Струйные ВЧ плазмотроны в процессах нанесения покрытий в условиях динамического вакуума
Диссертация
Показано, что наибольший эффект в процессе подготовки поверхности (очистка, полировка, удаления рельефного и трещиноватого слоя, создание переходного слоя) достигается в ВЧЕ и ВЧК разряде (с диапазонами энергии ионов и ионного тока: Wz = 30 — 100 эВ, ji = 0,3 -15 А/м2). В процессе подготовки подложки к последующему напылению достигается такое состояние и такие характеристики поверхности, которые… Читать ещё >
Список литературы
- Ю. В. Цветков, С. А. Панфилов. Низкотемпературная плазма в процессах восстановления.- М.: Наука, 1980.- 360 с.
- С. В. Дресвин, А. В. Донской, В. М. Гольдфарб, В. С. Клубникин. Физика и техника низкотемпературной плазмы.- М.: Атомиздат, 1972.- 352 с.
- В. В. Кудинов, Г. В. Бобров. Нанесение покрытий напылением. Теория, технология и оборудование. М.: Металлургия, 1992.431 с.
- В. Л. Дзюба, Г. Ю. Даутов, И. Ш. Абдуллин. Электродуговые и высокочастотные плазмотроны в химико-технологических процессах.- Киев: Вигца школа, 1991.- 170 с.
- Донской А. В., Клубникин В. С. Электроплазменные процессы и установки в машиностроении.- Л.: Машиностроение, 1978.221 с.
- Бабат Г. И. Безэлектродные разряды и некоторые связанные с ними вопросы.- Вестник электропромышленности, 1942, № 2, с. 1 12.
- Бабат Г. И. Безэлектродные разряды и некоторые связанные с ними вопросы.- Вестник электропромышленности, 1942, № 3, с. 1 8.
- Babat G. I. Electrodeless discharges and some allied problems.-Journal of the Inatitution of Electrical Engineers', 1947. V. 94. part III A, p. 27 37.
- Dundas P. H., Thorpe M. L. Economics and technology of chemical processing with Electric-field plasmas.- Chemical engineering, 1969, V. 76, № 14, p. 123 128.
- Высокочастотный индукционный плазмотрон с пористым охлаждением разрядной камеры. / А. Н. Бабаевский, А. Б. Гугняк,
- A. JI. Вечер, JI. И. Киселевский, JI. М. Сорокин, д. К. Скутов.-Тезисы докладов VIII Всесоюзн. конф. по генераторам низкотем-пер. плазмы. Новосибирск, 1980, т. 3, с. 115 118.
- Reed Т. В. Induction-Coupled plasma torch J. Appl. Phys., 1961, V. 32, № 5, p. 821 — 824.
- Moroner A., Hushfar F. Radio frequency heating of a dense moving plasma.- A.J.A.A. Electric Propulsion Conference in Colorado Springs. Colorado Springs, 1963, March, p. 11 13.
- Гольдфарб В. M., Дресвин С. В. Оптическое исследование распределения температуры и электронной концентрации в аргоновой плазме.- Теплофиз. выс. температур,. 1965, т. З, вып. З, с. 333 -339.
- Исследование плазменного факела высокочастотной горелки. / С. В. Дресвин, А. В. Донской, В. М. Гольдфарб,
- B. С. Клубникин.- Теплофиз. выс. температур, 1967, т.5, вып.4, с. 549 556. ' '
- Read t. b. Heat-transfer onterisity from induction plasma flames and oxyhydrogen flames.- J. Appl. Phys., 1963, V. 34, № 8, p. 2266 -2269.
- Высокочастотный безэлектродный плазмотрон при атмосферном давлении. / Ф. Б. Вурзель, Н. Н. Долгополов, А. И. Максимов, JL С. Полак, В. И. Фридман.- В кн.: Низкотемпературная плазма. М., 1967, с. 419 431.
- Ровинский Р. Е., Белоусова JI. Е., Груздев В. А. Геометрия безэлектродного разряда, индуцируемого, в инертных газах.- Теплофиз. высок, температур, 1966, т.4, вып. З, с. 328 335.
- Ровинский Р. Е., Груздев В. А., Широкова И. П. Об энергетическом балансе стационарного индуцированного разряда, — Теплофиз. высок, температур, 1966, т.4, вып.1, с.35Е- 39ю
- Molinet M. F. Etude de la repartition de la temperature electronique a l’interieur d’un plasma d’argon produit par un generatuer M.F.C.R.- Aredd. Sci. Ser., B, 1966, V. 262, № 21, p. 1377 1380.
- Jonston P. D. Temperature and electron density measuremenis in an R-f discharge in argon.- Phys. Letters, 1966, V. 20, № 5, p. 499 -500.
- Определение температуры в стационарном высокочастотном индукционном разряде. / Р. Е. Ровинский, В. А. Груздев, Т. М. Гу-тенмахер, А. П. Соболев.- Теплофиз. высок, температур, 1967, т.5, вып.4, с. 557 561.
- Оптические свойства плазмы безэлектродного разряда в воздушном потоке. / Ю. А. Буевич, В. М. Николаев, В. А. Пластинин, Г. Ю. Силачев, М. И. Якушие.- Журнал прикл. мех. и техн. физ., 1968, № 6, с. 111 116.
- Кононов С. В., Якушин М. И. К определению интенсивности удельных тепловых потоков к поверхности в струях высокочастотного безэлектродного плазмотрона на воздухе.- Журнал прикл. мех. и техн. физ., 1966, № 6, с. 67 68.
- Кулагин И. Д., Сорокин JT. М. Определение электрических параметров индукционного разряда в газе при атмосферном давлении. Физ. и хим. обр. матер., 1969, № 5, с. 3 12.
- Кулагин И. Д., Рыкалин Н. Н., Сорокин JI. М. Подобие индукционных разрядов при нагреве газа, — Физ. и хим. обр. матер., 1970, № 5, с. 137 139.
- Кулагин И. Д., Сорокин Л. М. Экспериментальное исследование индукционного плазмотрона. Физ. и хим. обр. матер., 1979, № 1, с. 3−8.
- Индукционио-плазменный нагрев газа и перспективы его. промышленного применения. / Н. Н. Рыкалин, И. Д. Кулагин,
- Л. М. Сорокин, А. Б: Гугняк.- В сб.: Плазменные процессы в металлургии и технологии неорганических материалов. М., 1973, с. 14−20. ¦
- И. Д. Кулагин, Л. М. Сорокин, В. В. Шевченко. Электромагнитные поля в реальном ненагруженном индукторе. Физ. и хим. обр. матер., 1976, № 1, с. 41 47.
- И. Д. Кулагин, Л. М. Сорокин, В. В. Шевченко. Об индукционном нагреве проводящих цилиндров, — Физ. и хим. обр. матер., 1976, № 2 с. 143 47.
- Физ. и хим. обр. матер., 1980, № 4, с. 32 34.
- Reboux J. Chalumean a plasma hayte frequence ¦ et hautas temperatures.- Ingenieurs et tehnicens, 1962, № 157, p. 115 125.
- Reed Т. В. Growth of refractory crystals asing the induction plasma torch.- J. Appl. Phys., 1961, v. 32, № 12, p. 2534 2535.
- Некоторые особенности процессов выращивания тугоплавких кристаллов в высокочастотных плазменных горелках. / А. В. Донской, С. В. Дресвин, К. К. Воронин, Ф. К. Волынцев.-Теплофиз. высок, температур, 1965, т. З, вып.4, с. 627 631.
- Рыкалин Н. Н. Плазменные процессы в металлургии и обработке материалов.- Физ. и хим. обр. матер., 1967, № 2, с. 3 17. ¦
- Плазменные процессы в получении сферических порошков тугоплавких материалов. / А. Б. Гугняк, Е. Б. Королева, И. Д. Кулагин, В. И. Михалев, В. А. Петрунчев, JI. М. Сорокин.- Физ. и хим. обр. матер., 1967, № 4, с. 40 45.
- Лакомский В. И., Мельник Г. А. Сфероидизация в высокочастотном плазменном разряде порошка окиси алюминия.- Порошковая металлургия, 1966, № 2, с. 6 9.
- Краснов А. П., Зильберберг В. Г., Шарифкер С. Ю. Низкотемпературная плазма в металлургии.- М.: Металлургия, 1970.216 е., ил.
- Марин К. Г., Любимов В. К. Применение низкотемпературной плазмы в микроэлектронике.- Физ. и хим. обр. матер., 1978, № 2, с. 64 69.
- Плазменный процесс в получении. моноокиси кремния. / И. Д. Кулагин, В. К. Любимов, К. Г. Марин, Б. А. Сахаров, Л. М. Сорокин.- Физ. и хим. обр. матер., 1967, № 2, с. 36 41.
- Вурзель Ф. Б., Полак Л. С. Химические процессы в плазме и плазменной струе.- В сб.: Кинетика и термодинамика химических реакций в низкотемпературной плазме. М., 1995, с. 100 -117.
- Получение пигментной двуокиси титана индукционно-атомар-ным способом. / Н. Н. Рыкалин, С. В. Огурцов, И. Д. Кулагин, И. В. Антипов, Л. М. Сорокин, Я. М. Липкес, С. Н. Дмитриев,
- Г U PnvAneui’r, Т П rV-TTTT/p, А К Глм-т-г- ТТ Г Тпрт, m.-^n
- А Л. Wtvv^jy^iiiw. -L.. Ж Ж • >—- J ill I iiU j «A... JL. j i il/liVj A * 4 • J. jy t 1 iJ/iJVUL' I
- Б. В. Драчев.- Физ. и хим. обр. матер., 1975. № 1. с. 154 157.
- Рыкалин Ii. Н. Термическая плазма в металлургии и технологии Труды ВЭЛК, 1977, секция 0, доклад № 6, с. 71.
- Баширов Ю. А., Медведев С. А. Использование высокочастотного безэлектродного разряда для синтеза интермметаллических соединений на основе ниобия и ванадия.- В сб.: Генераторы ни-зеотемпературной плазмы.- М., 1969, с. 501 507.
- Коломыцев П. Т. Жаростойкие диффузионные покрытия,— М.: Металлургия, 1979.- 272 с.
- Кудинов В. В. Плазменные покрытия.- М.: Наука, 1977.- 184 с.
- Никитин М. Д., Кулик А. Я., Захаров Н. И. Теплозащитные и износостойкие покрытия деталей дизелей.- Л.: Машиностроение, 1977, — 168 с. '
- Получение покрытий высокотемпературным распылением. / Сб. статей // Под ред. Л. К. Дружинина и В. В. Кудинова.- М.: Атомиздат, 1973.- 312 с.
- Усов Л. Н., Борисенко А. И. Применение плазмы для получения высокотемпературных покрытий.- М.-Л.: Наука, 1965.- 88 с.
- Получение пленок двуокиси кремния плазменным методом. / В. Ф. Сыноров, Э. В. Гончаров, В. М. Гольдфарб, А. В. Крячко.-Электронная техника. Сер. материалы, 1967, вып. З, с. 41 47.
