на поверхности кремнезема нанослоев сульфидов металлов I-VI групп. / Дисс. к.х.н. СПб.: СПбГУ. 1999.
  126. Маслов В. Н, Мурадов М. Б, Жукова Л. А, Овчаренко В. М, Мончар Г. А, Мончар И. А. Процессы роста полупроводниковых кристаллов и пленок. / Под ред. Кузнецова Ф. А. Новосибирск: Наука. 1988. 89 с.
  127. Kanniainen T, Lindroos S, Resch R, Leskela M, Friedbacher G, Grasserbauer M. // Mater. Res. Bull. 2000. V. 35. P. 1045.
  128. Kanniainen T, Lindroos S, Ihanus J, Leskela M. // J. Mater. Chem. 1996. V. 6. P. 983.
  129. H.M., Sankapal B.R., Desai J.D., Lokhande C.D. // Mater. Chem. and Phys. 2002. V. 78.P.11.
  130. Л.Б., Толстой В. П. // Журнал общей химии. 1999. Т. 69. С. 1593.
  131. Л.Б., Толстой В. П. // Журнал прикладной химии. 1999. Т. 72. Вып. 5. С. 727.
  132. B.R., Lokhande C.D. // Mater. Chem. and Phys. 2002. V. 73. P. 151.
  133. В.П. // Тез. докл. 1-ой Международной конференции. «Химия высокоорганизованных веществ и научные основы нанотехнологии». СПб. 1996. 29 с.
  134. Sankapal B.R., Goncalves Е., Ennaoui A., Lux-Steiner M.Ch. // Thin Sol. Films. 2004. V. 451−452. P. 128.
  135. S.D., Lokhande C.D. //Mater. Res. Bull. 2000. V. 35. P. 1345.
  136. Tolstoy V.P., Zhuchkov B. S, Murin I.V. // Sol. St. Ionics. 1997. V. 101−103. P. 165.
  137. V.P., Tolstobrov E.V. // Solid State Ionics. 2002. V. 151. P. 165.
  138. В.П., Молотилкина E.B. // Журнал неорганической химии. 1994. Т. 39. № 3. С. 388.
  139. V.P. // Thin Solid Films. 1997. V. 307. P. 10.
  140. Huiyuan Ma, Jun Peng, Chen Yanhui // Journal of Solid State Chemistry. 2004. V. 177.p.3333.
  141. Fay Nigel, Dempsey Eithne // Journal of Electroanalytical Chemistry. 2005. V. 574. p. 359.
  142. Bi Li-Hua, Foster Kevin // Journal of Electroanalytical Chemistry. 2007. V. 605. p. 24.
  143. L. В., Tolstobrov E. V., Tolstoi V. P. // Russian Journal of General Chemistry. 2010. Vol. 80. No. 6. p. 1149.
  144. Bao Ya-Yan, Bi Li-Hua, Wun Li-Xin // Journal of Solid State Chemistry. 2011. V. 184. 546−556.
  145. Chen Bingdi, Zhang Hui, Du Ning, Li Dongsheng // Materials Research Bulletin. 2009. V. 44. pp. 889−892.
  146. Ficai Anton, Andronescu Ecaterina, Voicu Georgeta // Materials Science and Engineering. 2009. C. 29. pp. 2217−2220.
  147. Yan Dongpeng, Lu Jun, Wei Min // Chem. Commun. 2009. pp. 6358−6360
  148. Park Sangmoon, Zhen Zhao, Park Dong Ho // Materials Letters. 2010. V. 64 pp. 1861−1864.
  149. Darko Samuel A., Maxwell Ebony, Park Sangmoon // Thin Solid Films. 2010. V. 519. pp. 174−177.
  150. Chong Lai-Wan, Chien Huei-Ting, Lee Yuh-Lang // Journal of Power Sources. 2010. V. 195. pp. 5109−5113.
  151. Lee Hyo Joong, Bang Jiwon, Park Juwon, Kim Sungjee // Chem. Mater. 2010. V. 22. pp. 5636−5643.
  152. Chao Gao, Honglie Shen, Lei Sun, Haibin Huang, Linfeng Lu, Hong Cai // Materials Letters. 2010. V. 64. pp. 2177−2179.
  153. Fang Yunnan, Wu Qingzhong, Dickerson Matthew B. // Chem. Mater. 2009. V. 21. pp. 5704−5710.
  154. Kumara R. Saravana, Sathyamoorthy R. // Journal of Alloys and Compounds. 2010. V. 506. pp. 351−355.
  155. Jun Ma, Yongazhong Jia, Yan Jing, Ying Yao, Jinhe Sun // Applied Clay Science. 2010. V. 47. pp. 433−437.
  156. OzgeAltuntasoglu, UgurUnal, Shintarolda // Journal of Solid State Chemistry. 2008. V. 181. pp. 3257−3263.
  157. L. B., Tolstoi V. P., Tolstobrov E. V. // Russian Journal of General Chemistry. 2008. Vol. 78. No. 6. pp. 1133−1134.
  158. K., Isobe T. // Applied Catalysis: General. 2011. №. 399. pp. 2227
  159. L. B., Tolstoi V. P. // Russian Journal of Applied Chemistry. 2008. Vol. 81. No. 6. pp. 1068−1070.
  160. G. // Science. 1997. V. 277. p. 1232.
  161. Lvov Y, Decher G, Mohwald H. // Langmuir. 1993. V. 9. p. 481.
  162. Jiang C, Tsukruk V. // Adv. Mater. 2006. V. 18. pp. 829−840.
  163. Zhang L, Shen Y. H, Xie A. J., Li S. K. // J. Mater. Chem. 2008. V. 18. pp. 1196−1203.
  164. Cheng Long, Cox. James A. // Electrochemistry Communications. 2001. V. 3. pp. 285−189.
  165. Li Siheng, Enbo Wang // Materials Research Bulletin. 2008. V. 43. pp. 28 802 886.
  166. Wang L, Li J. // Materials Letters. 2004. V. 58. pp. 2027- 2031.
  167. Wang Bin, Vyas Ritesh N. // Langmuir. 2007. V. 23. pp. 11 120−11 126.
  168. Lei Gao, Wang Enbo // J. Phys. Chem. B 2005. V. 109. pp. 16 587−16 592.
  169. Wanga Yonghui, Hu Changwen // Thin Solid Films. 2005. V. 476. № 1. pp. 8491.
  170. Gao Shuiying, Cao Rong // Journal of Colloid and Interface Science. 2008 V. 324. pp. 156−166.
  171. Liu Shaoqin, Kurth Dirk G. // J. Am. Chem. Soc. 2002. V. 124. No. 41. p. 9
  172. Gao Shuiying, Li Xing // Journal of Solid State Chemistry. 2006. V. 179. pp. 1407−1414.
  173. Maa Huiyuan, Penga Jun, Zhou Baibin // Applied Surface Science. 2004. V. 233. pp. 14−19.
  174. Lan Yang, Wang Enbo // Journal of Colloid and Interface Science. 2007. V. 316. pp. 893−896.
  175. Xua L, Zhang J.S. // Materials Letters. 2004. V. 58. pp. 3441- 3446.
  176. Wang L, Jiang M. // Journal of Solid State Chemistry. 2003. V. 176. pp. 13−17.
  177. Wang Li, Xiao Dongrong // Journal of Colloid and Interface Science. 2005. V. 285.pp. 435−442.
  178. Shan Yuping, Yang Guocheng // Electrochimica Acta. 2007. V. 53. pp. 569 574.
  179. Ding Bin, Gong Jian, Kim Jinho, Shiratori Seimei // Nanotechnology. 2005. V. 16. pp. 785−790.
  180. Jiang Kai, Zhang Hongxia // Langmuir. 2008. V. 24. pp. 3584−3589
  181. Xua Lin, Zhang Hongyu // Materials Chemistry and Physics. 2002. V. 77. pp. 484−48
  182. Wang Bin, Vyas Ritesh N. // Langmuir. 2007. V. 23. pp. 11 120−11 126
  183. Ding Bin, Li Chunrong, Fujita Shiro // Colloids and Surfaces A: Physicochem. Eng. Aspects. 2006. pp. 257−262.
  184. Gao Shuiying, Yuan Daqiang, Lu Jian // Journal of Colloid and Interface Science. 2010. V. 341. pp. 320−325.