- Неса М., Cakenberghe J. Van. Soures a plasma pour la preparation de couches minces de silice.— Thin Solid Films, 1972, v. 11, № 2, p. 283 288.
- Донской А. В., Дресвин С. В., Клубникин В. С. Применение низкотемпературной плазмы в электротермических процессах.- В сб.: Генераторы плазменных струй pi сильнотечные дуги. Л., 1973, с. 39 43.
- Буевич Ю. А., Якушин М. И. Некоторые особенности термического разрушения разлагающихся материалов.- Журнал прикл. мех. и техн. физ., 1968,' № 1, с. 56 65.
- Буевич Ю. А., Егоров О. К., Якушин М. И. О механизме разрушения полупрозрачных полимеров лучистым тепловым потоком.-Журнал приклад, мех. и техн. физ., 1968, № 4, с. 72 79.
- Исследование безэлектродного кольцевого разряда в аргоне и воздухе. / И. Г. Аладьев, И. Г. Кулаков, О. Л. Магдасиев. А. П. Шатилов.- В кн.: Низкотемпературная плазма. М., 1967, с. 411 418.
- Исследование эффективности выделения энергии в плазме без—. т-т —. .—, 1 '1 Т Т, т ' ,-1 т Т Г^ ' Т^ '"Т^Т ТАГ» f «T^t 'I г^ f^ СТ ГТ / 7 А 1 Т ' > 'Л О
- J.'lCiMJJU^nUl и wivwnci^ -L и 1 llWi W |7CL JJ/1/Л.С1.. „). i Ч1Д|у1л.ц.
- M. П. Вашоков, А. А. Егорова, Б. M. Соколов.- Ж. техн. физ., 1967, т.37, вып.7, с. 1252 1257.
- Дымшиц Б. М., Корецкий Я. П. Исследование контрагированного индукционного разряда.- В кн.: Низкотемпературная плазма. М., 1967, с. 425 431. • •
- Плазменная технология в производстве СБИС. / Под ред. Н. А. Айнспрука и Д. Брауна, — М.: Мир, 1987, — 469 е., ил.
- Данилин Б. С., Киреев В. Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов.- М.: Энергоиздат, 1987.- 264 е., ил.
- Morgan G.D. Hogh frequency discharges ib gases.- Science Progress. 1953, v. 41, № 161, p. 22 41.
- Cabannes F. Descharges dans les gaz In. Etude de la decharge electrique par induction saus electrodes dans le neon. Paris, 1954, v. 238, № 20, p. 1979 — 1981.
- Cabannes F. Etude de la decharge electrique par induction dans les gas rares.- Annales de Physique. 1955, v. 10, november december, p. 1026 — 1078.
- Pulsation d’une decharge H.F. par filament de zirconium. / I. Desiongnieres, R. Geller, F. Prevot, et R. Vienet.- I. de Physique. 1956, v. 17, № 2, p. 166 167.
- Бамберг E. А., Дресвин С. В. Определение некоторых параметров высокочастотного кольцевого разряда.- Ж. техн. физ., 1963, т.33, вып.1, с. 65 72.
- Савичев В. В., Трехов Е. С., Фоменко А. Ф. Измерение параметров плазмы импульсного вихревого разряда зондовыми методами.- В сб.: Физика газоразрядной плазмы. М., 1968, вып.1, с. 27 38. .
- Eidmann i. Gasaufhezung und energiebilanz einer stationuzen hochfrequenten Aingentladung in Edelgasen.- Beitrage aus cler Plasmaphysik. 1971, Bd. 11, № 2, s. 99 119.
- Энергетические характеристики высокочастотной плазменной установки при низких давлениях. / И. X. Исрафилов, А. А. Са-мигуллин, С. Н. Шарифуллин, В. Д. Щербаков, Р. И. Яхин Физ. и хим. обраб. матер., 1976, с. 26 — 32.
- Czerbniak 1., Maiecki Н., Pawlowski В. Analisa poborn MOCY PAZeZ plasme w zrodle jonow wysokies czestotliwasci.- Nuklionika, 1977, v. 22, № 4, p. 317 327.
- Микроволновое излучение плазмы безэлектродного индукционного разряда при низких давлениях. / Л. А. Душин, В. И. Коно-ненко, И. К. Никольский, О. С. Павличенко, — В кн.: Высокочастотные свойства плазмы. Киев, 1968, с. 11 20.
- Lenz В., Walther R. I. Electron temperatures in low-pressure R.F.-discharge.- Proc. 13-th Inern. Conf. Phenomena ionisated Gas, Berlin, 1977, p. 337 338.
- Фокусировка и канализация нижних гибридных волн и плазмы при ВЧ пробое газа. / Г. А. Марков, В. А. Миронов, В. Г. Савин, А. М. Сергеев.- Физика плазмы, 1980, т.6, вып. З, с. 670 675.
- Schlz P. D., Anderson Т. P. Local thermodynamic equilibium in an R.F. argon plasma-I. Quant. Spectrosc. Ratiot. Transfer, 1968, v. 8, № 7, p. 1411 1418.
- Кононенко В. И. Исследование параметров и микроволнового излучения плазмы безэлектродного индукционного разряда: Авто-реф. дисс.. .канд. физ.-мат. наук,-Харьков, 1970.- 23 с.
- Годяк В. А., Попов О. А. О зондовой диагностике ВЧ плазмы.-Ж. техн. физ., 1977, т.47, вып.4, с. 776 770.
- Распределение электронов по энергиям и контрагрование в высокочастотном разряде. / С. Д. Вагнер, В. А. Виролайнен, Ю. М. Коган, Г. Ю. Хрусталев.- В кн.: Вопросы физики, низкотемпературной плазмы. Минск, 1970, с. 182 184.
- Кононенко К. В. Детекторные свойства газоразрядной плазмы.-М.: Атомиздат, 1980 128 с.
- Geller R. Production de plasmordes des de haut frequence stabflis a la frequencew stablis a la frequen de resonance du plasma.- Compt.es. Rendus hebdomadaries des Sciences de l’Acudemie des sciences. 1959. v. 249, № 1, p. 2749 2751.
- Лари Э., Полк Д. Безэлектродный зонд для определения проводимости высокотемпературной плазмы В кн.: Низкотемпературная плазма.- М., 1967, с. 314 — 325.
- Cabannes F. Etude de l’amorcage de la decharge electrique dans le neon et xenon.- Comptes Rendis. Hebdomadaires des sciences de l’Academie des Sciences, 1954, v. 238, № 14, 1482 p:
- Birkhoff G. Messung der elektrischen Vorgange innerhalb einer Ilochfregnenz Ringentladung.- Zeitschrift fur ungewandte Physik, 1958, Bd. 10, № 5, s. 204 — 206.
- Dippel K., Tackenbarg W. Magnetic field probes with high frequency responce.- Proceedings Amsterdam, 1960, v. 1, p. 533 536.
- Freisinger' I, Lens В., Walther R. I. The skin-effect in an R.F.-discharge plasma with and without an external magnetic field.- Proc. 13 Intern. Conf. Phenomena Ionized gases, Berlin, 1977, p. 339 340.
- Измерение параметров плазмы высокочастотного импульсного разряда в N2 и С02. / В. А. Преображенский, Е. С. Трехов, В. В. Савичев, А. Н. Фоменко.- В сб.: Физика газоразрядной плазмы. М., 1969, вып. 2, с. 139 147.
- Harrison I. A. and Craggs I. D. Exitation in a low electrodeless discharge.- Journal of Electron and Control, 1958, v. 4, № 4, p. 289 -300.
- Gherbonowscki N., Iancu O. Ring discharge.-. Analele Universitatu Bucuresti, Fizika, 1979, v. XXVIII, p. 3 9.
- Жестков Б. E. Некоторые вопросы диагностики гиперзвуковых свободномолекулярных потоков.- Труды ЦАГИ, 1977, вып.1853, с. 32 41.
- Исследование ионизации и нагрева газа в высокочастотном индукционном разряде. / Б. Е. Жестков, Б. Г. Ефимов, 3. Т. Орлова, А. М. Омелин, В'. И. Ершов, — Труды ЦАГИ, 1970, вып.1232, 15 с.
- Энергетические характеристики высокочастотной плазменной установки при низких давлениях. / И. X. Исрафилов, А. А. Сами-гуллин, С. Н. Шарифуллин, В. Д. Щербаков, Р. И. Яхин, — Труды КАИ: Физические науки, вып.193, 1975, с. 32 38.
- Браун С. Элементарные процессы в плазме газового разряда.-М.: Атомиздат, 1961.- 323 с.
- Моделирование и методы расчета физикохимических процессов в низкотемпературной, плазме. / отв. ред. JI. С. Полак, — М.: Наку, 1974, — 271 с.
- Brasified Charles I. High frequency discharges in mercure, helium and neon. / Physical Rewiew, 1931, v. 37, Jom, p. 82.
- Левитский С. M. Исследование потенциала зажигания высокочастотного разряда в газе в переходной области частот и давлений. // Журн. техн. физ.- 1957.- Т.27, вып. 5, — С. 970−977.
- Разумовская Л. П., Бочкова О. П. Оптические и электрические свойства ВЧ „слабого"'и „сильного“ разрядов в неоне. // Оптика и спектроскопия, 1960. Т.9. Вып.2. С. 271 273.
- Яценко Н. А. Сильноточный ВЧЕ разряд среднего давления. // ЖТФ, 1980. Т.50. Вып.11. С. 2480 -'2482. ¦
- Яценко Н. А. Связь постоянного потенциала плазмы с режимом горения высокочастотного емкостного разряда среднего давления. // Журн. техн. физ 1981.- Т. 51, вып. 6, — С, 1195−1204.
- Мышенков В. И., Яценко Н. А. Влияние межэлектродного расстояния на максимальный поперечный размер пространственно-однородного плазменного стоба. // ЖТФ, 1981. Т.51. N°. 10, с. 1195 1204.
- Яценко Н. А. Эффект нормальной плотности тока в емкостном ВЧ-разряде среднего давления. // ЖТФ, 1982. Т.51, № 10, с. 2055 2060.
- Ганна А. X. Исследование ВЧ разрядов в диффузионной области давления, а и 7 разряды: Автореф. дисс.- М., 197.9.- 14 с.
- Кузовников А. А., Савинов В. П. Пространственное распределение параметров стационарного ВЧ разряда. // Вестник МГУ. Сер.: Физика, астрономия, 1973, № 2. С. 215 233.
- Кузовников А. А., Ковалевский В. Л., Савинов В. П. Исследование зависимости собственных постоянных электрических полей ВЧ-разряда от его параметров. // Вестник. ЛГУ, Сер.: Физика. Астрономия, 1983, т.24, вып.4, с. 28 32.
- Popow О. A., Jodyak V. A. Power diss: pated in low-pressure radio-frequency discharge plasmas. / J. Appl. Phys., vol. 57, № 1, 1985, p. 53 58.
- Левитский С. M. Потенциал пространства и распыление электродов в высокочастотном разряде. // Жури. техн. физ.- 1957.-Т.27, вып. 5.- С. 1001−1009.
- Джерпетов X. А., Патеюк Г. М. Исследование высокочастотного разряда методом зондов. // ЖЭТФ, 1955, т.28, вып. З, с. 343 -351.
- Застенкер Г. Н., Солнцев Г. С., Швилкин Б. Н. Процессы в высокочастотном разряде низкого давления низкого давления при изменении напряжения на электродах. // Радиотехника и электроника, 1960. № 10, с. 1709 1716.
- Застенкер Г. Н., Солнцев Г. С., Швилкин Б. П. О механизме формирования высокочастотного разряда низкого давления в воздухе. // Радиотехника и электроника, 1961, № 3, с. 387 394.
- Кузовников А. А., Хадир М. А. Экспериментальное исследование поглощения ВЧ-поля плазмой положительного столба. // Радиотехника и электроника, 1973, т.18, вып.4, с. 875 877.
- Грановский В. Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток / Под ред. Л. А. Сена и В. Е. Голанта.- М.: Наука, 1971.- 544 е., ил.
- Мирзаев А. Т., Мириноятов М., Степанов В. А. Молекулярные газовые лазеры с поперечным высокочастотным возбуждением:
- Обзоры по электронной технике. Сер.4: Электровакуумные и газоразрядные приборы М.: ЦНИИ „Электроника“, 1979, вып.6 (669).- 48 с.
- Рыкалин Н. Н., Кулагин И. Д., Сорокин JI. М., Гугняк А. Б. Исследование энергетических параметров высокочастотного емкостного плазмотрона. // Физ. и хим. обраб. матер., 1975. № 4, с. 3 6.
- Рыкалин Н. Н., Кулагин И. Д., Сорокин Л. М., Гугняк А. Б. Высокочастотный плазмотрон с внешними электродами и продольным продувом газа. // ЖТФ, 1976, т.46, № 4, с. 730 736.
- Подгорный И. М. Лекции по диагностике плазмы.- М. Атомиз-дат, 1968.- 219 с.
- Колесниченко Ю. Ф., Матюхин В. Д., Муравьев В. Ф., Смаз-нов С. И. Высокочастотный емкостной разряд при. давлениях порядка атмосферного. // ДАН СССР, 1979, т.246, с. 1091 1094.
- Тихомиров И. А., Тихомиров В. В., Шишковский В. И. О функции распределения электронов по энергиям в высокочастотном электродном разряде при пониженных давлениях. // Известия ВУЗов. Сер.: Физика, 1974, 4. С 34 37.
- Бердичевский М. Г., Марусин В. В. Неравновесность и механизм ионизации азотной плазмы безэлектродного ВЧ-емкостного разряда при средних давлениях. // Изв. (Что. отд. АН СССР. Сер. техн. наук, 1979, № 8, вып.2, с. 72 79.
- Бердичевский М. Г., Марусин В. В. Механизм нагрева азотной плазмы безэлектродного ВЧ-емкостного разряда при средних давлениях. // ТВТ, 1979. Т.17, № 2, с. 246 249.
- Л. С. Полак, А. А. Овсянников, Д. И. Словецкий. Ф. Б. Вурзель. Теоретическая и прикладная плазмохимия. М.: Наука, 1975, 304 с.
- Бердичевский М. Г., Марусин В. В. Определение энергетических характеристик положительного столба ВЧ-емокстного разрядатермопарным методом. // Тез. докл. VII Всесоюз. конф. по физике низкотемператур. плазмы.- Ташкент, 1987. Т.2, с. 218 219.
- Босяков М. Н, Лабуда А. А. Определение вращательной температуры молекул в плазме ВЧ-разрядов низеого давления. // Докл. АН БССР, 1981. 25, вып.9, с. 801 804.
- Буланьков Н. И., Журавлев В. Д., Кротков В. А., Любимов В. К., Марин К. Г. Исследование процесса нанесения диэлектрических пленок в высокочастотном разряде низкого давления.- Электронная техника. Сер. З: Микроэлектроника, вып. З (63), 1976.- с. 54 -58.
- Оке С. Н. Исследование кинетики заряженных частиц в ВЧ разряде низкого давления: Автореф. канд .дисс, — М., 1981.- 17 с.
- Ершов А. П. Исследование кинетики электронов в плазме ВЧ разряда низкого давления в инертных газах: Автореф. канд. дисс.-М., 1982.- 15 с.
- Маркова Т. И., Неустроев С. А., Павлиашвили Т. И., Соколов Е. Б., Стрижков В. В. Структура пленок окиси алюминия, полученных в плазме ВЧ разряда.- Электронная техника. Сер. З, вып. 1 (85), 1980.- с. 112 113.
- Максимов А. И., Светцов В. И. Сравнительное исследовани распыления некоторых металлов в тлеющем и ВЧ разрядах. // Труды Ивановского хим. техн. ин-та, 1973. Вып. З, с. 110 115.
- Светцов В. И. Особенности распыления различных материалов при разряде в химически активных средах: Обзоры по электронной технике. Сер.4: Электровакуумные и газоразрядные приборы.- М.: ЦНИИ „Электроника“, 1983, вып.5 .(979).- 39 с.
- Звягинцев А. В., Митин Р. В., Прядкин К. К. Безэлектродные емкостные разряды дугового типа. // ЖТФ, 1975. Т.45, вып.2, с. 278 285.
- Постников С. А., Сковорода А. А, Швилкин Б. Н. О низкочастотной дрейфовой неустойчивости плазмы высокочастотного разряда в магнитном поле. // ЖТФ, 1975. Т.45, вып. З, с. 508 513.
- Наумовец В. Г., Пасечник JL Д., Ягода В. В. Влияние магнитного поля на высокочастотный разряд. // Физ. плазмы, 1979. Т.5, вып.1, с. 179 183.
- Брагин В. Е., Матюхин В. Д. О пространственной однородности объемного ВЧЕ разряда,.// Труды Моск. физ.-техн. ин-та. Сер.: Общ. и молекулярн. физ., 1979, вып.11.- с. 179 182.
- Вурзель Ф. Б., Назаров В. Ф. Плазмохимическая модификация поверхности стекла.- В сб.: Плазмохимические процессы. М., 1979, с. 172 203.
- Очистка и полировка поверхностей подложек высокочастотной индукционной плазмой низкого давления. / И. С. Гайнутдинов, Г. Ю. Даутов, А. А. Самигуллин, С. Н. Шарифуллин, В. Д. Щербаков.- Физ. и хим. обр. матер., 1977, № 6, с. 150 -152:
- Рыбкин В. В., Максимов А. В., Мельников Б. Н. Влияние плазмы высокочастотного разряда на поверхностные свойства политетрафторэтилена.- Тез. докл. II Всесоюзн. совещания по плазмохимической технологии и аппаратостроению. М., 1977, т.1, с. 171 173.
- Василец В. Н., Тихомиров И. А., Пономарев А. Н. Исследование действия ВЧ-разряда на поверхность полиэтилена, — Тез. докл. II Всесоюзн. совещания по плазмохимии. М., 1979, т.2, с. 261 263.
- Kapicha V. Corona and high frequency discharges. Acta. Phys. Slow. 1979, v.29, № 2, p. 119 122.
- Гущин Д. К. Термодиффузионное насыщение титановых сплавов азотом и кислородом при нагреве высокочастотной низкотемпературной плазмой.- В сб.: Защитные покрытия. Киев, 1967, с. 87−91.
- Очерки физики и химии низкотемпературной плазмы. / Под ред. J1. С. Полака, — М.: Наука, 1977.- 436 с.
- Фсшманис Г. Э. Диэлектрические пленки из проникающей плазмы.- Физ. и хим. обр. матер., 1981, № 4, с. 156 157.
- Дикарев Ю. И., Есин В. И., Сыноров В. Ф. Плазмохимическое травление материалов вне зоны газового разряда, — Тез. докл. III Всесоюзного симпозиума по плазмохимии. М., 1979, т.1, с. 299 -302.. .
- Junhuj J. Plasma etching of silion and its compounds in the freon plasma.- Acta Phys. Slow., 1979, v.29, № 2, p. 155 159.
- Hughes II. G., Hunter W. L., Ritchie k. Residues Romaimng after RF plasma photoresist.romoval.- Journal Electrotechnical Sosietv, 1973, v.1209, № 1, p. 99 101.
- Свойства п применение сверхзвуковых плазменных струй высокочастотного индукционного разряда. / JI. И.' Киселевский, Д. К. Скудов, С. А. Соколов, Я. И. Некрашевич.- Тез. докл. II Всесоюзн. конф. по плазменным ускорителям. Минск, .1973, с. 302 303.
- Жилинский А. П., Кутеев Б. В., Смирнов А. С. Исследование эффекта Холла в плазме индукционного высокочастотного разряда, — Письма в ЖТФ, 1977, т.З, № 6, с! 258 261.
- Тринг М. В. Плазменная технология.- В кн.: Низкотемпературная плазма. М., 1967, с. 531 545.
- Гусев В. В., Долгополов В. М., Словецкий Д. И., Шелыханов Е. В. Особенности спектра плазмы ВЧ-разряда при травлении алюминия. // ТВТ, 1983. № 1. Т.21.- с. 22 29.
- Tokunada К., Hess D. W. Aluminium Etching in Carbon Tetrachloride Plasmas. / J. Electrochem. Soc., v.127, № 4, 1980, p. 928 932.
- Schwartz J. C., Schaibe P. M. Reactive ion Etching. in Chlorinated Plasmas. / Solid State Technology, v.23, № 11, 1980, p. 85 91.
- Schwartz J. C., Schaibe P. M. Reactive ion Etching in Silicon. / J. Vac. Sci. Technol., v.16, N°. 2, 1979, mar/apr., p. 410 413.
- Parry P. D., Rodde J. F. Anisotropic plasma etching of semiconductor materials. / SSST, v.22, № 4, 1979, p. 125 132.
- Физико-химические методы обработки поверхности полупроводников. / Луфт Б. Д., Перевощиков В. А., Возмилова Л. И, Свердлин И. А., Марин К. Г.- под ред. Б. Д. Луфт М.: Радио и связь, 1982.- 136 е., ил.
- Морозов А. В., Галанихин А. В. Электрический пробой пленок двуокиси кремния, осажденных в плазме емкостного ВЧ-разряда.- Электронная техника. Cep.'l, вып.1 (337), 1982.- с. 59 -61.
- Но Mahan J. R. Deposition of plasma silicon Oxide Thin Films. / J. Electrochem Science and Technology, v. 126, № 6, 1979, p. 930 -934.
- Буланьков H. И., Журавлев В. Д., Кротков В. А., Любимов В. К., Марин К. Г. Исследование процесса нанесения диэлектрических пленок в высокочастотном разряде низкого давления.- Электронная техника. Сер. З: Микроэлектроника, вып. З (63), 1976.- с. 54 -58.