  185. Zhang Wenjing, Zhang Aijuan, Guan Ying // J. Mater. Chem. 201 l.V. 21. pp. 548−555.
  186. Logar Manca, Jancar Bostjan, Sturm Saso // Langmuir. 2010. V. 26(14). pp. 12 215−12 224.
  187. Yuana Weiyong, Fua Jinhong, Sua Kai, Ji Jian // Colloids and Surfaces B: Biointerfaces. 2010. V. 76. pp. 549−555.
  188. Kovalenko Maksym V, Bodnarchuk Maryna I. // J. Am. Chem. Soc. 9. 2010. V. 132. № 29.
  189. Feng Qing-Ping, Yang Jiao-Ping, Fu Shao-Yun // CARBON 2010. V. 48. pp. 2057 -2062.
  190. Zykwinska Agata, Radji-Taleb Sadia // Langmuir. 2010. V. 26, № 4, pp. 27 792 784.
  191. Kameyama Tatsuya, Osaki Takaaki // J. Mater. Chem. 2010. V. 20. pp. 53 195 324.
  192. Nakamura Masato, Katagiri Kiyofumi // Journal of Colloid and Interface Science. 2010. V. 341. pp. 64−68.
  193. Xiao Shili, Wu Siqi // Journal of Physics: Conference Series. 2009. V.188.
  194. Zhu Chengzhou, Guo Shaojun //Langmuir. 2010. V. 26(10). pp. 7614−7618
  195. Corneala Lindsay M., Baumanna Melissa J. 11 Journal of Membrane Science. 2011. V. 369. pp. 182−187.
  196. Ashayer Roya, Green Mark, Mannan Samjid H. // J. Nanopart Res. 2010. V. 12. pp. 1489−1494.
  197. Liu Jiwei, Zhang Yu, Yan Changzhi // Langmuir. 2010. V. 26(24). pp. 1 906 619 072.
  198. Qin Chuanjiang, Wu Xiaofu.//.J. Mater. Chem. 2010. V. 20. pp. 7957−7964.
  199. Greenstein Miryam, Ishay Rivka Ben, Maoz Ben M. // Langmuir. 2010. V. 26(10). pp. 7277−7284.
  200. Yen Nee Tan, Jim Yang Lee // J. Phys. Chem. C. 2009. V. 113. pp. 1 088 710 895.
  201. Jie Fu, Gengnan Li, Fengna Xi//Chem. Mater. 2009. V. 21. pp. 4366373.
  202. Wu Ping, Du Ning, Zhang Hui, Jin Lu, Yang Deren // Materials Chemistry and Physics. 2010. V. 124. pp. 908−911.
  203. Yang Guangbin, Yu Laigui, Chen Xinhua // Applied Surface Science. 2009. V. 255. pp. 4097−4101.
  204. Bi Li-Hua, Zhou Wei-Hong, Jiang Jun-Guang // Journal of Electroanalytical Chemistry. 2008. V. 624. pp. 269−274.
  205. Su Yi-Feng, Lee Woo Y. // Surface & Coatings Technology. 2008. V. 202. pp. 3661−3668.
  206. Ott Patrick, Gensel Julia, Roesler Sina // Chem. Mater. 2010. V. 22. pp. 33 233 331.
  207. Yu Cao, Wei He // Biomacromolecules. 2010. V. 11. pp. 1298−1307.
  208. Kharlampieva Eugenia, Kozlovskaya V. // Adv. Mater. 2009. V. 21. pp. 30 533 065.
  209. Tennyson Eleanor G., He Susan, Osti Naresh C. // J. Mater. Chem. 2010. V. 20. pp. 7984−7989.
  210. Chariot Aurelia, Sciannamea Valerie // J. Mater. Chem. 2009. V. 19. pp. 41 174 125.
  211. Kadi Shirin, Cui Di, Bayma Eric, Boudou Thomas // Biomacromolecules. 2009. V. 10. pp. 2875−2884.
  212. Maity Santanu, Bhosale Rajesh, Banerji Natalie, Vauthey Eric // Org. Biomol. Chem. 2010. V. 8. pp. 1052−1057.
  213. Kittitheeranun Paveenuch, Sanchavanakit V, Sajomsang Warayuth // Langmuir. 2010. V. 26 (10). pp. 6869−6873.