- William В. Pennebaker. Method for depositing insulating films of silicon Nitride and aluminum nitride. Патен № 3 600 218, США, 1971.
- Зорин E. И., Сухоруков В. В., Тетел’ьбуам Д. И. Осаждение кар-биновых и алмазоподобных пленок в плазме газового ВЧ разряда. //.ЖТФ, 1980. Т.50, вып. 1, с. 175 177.
- Велихов Е. П., Ковалев А. С., Рахимов А. Т. Физические явления в газоразрядной плазме: Учеб. руководство, — М.: Наука. Гл. ред. физ.-мат. лит., 1987.- 160 е., ил.
- Васильева А. II., Гришина И. А., Ковалев А. С., Ктиторов В. И., Рахимов А. Т., Розанов С. Б. Несамостоятельный разряд в газе.-Письма в ЖТФ, 1980. Т.6, вып.9, с. 551 555.
- Батманов Г. М., Коссый И. А., Лукьянчиков Г. С. Несамостоятельный СВЧ разряд и возможности его использования в лазерной технике. // ЖТФ, 1980. Т.50, вып.2, с. 346 349.
- Patel С. К. N. Interpretation of С02 optical maser experiments. / Phys. Pev. Lett., v.12, 1964, p. 588 590.
- Patel С. K. N. Selective excitation thouch vibrational energy transfer and optical maser action in N2 CO2 • / Phys. Rew. Lett., v. 13, 1964. p. 617 — 619.
- Юдин В. И. Исследование гелий-неонового ОКГ с высокочастотным разрядом. // Квантовая электроника, 1973. № 3, с. 134 -135.
- Crocker A., Wills М. S. Carbon-dioxide laser with high power per unit lenght. / Electr. lett., v.5, № 4, 1969, p. 52 53.
- Lachamber Т. L., Mcfarlane Т., Otis J., Lavigne P. A. Tranzversely RF-excited C02 Wavequide Laser. / Appl. Phys. Lett., v.32, № 10, 1978, p. 652 653.
- Розенберг Г. В. Оптика тонкослойных покрытий. Физматгиз.-М., 1958 570 с.
- Моро У. Микролитография: в 2-х ч.Ч.1: Пер. с англ.- М.: Мир. 1990.- 605 с.
- Smith. R. // Inch Eng. Chem. Prod. Res. Dev.- 1982, — 22. p. 67.
- U.S. Patent 3,535,157 1967, Shipley.
- Bond R., Naguib H. // SPIE Proc.- 1980, 221, p. 74.
- Gibson M., Freijlich J. // Tihn Solid Films.- 1985, — 128, p. 161.
- Barraud A., Vandeveyer M. // Thin Solid Films.- 1983, — 99, p. 221- Peterson I. // Thin Solid Films.- 1983, — 109, p. 371.
- Roberts G., Vincett P., Barlow W. // Phys. Technol.- 1981, — 12, p. 69.
- Wegner G. // Angew. Chem. Int. Ed. Engl.- 1981, — 20, p. 361.
- Barraud A., Rosilio A. // Thin Solid Films.-.1976, — 31, p. 243.
- Кудинов В. В., Иванов В. Н. Нанесение плазмой тугоплавких покрытий.- М.: Машиностроение, 1981.- 192 с.
- Хасуй А. Техника напыления. Пер. с японского.- М.: Машиностроение, 1975.- 228 с.
- Бартенев С. С., Фелысо Ю. П., Григоров А. И. Детонационные покрытия в машиностроении.- Д.: Машиностроение, 1982.- 214 с.
- Никитин М. Д., Кулик А. Я., Захаров И. И. Напряженное состояние Плазменных покрытий. // Физика и химия обработки материалов. 1978. № 2. С. 131 136.
- Гришин С. Д., Лесков Л. В., Козлов Н. П. Электрические ракетные двигатели. М.: Машиностроение, 1975. .272 с.
- Дороднов A.M. Некоторые применения плазменных ускорителей в технологии.- В кн.: Физика и применение плазменных ускорителей. Минск: Наука и техника, 1974, с. 330 365.
- Марахтанов М. К. Промышленное использование плазменных ускорителей.- В кн: Тез. докл. на IV Всесоюз. конф. по плазм, ускорителям и ион. инжекторам. М.: Изд-во АН СССР, 1978, с. 349 350.
- Плазменные ускорители. М.: Машиностроение, 1973.- 312 с. 198.199.200 201 202 203 204 204 983 350 402 086 443 216 273 408
- Лукьянов Г1. А. Сверхзвуковые струи плазмы.- Л.: Машиностроение, Ленингр. отд-ние, 1985.- 264 с.
- Гимпельсон В. Д., Радионов Ю. А. Тонкопленочные микросхемы для приборостроения и вычислительной техники. М.: Машиностроение, 1976.- 328 с.
- Высокоскоростное вакуумное осаждение полимерных электролитов. // Affinito u ets J/Vac. Sci and Technol, A.- 1996.- 14, № 3, Pt. 1 c. 733 — 738.
- Распылители для термического нанесения покрытий.// Puranto enjinia = Plant End 1994, — 26, № 11, с. 82 — 83.466 659 Япония С 23, С 14/06, 16/34, 1992.
- Сравнительное изучение напряжений в пленках Сг, осажденных при вакуумно-дуговом, термическом и магнетронном испарении. Elatner, Gautier u dr. // Phys. Status Solidi A.- 1996, — 154, № 2, c. 669 679.
- Yokotani Atsusti u dr. // Appl. Phys. Tett.- 1996 69, № 10, c. 1399 — 1401. i
- Buccai Н., Laprin J. P. // Solid State Jonics.- 1996, — 92, № 3−4, c. 243 251.216. № 4−32 570 Япония С 236, 1992.
- Попов В. Ф., Горин Ю. Н. Процессы и установки электронно-ионной технологии: Учеб. пособие для вузов.- М.: Высш.шк., 1988, — 255 с. 218. № 93 057 406 / 02 Россия, С 23, 1996.219. № 483 867 Япония, С 23, 1992.
- Lin J. П., Chen L. J. // Appl. Phys.- 1995, — 77, № 9, c. 4425 4430.
- Оптические свойства тонких пленок сложных гексаборидов Р 37. / Бессараба В. И., Дудина Е. М. и др. // Киев: Порошковая металлургия, — 1995, № 1 2, с. 102 — 105.222. № 5 421 890 США С 23, 1995.
- О О Q I i I /Т ПГ““ М/ IIMM МП М '») о л «„А1*Г)Т>Г>ПГ' П“» 1*1 о ГТЛгЛМ Г I '""•" ГТ'1 I Л ' I > I I I I Г- МСЛМ м
- A к* .j i i t w^rwix.,./ iCniiv^ но llcL^jcjl i> ниинЛЗидъ liJC i j uui-iii ocLiaJ^i'i l n m iwv. она лопатки. /'Movchan В. A. /'/': J. Miner, Metals and Mater. Soc. J.Metals.- 1996.- 48, № 1, c. 40 45.
- ООЛ |M fififi^O апПТГ&bdquo-&bdquo- r")Q о 14 /"5П 1 QQO пРпili^li j- У iliulllld WuO) -L -I / •> W, Л-xjUiJ. О ^ -L puiit, iUU wJl/i licll J: V1110 L иосаждения слоев.
- Перспективы развития метода импульсного лазерного осаждения на большие поверхности. / Greer J. A., Tabat М. D. // Nucl. Instrum. and Meth. Phys. Res.В.- 1997.- 121, № 1 4, с. 357 -362.
- Прирост массы и поверхностной проводимости полимеров при металлизации вакуумно-дуговым осаждением. / Boxman R.L. Goldsmith S. // Thin Solid Films.- 1993, 236, № 1 2, c. 341 -346-
- Поверхностное упрочнение титановых деталей плазменно-дуговой обкаткой в вакууме. / Неровный В. М., Перемитько В. В. // Современные проблемы сварной науки и техники. «Сварка-95»: Матер. Рос. науч.-техн. конфер., Пермь, 23 25 мая 1995, ч. 1.
- Рост и распад микрочастиц: возможный подход к получению чистой вакуумно-дуговой плазмы. / Anders Andre //J. Appl. Phys.-1997, — 82, № 8, p. 3679 3688.
- Формирование нанокомпозиционных пленок Ni TiN в процессе ионного осаждения с использованием дуги катодной формы. / Jrie М., Ohara М. // Nucl. Instr. В.- 1997, 121, № 1 — 4, с. 133 -136.
- Напыление из плазмы при низком давлении и его применение. / Takeda Koichi // ISPC -9 g. th. Int Symp. Hlasma Chem. Pugnochiuko. Sept 4−8, 1989, Vol. 1.233. № 421 759 Япония С 23, С 14/50, 1992.
- N2 94 012 466/ 07. Будилов В. В. и др./ Способ ионной¦ импланта-нии.237. № 4−66 666, Япония, С 23, С 14/50, 1992. / Устройство для нанесения пленок.238. № 4−59 966, Япония, С 23,1992. / Устройство для нанесения пленок.
- Нанесение покрытий вакуумно-электродуговым методом. / Марков Г. В. // Физ. и хим. обр. мат. 1996, № 3. с. 71 73.240. № 95 112 884/02, Россия, С 23, 1997. / Федоров А. А. Устройство для нанесения покрытий в вакууме на диэлектрики.
- Структура и свойства тонких пленок Си, полученных испарением с усиленной ионной бомбардировкой. Gotoh Y. // Thin Solid Films.- 1996.- 288, № 1 2, с. 300 — 308.
- Осаждение аморфных пленок гидрогенезированного бора при низких температурах подложки и определение их стабильности // I. Non -Gryst Solids.- 1996.- 209, № 3, с. 240 246.
- Эпитаксиальное выращивание металлов с помощью распыления / Harp G. П., Parkin S. S. // Thin. Solid. Films.- 1996.- 288, № 1 -2, с. 315 324.
- Aisenherg S., Chabot R. W. Phisics of ion Plating and ion Btfm Deposition // J. Vac. Sci. Technol 1973. № 1. P. 104 — 107.
- Cutting tools as good as gold // Metalworking Production.- 1983.7. P. 45 47.
- Davy F. G., Hahak I. I. R-F Bias Evaporation (ion Plating) of Non-Metal Thin Films. // J. Vac. Sci. Technol.- 1974.' № 1. P. 43 -47.
- St owe 11 William R. Ion Plated Titanium Carbide Coatings. //Thin Solid Films.- 1974. № 1. P. Ill 120.
- Особенности формирования тонких пленок оксида А1 высокочастотным магнетронным методом. / Лунев И. В., Падалка В. I. // Физ. и хим. мат.- 1996. № 3. С. 78 83.
- Осаждение с применением импульсного лазера на подложку кремния при 600 С. / Fridman Т. А., Мс. С arty К. F., Claus Е. I., Barbour I. С. // Thin Solid Films.- 1994, — 237, № 1- 2, с. 48 56.
- Улучшенная система ионно-лучевого осаждения с ионным источником на основе ВЧ-распыления. / Miyaki Kioshi // Nucl. Instrum. and Meth. Phys. Res. В.- 1997.- 121, № 1 4, с. 102 — 106.
- Характеристики тонких пленок алюмината лантана, полученные ВЧ-распылением. / Poirot С. // Sci and Technol. Thin Films Supercond 1990.- c. 389 — 394.
- Исследование свойств карбидов и нитридов титана. /Deng Jifcluo, Braun Manuel, Gudovska Irena //I. Bas. Sci and Technol. A.- 1994.12, № 3, c. 733 736.255. № 448 073 Япония, С 23, С 14/34, Hoi В 13/00, 1992. Установка катодного распыления.
- Исследование пленок нитрида тантала, полученного реактивным распылением. / Xin Sun, Elzbieta Kolowa и др. // Thin Solid Films.- 1993, — 236, № 1 2, с. 347 — 351.
- Технологии, эксперименты по повышению противокоррозионных характеристик тонколистовых углеродистых сталей с помощью нанесения покрытий в вакууме. // Mateescu Gh. // Vide: Sci. Techn. et appl. 1995,-Suppl № 275, «CIP 1995 proc», c. 440 442.
- White G. W. New applikations of Ion Plating. // «Res/Develor». 1973. № 7. P. 43 44.
- Minowa Y., Ymanishi K., Tsukamoto K. Si02 films deposited on Si by an ionized claster beam. // J. Vacuum Sci. Technol.- 1983. Vol. Bl, № 4. P. 1148 1151.
- Yamada I., Nagai I., Hozie M. Preparation of doped amophous silikon films by ionizet claster beam deposition. // J. Appl. Phys.-.1983. Vol. 54, № 3. P. 1583 1587.
- Yamada I., Takagi T. Metallization by ionizet-claster beam deposition. // IEEE Trans, on elektron devices.- 1987. Vol. ED-34, № 5. P. «1018 1025.
- Yamada I., Takagi T. Current status of ionizet-claster beam technigue: a iow energy ion beam deposition. // Nucl. Instrum. find Vethod Phys. Res.- 1987. Vol. В 21, № 2 4. P. 120 — 123.
- Данилин B.C. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок,— М.: Энергоатомиздат, 1989.- 328 с.
- Барабанов Б. Н., Блинов И. Г., Дороднов А. М., Д удов, а С. В. Аппаратура плазменной технологии высоких энергий — «холодные» системы для генерации плазм проводящих твердых веществ. // Физика и химия обработки материалов. 1987. № 1. С. 44 51.
- Кесаев Н. Г. Катодные процессы электрической дуги. М.: Наука, 1968. 325 с.
- Гришин С. Д., Козлов Н. П. Применение плазменных ускорителей в технике. М.: Машиностроение, 1973. С. 15 25.
- Дороднов А. М., Поротников А. А. Нанесение покрытий торцевыми плазменными ускорителями. // Материалы 2-й Всесоюзной конференции по плазменным ускорителям. Минск: Техника. 1973. С. 276 277.
- Падалко В. Г., Толол В. Т. Методы плазменной технологии высоких энергий. // Атомная энергетика. 1978. Т. 44. С. 476 478.
- Нага Т., Hamadaki М., Sauda A. Nev high current low energy ion Source. // J. Jap. Appl. Phis.- 1986. Vol. 25, № 3, p. 1253 1255.
- Образование дугового пятна, вызываемое неустойчивостью граничного слоя. Hantzche Erhand. // IEEE Trans. Plasma Sci.— 1997, — 25, № 4. P. 52.7 532.
- Параметры плазмы внутри катодного пятна выкуумной дуги, инициируемой лазером- эксперимент, и теоретич. исследования. // IEEE Trans. Plasma Sci.- 1997, — 25, № 4. P. 553 563.
- Улучшенная модель слоя у подложки с отрицательным смещением в вакуумной дуге с катодными пятнами. // IEEE Trans. Plasma Sci.- 1997, — 25, № 4. P. 689 693.
- Газовые разряды в полых катодах высокого давления. / Choenbach Karl и др. // Plasma Sources Sci and Technol.- 1997.6, № 4. P. 468 477.¦
- Зависимость функции распределения электронов по энергиям в плазме ВЧ-разряда от частоты и давления, / Akashi Haruaki и др. // Jap. J. Appl. Phys. Pt. 2, 1997, — 36, № 7A. P. 877 879.
- Планарный магнетронный разряд, совмещенный с плазменно-ипдукционным разрядом для увеличения степени ионизации распыленных атомов. / Setsuhara Yuichi и др. // Jap. J. Appl. Phys. Pt. 1, 1997, — 36, № 7B. P. 4568 4571.
- Исследование катодных пятен и формирование плазмы вакуумных дуг с помощью высокоскоростного микрофотографирования и спектроскопии. / Siemroth Peter и др. // IEEE Trans. Plasma Sci.- 1997.- 25, № 4. P. 571 579. .
- Двумерное наблюдение паров меди в вакуумных дугах методом лазерной флуоресценции. / Koyama Kenichi и др. // IEEE Trans. Plasma Sci.- 1997.- 25, № 4. P. 598 602.
- Интерпретация вакуумной дуги с высокой плотностью тока без электродных пятен тлеющего разряда. / Puchvarev Victor F. и др. // IEEE Trans. Plasma Sci.- 1997, — 25, № 4. P. 593 597.
- Напряжение горения сильноточной вакуумной дуги с промежутком из шести стержневых электродов. / Alferov D. F. и др. // IEEE Trans. Plasma Sci.- 1997, — 25, № 4. P. 856 892.
- Напряжение на вакуумной дуге с кольцевым анодом в продольном магнитном поле. / Keidar Michael и др. // IEEE Trans. Plasma Sci.- 1997.- 25, № 4. P. 580 585.
- Измерение энергии ионов при осаждении в вакуумной дуге. / Yang Lei и др. // IEEE Trans. Plasma Sci.- 1997.- 25, № 4. P. 700 -702.
- Отклонение от локального термодинамического равновесия в плазме сильноточной свободногорящей дуги’в аргоне. / Ilaidar J. // J. Phys. D.- 1997.- 30, № 19. P. 2737 2743.
- Дуговой разряд в качестве источников атомов азота. / Xu Ning и др. // Rev. Sci. Instrum 1997, — 68, № 8. P. 2994 — 3000.
- Новое развитие обработки плазмой катодной дуги. / Мс. Kenrie и др. // IEEE Trans. Plasma Sci.- 1997.- 25, № 4. P. 652 659.
- Применение высокочастотного разряда в процессах азотирования. / И. III. Абдуллин, Ш. Ш. Башкиров и др. // Физ. хим. обработ.материал., 1997, № 2, с. 113 115.
- Уменьшение дуговой эрозии электрических контактов, использованием поперечного тока в дуге. / Parkansky Naum и др. // ieee Trans. Plasma Sci.- 1997.- 25, № 4. P. 543 547.
- Применение плазмы в Китае. // Физ. и хим. обработ. матер., 1997, № 5, с. 64 73.
- Последние достижения в области технологии с использованием сфокусированных пучкой ионов. / Gama Kenji. // Nucl. Instrum. and Meth/ Phys. Rev. B. 1997, — 121, № 1 4. P. 464 — 469.
- Обзор. Выкуум, поверхности и пленки. Vacuum, Surfaces and films. // J. Vac. Sci. and Technol. A.- 1995.- 13, № 3. Pt 2. P. 1 -8.
- Покрытия (AlxTiy)N, получаемые катодным вакуумно-дуговым осаждением. / Vetter J. // Metall.- 1997.- 51, № 6. P. 336 341.
- Исследование слоев тройного FeNi силицида, полученного ионной имплантацией паров металла, создаваемых дуговым разрядом в вакууме. / РЖ Металлургия, 1997, №° ЗЕ15.
- Ионно-плазменное формирование износостойких слоев, на поверхности конструкционной стали. / Борисов Д. П., Гончаренко И. М. и др. // Физ. и хим. обр. мат.- 1997, № 4. С. 40 44.4.63 265. Япония, С 23, 1996.445 276. Япония, С 23, 1992.
- Повышение качестка покрытий, наносимых плазменным распылением. // Metallurgia 1996, — 63, № 1. С. 33.
- Нанесение алмазных и алмазоподобных покрытий. / Benninghoff Hanns. // Techn. Rdsch.- 1994, — 84, № 32. С. 40 42.
- Нанесение твердых покрытий способом физического осаждения из газовой фазы. / Stokley Peter. // Precis Toolmaker- 1994.- 12. № 6. С. 244 246.
- Новое покрытие для твердосплавных фрез. // Metalwork Prod.1994, — 138, № 13. С. 16.
- Функциональное поведение инструмента с твердым покрытием. / Meier Z., ICocker G., Kunst H., Habig К. H. // Harter techn., Mitt — 1994, — 49, № 6. P. 365 — 377.
- Перспективы использования газотермического напыления в промышленности. / Рудой А. П. // Электротехнол. и ресурсосбереж, — 1995, № 3. С. 13 20.
- Газотермические покрытия. / Анциферов В. Н., Шмаков А. М., Агеев С. С., Буланов В. Я.- Екатеринбург: Наука, 1994.- 318 с.
- Исследование микроструктуры конденсационного покрытия на монокристаллические жаропрочные пластины Ni. / Totemeier Т. С., Gale W. F., King J. Е. // Met. and Mater. Trans. A.- 1994, — 25, № 12. P. 2837 2840.
- Мультислойные вакуумно-плазменные покрытия и их свойства, / Косогор С. П., Гыбайдуллин Н. Ш. и др. // Рос. науч.-техн. конф. «Матер, и упроч. технол. 94», Курск, 15 — 17 ноября 1994, тезисы докл. С. 97 — 100.
- Особенности управляемых источников питания плазмотронов постоянного тока. / Пешехонов В. М., Жуков А. В. // Оптимизация работы электрооборудов. / Тверск. гос. универ.- Тверь, 1995. С. 81 86.
- Кудипов В. В., Лекшев П. Ю. и др. Нанесение покрытий плазмой. М.: Наука, «1990. 408 с.
- Вакуумные дуги. Теория и применение. Под ред. Лаферти Дж. М. Мир, 1982. 432 с.
- И. Ш. Абдуллин, Н. Ф. Кашапов, В. В. Кудинов. Изменение структуры и состава поверхности сталей и титановых сплавов под действием высокочастотного разряда низкого давления. Международный научный журнал «Перспективные материалы» 1.-2000.- 56 с.
- И. Ш. Абдуллин, Н. Ф. Кашапов, В. В. Нанесение тонкопленочных покрытий с помощью высокочастотной плазмы пониженного давления. «Физика и химия обработки материалов», № 2.- 2000.40 с.
- И. III. Абдуллин, Н. Ф. Кашапов. Модификация сталей и титановых сплавов с помощью высокочастотной плазмы пониженного давления.- Препринт, КГТУ.- 2000.- 16 с. .