  214. Choi Jiyeon, Konno Tomohiro, Takai Madoka, Ishihara Kazuhiko // Biomaterials. 2009. V. 30. pp. 5201−5208.
  215. Uttam Manna, Satish Patil // J. Phys. Chem. B. 2009. V. 113. pp. 9137−9142.
  216. Li Cao, Zhang Jing, Yang Shuo, Li Bo-Lan // Phys. Chem. 2009. V. 11. pp. 8835−8840.
  217. Yin Fun Poon, Ye Cao, Yunxiao Liu, Vincent Chan // Applied material interfaces. 2010. V. 2. N. 7. pp. 2012−2025.
  218. Богданова Л. П, Толстой В. П, Алесковский В. Б. // Защита металлов. 1990. Т. 26. С. 470.
  219. Korotcenkov G, Macsanov V, Tolstoy V., Brinzari V, Schwank J, Faglia G. // Sensors and Actuators В 96. 2003. P. 602.
  220. Sankapal B. R, Lokhande C.D. // Mater. Chem. and Phys. 2002. V. 73. P. 151.
  221. Huiyuan Ma, Jun Peng, Zhangang Han, Yuhua Feng, Enbo Wang. // Thin Solid Films. 2004. V. 446. P. 161.
  222. Min Jiang, Enbo Wang, Gang Wei, Lin Xu, and Zhuang Li. // J. Coll. and Interf. Sei. 2004. V. 275. P. 596.
  223. Kim H. S, Sohn B. H, Lee W, Lee J. K, Choi S. J, Kwon S.J. // Thin Solid Films. 2002. V. 419. P. 173.
  224. Meier-Haack J, Rieser T, Lenk W, Lehmann D, Berwald S, Schwarz S. // Chem. Eng. Technol. 2000. V. 23. P. 114.
  225. Cassagneau T. P, Sweryda-Krawiec B, Fendler J.H. // MRS Bull. Sept. 2000. P. 40.
  226. Пат. 1 713 977 РФ. Толстой В. П., Богданова Л. П. // Бюл. Изобрет. 1992. № 7.
  227. R.K. // J. Coll. and Interf. Sei. 1966. V. 21. С. 569.
  228. N.A., Dekany I., Fendler J. // J. Phys. Chem. 1995. V. 99. C. 13 065.
  229. G., Schienoff J.B. / Multilayer Thin Films. 2003. Wiley-VCH. N-Y.
  230. McKenzie K. J, Marken F., Xin Gao., Tsang S.C., Tarn K.Y. // Electrochem. Comm. 2003. V. 5. P. 286.
  231. Kun R., Balazs M., Dekany I. // Colloids and Surfaces A: Physicochem. Eng. Aspects. 2005. V. 265. P. 155.
  232. S., Cavelius C. // Physica. 2008. V.41. pp. 285−291.
  233. B.H. // Фотокатализ: Вопросы терминологии. Новосибирск: Наука. 1991. С. 7−17.
  234. A., Honda К. // Kogyo Kagaku Zasshi. 1969. N.12. p. 108.
  235. Khan Romana, Kim S.W. // Journal of Nanoscience and Nanotechnology. 2008.V. 8. № 9. pp. 4738−4742.
  236. К. // Энергетические ресурсы сквозь призму фотохимии и катализа: М.: Мир. 1986. 632 с.
  237. Dixit Abhilasha, Mungray A.K. // International Journal of Chemical Engineering and Applications. 2010. Vol. 1, №. 3. pp. 247−250.
  238. К. // J. Soc. Powder Technology. Japan. 2004. V. 41. pp. 750−756.
  239. M.A., Modirshahl N. // A Global NEST Journal. 2008. V. 10. No 1, PP 1−7.
  240. K., Watanabe T. // Environ. Sei. Technol. 2003. V. 37. p. 4785.
  241. Wang R., Hashimoto K. and al. //Nature. 1997. № 388. p.431.
  242. N., Fujishima A. // J. Phys. Chem. B. 2003.V. 107. p. 1028.
  243. Hashimoto Kazuhito, Irie Hiroshi // AAPPS Bulletin. December 2007. Vol. 17. № 6. pp. 12−28.
  244. K., Irie H. // AAPPS Bulletin. 2007. Vol. 17. No. 6. pp. 12−28.
  245. Г. / Руководство по неорганическому синтезу. 1985. М.: Мир. т.З. сс. 937−938.