- И. Ш. Абдуллин, Н. Ф. Кашапов. Исследование свойств тонкопленочных покрытий, полученных с помощью неравновесной ВЧ плазмы пониженного давления.- Препринт, КГТУ.- 2000.- 16 с.
- И. III. Абдуллин, Н. Ф. Кашапов, Р. Т. Галяутдинов. Тонкопленочные покрытия с регулируемым поглощением, полученные с помощью струйного ВЧИ плазмотрона пониженного давления.-Препринт, КГТУ.- 2000.- 20 с.
- Н. Ф. Кашапов. Исследование контролируемого нанесения чувствительных слоев ионных резистов в гелиевой плазме ВЧ разряда. Деп. В ОНТИ УНИЦ ВИНИТИ, № 970-В00, КГТУ, — Казань.-2000.
- Н. Ф. Кашапов. Исследование механизма разложения металлоор-ганических соединений в плазме безэлектродного ВЧ разряда пониженного давления. Деп. В ОНТИ УНИЦ ВИНИТИ, № 971-В00, КГТУ, — Казань, — 2000.
- Н. Ф. Кашапов. Нанесение диэлектрических и алмазоподобных покрытий с помощью высокочастотной плазмы пониженного давления. Деп. В ОНТИ УНИЦ ВИНИТИ, № 969-В00, КГТУ.-Казань- 2000.
- II. Ф. Кашапов. Исследование процесса нанесения покрытий с помощью ВЧ разряда пониженного давления. Деп. В ОНТИ УНИЦ ВИНИТИ, № 972-В00, КГТУ.- Казань, — 2000.
- И. III. Абдуллин, Н. Ф. Кашапов, В. В. Кудипов. Новое в технологии нанесения покрытий. Ч. 1. Струйный ВЧ разряд пониженного давления в процессах нанесения покрытий. «Технология металлов», № 7, — 2000.-^, 34 39 с.
- И. III. Абдуллин, Н. Ф. Кашапов, В. В. Кудинов. Новое в технологии нанесения покрытий. Ч. 2. Получение алмазоподобных покрытий в ВЧ плазмотроне пониженного давления. «Технология металлов», № 8, — 2000.- 35 с.
- И. III. Абдуллин, II. Ф. Кашапов, В. В. Кудинов. Новое в технологии нанесения покрытий. Ч. 3. Получение тонкопленочпьгх покрытий из порошков в ВЧ плазмотроне пониженного давления. «Технология металлов», № 10, — 2000.- 30 с.
- И. III. Абдуллин, Н. Ф. Кашапов, В. В. Кудинов. Новое в технологии нанесения покрытий. Ч. 4. Физико-механические свойства синтетических волокнистых материалов, обработанных ВЧ плазмой пониженного давления. «Технология металлов», № 2, — 2001.35 с.
- Н. Ф. Кашапов, Г. С. Лучкин. Нанесение защитных покрытий магнетронным распылением. Сообщение на научной сессии КГТУ, 2001, с. 23.
- Неотражающий нетральный оптический фильтр. Свидетельство на полезную модель, Роспатент, № 2 000 129 440/20 (31 542) МП К 7602В5/22.
- Смирнов Б. М. Атомные и молекулярные столкновения в плазме.- М.: Атомиздат, 1968.- 364 с.
- Источники питания электротермических установок. / А. С. Васильев, С. Г. Гуревич, 10. С. Иоффе.- М.: Энергоиздат, 1985.248 е., ил.
- Сорокин JI. М., Шевченко В. 3. Расчет электромагнитных полей в индукционном разряде. // Физ. и хим. обработки материлов, 1975.- № 6.- С. 145−147.
- М. А. Гуляев. А. В. Ерюхин. Измерение вакуума (измерение малых абсолютных давлений).- М.: Издательство стандартов. 1967 148 с.
- Гол ант В. Е. Сверхвысокочастотные методы исследования плазмы.- М.: Наука, 1968.- 327 с.
- Диагностика плазмы. Вып. 5 / Под ред. М. И. Пергамента.- М.: Эпергоиздат, 1986.- 303 с.
- Заварин Ф. Г., Рождественский В. В., Тумакаев Г. К. СВЧ интерферометр с пространствевным разрешением 0,1 А. / / Диагностика низкотемпературной плазмы. / Под ред. Е. М. Шелкова, — М.: Наука, 1979.- С. 154−158.
- II. Ф. Кашапов, Р. Б. Мухамедзянов. Распределение концентрации электронов в прикатодной области тлеющего разряда. Тезисы докладов VI конференщш по физике газового разряда.-Казань.: 1992, — 237 с.
- Диагностика плазмы / Под ред. Р. Хаддлстоуна и Ц. Леонарда.— М. :Мир, 1967
- А.с. 2 153 620 (СССР.) Голографический интерферометр / Л. Т. Мустафина, Н. П. Кутикова, Т. М. Бабаева.— Заявл. 7.07.75, опубл. 14.06.77.
- А.с. 1 149 122 (СССР) Голограммный анализатор / Л. Т. Мустафина, А. А. Белобо’родов, А. Ф. Белозеров.- Заявл. 26.10.81, опубл. 8.12.84.
- В. Е. Б par и и, А. Н. Быканов, О. Ы. Гусев и др.- М. ВАНТ, Сер. ядерная техника и технология, 1989. вып. 1, с. 16 18.
- Атлас спектральных линий для дифракционного спектрографа. А.-А.: Наука, 1967, 103с.
- Ф. Пирс, А. Гейдон. Отождествление молекулярных спектров. М.: ИЛ, 1949, 198с.
- Г. А. Касабов, В. В. Елисеев. Спектроскопические таблицы для низкотемпературной плазмы. Справочник. М.: Атомиздат, 1973, 160с.
- И. М. Нагибина, В. К. Прокофьев. Спектральные приборы и техника спектроскопии. М.-Л.: Машгиз, 1963, 2−70 с.
- И. III. Абдуллин, Н. Ф. Кашапов, В. В. Кудинов. Свойства и назначение покрытий, получаемых с иомогцыо струйного ВЧ разряда низкого давления. Международный научный. журнал «Перспективные материалы» № 3. 2000.- 75 — 82 с.
- Ховатсон А. М. Введение в теорию газового разряда. Пер. с англ.- М.: Атомиздат, 1980.- 182 с.
- Абдуллин И. Ш. Исследование высокочастотного диффузного разряда в процессах обработки поверностей. / НПО «Мединструмент».- Казань, 1988.- 75 с. ил. (Рукопись дел. в ВИНИТИ 9.03.88, № 1571- 889).
- Р.Р.Знганшин, 3. X. Исрафилов, Н. Ф. Кашапов. О прикатод-ной области тлеющего разряда. Межвузовский сборник научных трудов «Физика газового разряда», — Кггзань.: 1993.- 13 с.
- Z. Ivh. Israfilov, N. F. Ivaschpov. Steadying the instability of a glowing discharge in a longitudinal air stream, Journal of engineering physics.- New York.: Jephal 60(3) 277−398(1991), consultants bureau.
- Бекетова А.К., Белозеров А. Ф., Березкин А. И. и др. Голографи-ческая интерферометрия фазовых объектов.-Д.: Наука. Лениигр. отд-гше, 1979.- 232 с.
- Д. И. Словецкий. Исследование кинетики и механизмов физико-химических процессов в неравновесных плазмохимических системах. Дис.д.физ.-мат. наук. М.: 1977, 557 с.
- Б. М. Смирнов. Атомные столкновения и элементарные процессы в плазме. М.: Мир, 1967, 823 с. 390. 1?. Mary Roming. Steddli State Solution of the Radiof reguency Discharge with flow. The Physics of Fluids, 1960, 3, N° 1, p.129 -133.
- JI. Д. Цендин. Распределение электронов по энергии в ВЧ электрическом поле. ЖТФ, 1977, 47, № 8, с. 1598 1608.
- Ю. Б. Голубев. Физическме процессы в неравновесной плазме положительного столба разряда в инертных газах при средних давлениях. В кн. Спектроскопия газоразрядной плазмы. /Под ред. Н. II. Пенкина, вып.2, — Д.: изд-во JI. ун-та, 1980, с. 3 52.
- А. В. Бурмистров, Ю. В. Маношин. Пробой газа в высокочастотном Н-разряде. ЖТФ, 1976, 46, N° 12, с. 2517 2522.
- К. А. Осипов, Г. Э. Фолманис. Осаждение пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков. М.: Наука, 1973, 137 с.
- Райзер 10. П. Физика газового разряда: Учеб.руководство. // М.: Наука, 1987, — 592 е., ил.
- Кашапов II. Ф. Особенности контрагирования тлеющего разряда в камерах быстропроточных СО2 лазеров. Дисс.канд.физ.-мат.наук. Казань, 1990, 145 с.
- Установки индукционного нагрева: Учеб. пособие для ВУЗов. / А. Е. Слухоцкий, В. С. Немков, Н. А. Павлов, А. В. Башунэр. Под ред. А. Е. Слухоцкого.- Л.: Энергоиздат. Ленингр. отд-ние, «1981.- 328 е., ил.
- Смирнов Б. М. Возбужденные атомы М.: Энергоиздат, 1982.232 с.
- Николаев А. В., Самойленко М. В. Исследование электрического пробоя системы плазменная струя-металлический электрод. // Физ. и хим. обработки материалов.- 1980.-.№ 6.- С. 31−38.
- Николаев А. В., Самойленко М. В. Влияние материала сопла плазмотрона на образование двойной дуги. // Автоматическая сварка, — 1980, — № 10, — С. 25−27, 54.
- Schottky W. Diffusion Theorie der Positiven Saule. // Phys. Zheitschr.- 1924.- Bd XXV.- S. 635−640.
- Thomson J. J. The electrodeless discharge through gases. // Phyl. mag. 1927, — V. 4, — № 25.- P. 1128−1160.
- Herlin M., Brown S. C. Electrical breakdown of a gas between coaxial cylinders at microwave frequences. // Phys. Rev. 1948.- V. 74.-№ 8.- P. 910−913.
- Brown S. C, Tc Donald A. D. Limits for the. diffusion theorie of a high frequency gas discharge breakdocon. // Phys. Rev. 1949.- V. 76.- № 11- P. 1629−1633.
- Eckert H. U. Equation of the electrodeless ring discharge and their solution for the breakdowon criterion. // 4-th Intern. Conf. Ionisation Phenomena in Gases. Amsterdam e.a. i960.- V. 1.-P. 320−324.
- Eckert H. U. Equation of the electrodeless ring discharge. // J. Appl. Phys. 1962, — V. 33.- № 9, — P. 2780−2788.
- Абдуллин И. Ш., Желтухин В. С. Математическое моделирование плазмы индукционного диффузного разряда. // Изв. Сиб. отд-ния АН СССР. Сер.техн.наук.- 1985.- Вып. 3, № 16. С. 106 109.
- Romig М. F. Steady state solution of the radiofrequency discharge with flow. // Phys. Fluids. I960.- V. 3, — № 3, — P. 129−133.
- Абдуллнн И. III., Желтухнн В. С., Матухнов В. М. Исследование распределения концентрации электронов в безэлектродном газовом разряде с продувом газа. // Электрон, обработка материалов. 1985, — № 5.- С. 41−49.
- Сошников В. И., Трехов Е. С., Хошев И. М. Вихревой разряд при атмосферном давлении с продувом. // Физика газоразрядной плазмы. Вып. 1, — М.: Атомиздат, 1968, с. 83−98.
- Boulos М. I. Flow and temperature fled in the fire-ball of an inductively coupled plasma. // IEEE Transactions of Plasma Science. V. PS-4.- № l.-P. 28−39.
- Абдуллин И. III., Гафаров И. Г., Желтухин B.C. Теоретическое исследование ВЧ емкостного разряда низкого давления. // Физика газового разряда. Межвуз. науч. сб.- Казань: Изд. Каз. авиац. ин-та, 1988.- С. 27−31.
- Абдуллин И. ILL, Желтухин В. С., Матухнов В. И. Теоретические исследования и особенности применения высокочастотного индукционного неравновесного разряда для процессов модификации поверхности. // Физ. и хим. обработки материалов, 1986, № 6.- С. 72−79.
- Смирнов А. С. Приэлектродные слои в емкостном ВЧ-разряде. // Журн. техн. физ, — 1984.- Т. 54, вып. 1- С. 61−65.
- Ковалев А. С., Рахимов А. Т., Феоктистов В. А. Высокочастотный несамостоятельный разряд в газах. // Физика плазмы.-1981, — Т. 7, вып. 6, — С. 1411−1418.
- Велихов Е. П., Ковалев А. С., Рахимов А. Т. Физические явления в газоразрядной плазме. Учеб.руководство.- М.: Наука, 1987.160 е., ил.
- Райзер 10. II., Шнейдер M. И. Структура приэлектродных слоев высокочастотного разряда и переход между двумя его формами. // Физика плазмы, — 1987.- Т.13, вып. 4, — С. 471−479.
- Райзер Ю. П., Шнейдер М. Н. Высокочастотный разряд среднего давления между изолированными и оголенными электродами. // Физика, плазмы.- 1988 Т.Н. вып. 2.- С. 220−232.
- Турин А. А. Ускорение ионов в приэлектродном слое и энергобаланс ВЧ-разряда в магнитном поле. // Тез. докл. III Всесоюз. конф. по физике газового разряда.- Киев, 1986.- С. 92−94.
- Graves D. В. Fluid models simulations of a 13.56 MHz RF-discharge: Time and space dependence of rate of electron excitation. // J. Appl. Phys. 1987, — V. 62, — № 1, — P. 88−94.
- Кулик П. П., Рябый В. А., Ермохин И. В. Неидеальная плазмы.-М.: Энергоатомиздат, 1984.- 200 с.
- В. А. Грз^здев, Р. Е. Ровинский, А. П. Соболев. Приближенное решение задачи о стационарном индуцированном высокочастотном разряде в замкнутом объеме // Журн. прикл. механики и техн. физ, — 1968.- N°. 3.- С. 197−199.
- Биберман JL Я., Воробьев В. С., Якупов И: Т. Кинетика неравновесной низкотемпературной плазмы.- М.: Наука, 1982.- 376 е., ил.
- Митчнер М., Кругер .4. Частично-ионизованные газы: Пер. с англ.- М.: Мир, 1976, 496 е., ил.
- Лупан Ю. А. Об одной возможности уточнения элементарной теории ВЧ разряда в воздухе. // Журн. техн. физики'.- 1976.- Т.46, вып. III.- С. 2321−2326.
- Брагинский С. И. Явления переноса в плазме. // Вопросы теории плазмы. Вып. 1. / Под ред. М. А. Леонтовича, — М.: Госатомиздат, 1963.- С. 183−272.
- Саттон Дж., Шерман А. Основы технической магнитной газодинамики : Пер. с англ.- М.: Мир, 1968.- 492 с:.
- Райзер Ю. П. Основы современной физики газоразрядных процессов.- М.: Наука, 1980.- 416 е., ил.
- Александров А. Ф., Богданкевнч Л. С., Рухадзе -А. А. Основы электродинамики плазмы / Под ред. А. А. Рухадзе.- М.: Высш. шк. — 1988.- 424 е., ил.
- Туров Е. А. Материальные уравнения электродинамики,— М.: Наука, 1983.- «130 с.
- Sanders S. G. Plasma Rate equations for an RF discharge in a magnetic field // J. of Appl. Phys. 1978. Vol.49. № 5. P. 2698 -269Г).
- Ивановский Г. Ф., Петров В. И. Ионно-плазмеппая обработка материалов.- М.: Радио и связь, 1986.- 232 е., ил. '
- Зельдович Я. Б., Райзер Ю. П. Физика ударных волн и высокотемпературных гидродинамических явлений.- М.: Наука. 1−966.102 с.
- R. W. McCormarck. The Effrct of viscosity in Hypervelocity Impact Cratering. // AIAA Paper. 1969. № 354.
- Глазунов А. А., Заушный E. Г., Иванов В. Я., Рынков А. Д. Взаимодействие пограничного слоя на выгораемой поверхности с неравновесным двухфазным потоком и осесимметричпом сопле Лаваля. // Прикл. механика и техн. физика. 1977. № 3. с. 53 -62.
- В. С. Желтухин. Математическое моделирование высокочастотной плазменно-струйной модификации поверхностей твердых тел. // Исследования по прикл. мат. Вып.21. Казань, 1999.
- Ю. П. Райзер, М. И. Шпейдер, II. А. Яценко. Высокочастотный емкостный разряд: Физика. 'Техника -эксперимента. Приложения.- М.: Изд-мо Моск. фпз.-тсхн. ин-та: Н аг к а. Ф и з м, а т л и т. 19 9 5.
- Смирнов М. М. Вырождающиеся эллиптические и гиперболические уравнения.- М.: Паука. 1966.- 292 с.
- Ландау Д., Лифшиц Е. Электродинамика сплошных сред М.: Гостехиздат, 1957 — 532 е., ил.
- Ладыженская О. А. Краевые задачи математической физики.-М.: Наука, «1973.- 408 с.
- Ладыженская О. А., Уральцева Н. Н. Линейные и квазилинейные уравнения эллиптического типа,— М.: Наука, «1973.- 426 с.
- Асланян А. Г., Лидский В. Б. О спектре эллиптического уравнения. // Мат. заметки.- 1970.- Т. 7, № 4, С. 495 502.
- Патанкар С. Численные методы решения задача теплообмена и динамики жидкости М.: Энергоатомиздат, 1984.- 152 е. ил.
- Зенкевич О., Морган К. Конечные элементы и аппроксимация. / Пер. с англ. под ред. Н. С. Бахвалова, — М.: Мир, 1986.- 320 е., ил.
- Митчелл Э., Уэйт Р. Метод конечных элементов для уравнений с частными производными / Пер. с англ. В. Е. Кондрапюва и В. Ф. Курякина под ред. Н. Н. Яненко М.: Мир,. 1981.- 216 е., ил.
- Желтухин В. С. Численное исследование условий существования индукционного диффузного разряда. / НПО «Мединструмент»: Казань, 1987, — 13 с. (Рукопись деп. в ВИНИТИ 25.03.88, № 2327 В88).
- Самарский А. В. Теория разностных схем.- М.: Наука, 1982.
- П. Чан, Л. Тэлбот, К. Турян. Электрические зонды в неподвижной ii движущейся плазме. Теория и приложение.- М.: .Мир, 1978.
- И. Ш. Абдуллин, Н. Ф. Кашапов. Подготовка поверхностей металлов, диэлектриков и полупроводников к нанесению покрытий с помощью неравновесной ВЧ плазмы пониженного давления.-Препринт, КГТУ, — 2000, — 16 с.
- И. III. Абдуллин, Н. Ф. Кашапов, В. В. Кудинов. Обработка неорганических материалов неравновесной низкотемпературнойплазмой перед нанесением покрытий. Международный научный журнал «Перспективные материалы» № 3. 2000 — 88 — 94 с.
- Н. Ф. Кашапов. Изменение структуры и состава поверхности сталей и титановых сплавов после воздействия низкотемпературной плазмы пониженного давления. Рук. Депон. в ОНТИ УНИИ В И -НИТИ, № 973-В00, К РТУ, Казань, 2000 г.
- Н. Ф. Кашагюв. Свойства неорганических материалов, обработанных низкотемпературной плазмой перед нанесением покрытий. Рук. Депон. в ОНТИ УНИЦ ВИНИТИ, № 974-В00, КГТУ, Казань, 2000 г.
- Н. Ф. Кашапов. Плазменная обработка деталей машин и аппаратов текстильной и легкой промышленности. Тезисы докладов научной сессии КГТУ .-Казань.: 2000.- 202-с.
- Н. Ф. Кашапов, Г. С. Лучкин. Технология напыления высокоот-ражающих покрытий на изделие из АБС-пластика, б-я Международная конференция «Пленки и покрытия 2001», 3−5 апреля 2001, С.-П., Россия, с. 151.
- Исследование макропараметров поверхности титана после воздействия частично-ионизованным газом / И. Ш. Абдуллин, И. Г. Хусаинов, И, Г. Даутов, И. Г. Гиматдинов- НПО «Мединт-срумент», 1987.- 11 с. Деп. в ВИНИТИ 28.08.87, № 6349-В87.
- Абдуллин И. Ш. Влияние плазменной обработки на остаточные макронапряжения и концентрацию газов в титане // Тез. докл. II Республ. коиф. Набережн. Челны, 1987.- С. 3.
- Абдуллин И. Ш., Даутов И. Г. ИДР в процессах обработки поверхностей металлических изделий // Физика и химия обраб. материалов. 1985. № 4. С. 55 56.
- Абдуллин И. Ш., Даутов И. Г. Высокочастотный индукционный разряд низкого давления в процессах обработки поверхностейтвердых тел // Тез. докл. IV Всесоюз. сов. «Плазмен. процессы в металлургии и технол. неорган, материалов». М., 1983. С. 31.
- Использование ВЧИ плазмы низкого давления для получения покрытий / И. Ш. Абдуллин, Г. Ю. Даутов, С. Н. Шарифуллии и др. // Тез. докл. II Всесоюз. сов. по плазмохимии.- М., 1977. Т.1. С. 137 140.
- Обработка тонких алюминиевых высокочастотной индукционной плазмой / И. Ш. Абдуллин, Д. А. Вдовин, С. Н. Шарифуллии,
- B. Д. Щербаков // Физика и химия обраб. материалов. 1979. № 4.1. C. 74 77.
- Абдуллин И. Ш., Сальянов Ф. А., Аубакиров Р. Г. Теоретические и экспериментальные исследования индукционного диффузного разряда в процессах обработки поверхностей / Казан, авиац. инт. Казань, 1983.- 51 е.- Деп. в ВИНИТИ 17.08.82, № 4558−82.