  246. В.П. // Журнал Неорганической Химии. 1993. № 7. С. 1146−1 148 247. http://www.kemi.kth.se/medusa
  247. Tolstoy V. P, Ehrlich A.G. // Thin Solid Films. 1997. № 1−2. pp, 10−13.
  248. И. E. // автореф. дисс. к.х.н. «Синтез и исследование коллоидно-химических свойств гидрозолей кислородсодержащих соедине-ний церия и лантана». Москва. 2007.
  249. Jianzheng Li, Xuewen Xu, Ying Fan, Yangxian Li, Long Hu, Chengchun Tang // Materials Chemistry and Physics. 2010. V.124. pp. 1172−1176.
  250. Sharma Raj Pal, Bala Ritu // Journal of Molecular Structure. 2006. № 788. pp. 49−54.
  251. Bowmakera G, Pakawatchaib C. // Z. Anorg. Allg. Chem. 2008. pp. 2583−2588
  252. Lukinskas P, Savickaja I. // Journal of Coordination Chemistry. 2008. Vol. 61. № 16. P. 2528.
  253. Казанский JI. H, Голубев A.M. // Химия Mo (VI) и W (VI). Под ред. M.B. Мохосоева. Новосибирск. 1979. С. 66.
  254. Bielanski A, Lubanska A. Polyoxometallates in acid-base catalysis // Journal of Molecular Catalysis A: Chemical. 2004. Vol. 224. P. 179.
  255. Nadeem S., Rauf M. K, Ahmad S, Ebihara M. // Transition Met. Chem. 2009. № 34. p. 197.
  256. К. // ИК и КР спектры неорганических и координационных соединений. М.: Мир. 1991. 505 с.
  257. Лазарев А. Н, Миргородский А. Н, Игнатьев И. С. / Колебательные спектры сложных окислов. Л.: Наука. 1975. 296 с
  258. К. // Inorg. Chim. Acta, 1995. V. 231. p. 237.
  259. Andreescu D, Matijevi’c E, Goia D.V. // Colloids and Surfaces A: Physicochem. Eng. Aspects. 2006. Vol. 291. P. 93.
  260. Баранова В. И, Бибик Е. Е., Кожевникова Н. М. / Практикум по коллоидной химии. 1983. М.: Высшая школа. 215 с.
  261. Music S, Krehula S, Popovic S. // Materials Letters. 2003. V. 57. pp. 10 961 102.
  262. Kazuhiko Kandori, Shinpei Ohnishi, Masao Fukusumi, Yoshiaki Morisada // Colloids and Surfaces A: Physicochem. Eng. Aspects. 2008. № 331. pp. 232−238.
  263. А.И., Харламов И. П., Яковлев П. Я., Яковлева Е. Ф. // Справочник химика-аналитика. 1976. Металлургия. М.
  264. Tom R.T., Nair A.Sr., Singh N., Aslam M., Nagendra C.L., Philip R., Vijayamohanan K., Pradeep T. // Langmuir. 2003. Vol. 19. P. 3439.1.nk St, El-Sayed M.A. // J. Phys. Chem. B. 1999. Vol. 103. № 40. P. 8410.
  265. Казанский Л. Н, Голубев A.M. // в кн. Химия Mo (VI) и W (VI). Под ред. М. В. Мохосоева. Новосибирск. 1979. С. 66.
  266. Nieses Т. Р, Guire M.R.D. // Solid State Ionics. 2002. Vol. 151. P. 61.
  267. Kuhnen Florian, Barmettler Kurt // Journal of Colloid and Interface Science. 2000. V.231.pp. 32−41.
  268. Mortimer Roger J. / Annu. Rev. Mater. Res. 2011. V.41. № 241. p.68
  269. Chien Dang Mau, Viet Nguyen Ngoc//Journal of Experimental Nanoscience. 2009. Vol. 4. No. 3. pp. 221−232
  270. Lin Shu-Hsuan, Wu Yi-Ni//Journal of the Taiwan Institute of Chemical Engineers. 2011. V. 42(5). pp. 852−859.
  271. Ammar Houas, Hinda Lachheb // Applied Catalysis B: Environmental. 2001. V. 31, pp. 145−157.
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!