- Обработка металлических поверхностей потоком индукционной плазмы / И. Ш. Абдуллин, С. Н. Шарифуллии, В. Д. Щербаков, Д. А. Вдовин // Иизкотемператур. плазма: Межвуз. сб. Казань: КАИ, 1979. С. 55 58.
- Исследование изменения свойств поверхности титанового сплава под воздействием плазмы индукционного диффузного разряда / И. III. Абдуллин, С. II. Шарифуллии, А. Р. Замалеев и др. // Иизкотемператур. плазма: Межвуз. сб. Казань: КАИ, 1981. С. 18 22.
- Абдуллин И. Ш., Гафаров И. Г. Экспериментальное исследование параметров ВЧ-емкостного разряда. // Тез.докл.- VII Всесоюз. конф. по физике’иизкотемператур. плазмы. Ташкент, 1987.- С. 170−171.
- Гриневич В. И., Максимов А. И. Травление полимеров в низкотемпературной плазме / Применение низкотемпературной плазмы в химии, — М.: 1981, — С. 135−168.
- Василец В. Н., Тихомиров JI. А., Поиамарев A.Ii. Исследование действия плазмы стационарного ВЧ разряда низкого давления на поверхность полиэтилена. // Химия высоких энергий.- 1981.-Т.15.- № 1.- С. 77−81.
- Hudis М. Surface Crosslinking of Polyethelene Using Hydrogen Glow Discharge. // J. Appl. Polym. Sci.- 1972, — V. 16.- P. 2397−2415.
- Hudis M, Prescott L. E. Surface Crosslinking of Polyethelene Produced by Ultraviolet radiation from Hydrogen Glow Discharge. // J. Polym. Sci.- 1972.- V. B10 № 1- P. 183.
- Абрамов P. X., Багиров M. А, Газарян Ю. H., Малин В. П. О перекисном механизме ионизационного окисления полиэстирола, // Высокомолекулярные соединения.- 1969.- № 6.- С. 209.
- Багиров М. А., Малин В. П., Абасов С. А. Воздействие электрических разрядов на полимерные диэлектрики.- Баку: Знание. 1975, — 167 с.
- Signer Р. Н., Semicond. Int. V15, N3, р. 36 39 (1992).
- Абдуллин И. III., Гафаров И. Г., Марин К. Г. В кн. «Г1лазмохимия-91» т. И, издат. ИНХС АН СССР, М., 1991, с. 304 -317.
- Современные методы анализа микрообъектов и тонких пленок. Проблемы аналитической химии. Т. IV / Под ред. И. П. Алима-рина, Б. Д. Луфт- М.: Наука, 1977, — 280 с.
- Мессбауэровская спектроскопия: Пер. с англ. / Под ред. У. Гонзера.- М.: Мир, 1984, — 242. с.
- Луфт Б. Д., Карпель Н. Г. Аналитический контроль в технологии полупроводниковых эпитаксиальиых структур. // Завод, лаборатория, — 1979.- № 12.- С. 1068−1095.
- Резвый Р. Р., Финарев М. С. Эллипсометрические методы исследования и контроля в полупроводниковой микроэлектронике. / ЦНИИ Электроника. // Обзоры по электрон, техн. Вып. 7. Сер. 2, — М.: 1977, 41 с.
- Mitsuijuki О., Такао О., Shigeru О. М., Hidejiro Н. The effect of substrate preparations on the surface morphologies of the epitaxial lowers of Ga As. // J. Electrochem. Soc.- 1977.- P. 1907−1912.
- Александров Л. Н. Переходные области эпитаксиальных полупроводниковых плёнок.- Новосибирск: Наука, 1978.- 271 с.
- Моррисон С./ Химическая физика поверхности твердого тела. М.: Мир, 1980, 487 с.
- Ионная имплантация / Под ред. Хирвонена Дж.К.: Пер. с.англ.-М.: Металлургия, 1985, — 392 с.
- Vella-Colciro J. P., Wolfe R., Blanke S. K., Caruso R., Nelson T. J., Rana V. V. S. // J. Appl. Phys.- 1981.- V. 51.- P. 2355.
- Технология тонких пленок. Справочник, Т.2. / Под ред. Л. Майс-села, Р. Гленга, — М.: Сов. радио, — 768 с.
- Зимон А. Д. Адгезия пленок и покрытий.- М.: Химия, 1977.- 352 с.
- Миркин Л. И. Рентгеноструктурный контроль машиностроительных материалов. Справочник, — М.: Машиностроение, 1979.134 с.
- Р. Т. Галяутдинов, Н. Ф. Кашапов. Синтез несимметричных зеркал. Тезисы докладов международного научно-технического семинара «Новые технологии -96».- Казань.: июнь 1996.- 172 с.
- I. Sh. Abdullin, V. S. Zheltoukhin, N. F. Kashapov. Application of low pressure RF plasma for deposition of Si02 thin films. International Conference on Phenomena in Ionized Gases.-Warsaw, Poland, July 11−16, 1999.- 16 p.
- Н. Ф. Кашапов, Р. Т. Галяутдинов. Применение газового разряда для синтезирования широкополосных металлодиэлектрических покрытий. Тезисы докладов X конференции по физике газового разряда. Педуниверситет-70.-Рязань.: — 2000.- 189 с.
- И. III. Абдуллин, Н. Ф. Кашапов, В. В. Кудинов: Особенности получения тонкопленочных диэлектрических покрытий на внутренних поверхностях трубчатых изделий. «Физика и химия обработки материалов», 3.- 2000.- 35 38 с.
- И. III. Абдуллин, P. Т. Галяутдинов, И. Ф. Кашапов. Синтез тонкослойных покрытий с регулируемой высокочастотной диэлектрической проницаемостью.-Москва.: Вестник МАИ.- 2000.
- И. Ш. Абдуллин, Р. Т. Галяутдинов, Н. Ф. Кашапов. Синтез тонких пленок с регулируемым поглощением методом струйного ВЧИ плазмотрона. Инженерно-физический журнал. 6.- 2000.
- Р. Т. Галяутдинов, И. Ф. Кашапов. Исследование функциональных характеристик металлодиэлектрических покрытий. Тезисы докладов научной сессии КГТУ.-Казань.: 2000.- 24 с.
- Modificatication of Fur using low-pressure EF plasma.- International Conference on Electronic Materials & European Materials Research Sosicty Spring Meeting, StrasbiH. urg (France) May 30 June 2. 2000. P87 / A-25.
- Абдуллин И. III. Кашапов И. Ф. Интеграция образования и производства. Профессиональные кадры легкой промышленности, КГТУ, 2001, с. 9.
- Хевенс О. С. Измерение оптических констант тонких пленок.- В кн.: физика тонких пленок.- М.: Мир, 1967, т.2.- С. 136 185.
- Валеев А. С. Определение оптических постоянных тонких сла-бопоглощающих слоев // Опт. и спектр, — 1963.- Т.15.- Вып.4.-С. 500 511.
- Крылова Т. П. Интерференционные покрытия.- Д.: Машиностроение, 1973, — 222 с.
- Гисин М. А., Конюхов Г. П., Несмелов Е. А. // Опт. и спектр.-1964,-Т.16.-Вып.1,-С. 151 152.
- Лященко С. П., Милославский В. К. Простой метод определения толщин и оптических постоянных полупроводниковых и диэлектрических слоев // Опт. и спектр, — 1964.- Т. 16.- Вып.1-С. 151 152.
- Bondar Е. A., Kulyupin Yu. A., Popovich N. N. The inverse problem of the phenomenological theory of the optial properties of thin films и Tin solid films.- 1978.- Vol.55.- P. 201 209.
- Абелес Ф. Оптические, свойства металлических пленок.- В кн.: Физика тонких пленок М.: Мир, 1973, т.6.- С. 171 — 227.506. ОСТЗ-1901−85
- Несмелов Е. А., Никитин А. С., Гусев А. Г., Иванов О. Н. Измерение энергии адгезии тонких пленок // ОМП.-. 1982.- № 10-С. 34 37.
- Иванов Б. Н. и др. Прибор для определения адгезии оптических покрытий методом царапин // ОМП.— 1988.— № 2.
- Муранова Г. А. Исследование микропористости тонких пленок и ее влияние на оптические характеристики одиночных слоев и многослойных систем: Автореф. дис. канд. тех. наук.- Д., 1975.22 с.
- Несмелов Е. А., Гусев А. Г., Иванов О. И., Валидов Р. М. Коэффициенты линейного расширения пленок // ОМП.- 1986.- № 9.-С. 50 52.
- Leger М., Bastien R. S. Intrinsic and thermal stress modeling for thin-film multilayers // US Dep. Commer., Nat. Bur. Stand. Spec. Publ.- 1977, — № 509. P. 230 243.
- Гиньк А. Рентгенография кристаллов.- M.: ГИФНЛ, 1961.- 604 с.
- Ашкрофт Н., Мермин Н. Физика твердого тела.- М.: Мир, 1979.-Т.1.- 400 с.
- Куликов Н. С. Термическая диссоциация соединений.- М.: Металлургия, 1969.- 570 с.
- Abdullin I. Sh., Zheltoukhin V. S., Kashapov N. F. Deposition of SiO 2 thin films using low pressure RF plasma.// ISPC 14. Edited by M. Hrabovsky, M. Konrad and V.Kopesky. Praga 1999. V. 3. P. 1339 -1343.
- Гриценко В.А. Строение и электронная структура аморфных диэлектриков в кремниевых МДП структурах. Новосибирск: ВО «Наука», 1993. — 280 с.
- Борн М., Вольф Э. Основы оптики. М.: Наука, 1973. — 720 с.
- Бернинг П.Х. Теория и методы расчета оптических свойств тонких пленок. В кн.: Физика тонких пленок. М.: Мир, 1967, т.1, с.91−151.
- Золотарев В.М., Морозов В. Н., Смирнова Е. В. Оптические постоянные природных и технических сред. Справочник Д.: Химия, 1984 — 216 с.
- Гришина Н.В. Синтез широкополосных металлодиэлектрических покрытий//Опт. и спектр.1992. Т.72. Вып.4. С.1033−1038.
- Галяутдинов Р.Т., Кашапов Н. Ф. Применение газового разряда для синтезирования широкополосных металлодиэлектрических покрытий. В сб.: Тезисы докладов X конференции по физике газового разряда. Рязань: Педуниверситет — 70, 2000, с. 189−191.
- Р. Т. Галяутдинов, Н. Ф. Кашапов. Неотражающий нейтральный оптический фильтр. Свидетельство на полезную модель, Роспатент № 2 000 129 440/20 (31 542) МПК 7602В5/52.
- Физика тонких пленок. /Под общ. ред. Г. И. Хасса, Р. Э. Туна, т. I-V, Мир, 1967−72.
- В. В. Слуцкая. Тонкие пленки в технике СВЧ. М.: Сов. радио, 1967.
- В. И. Минаков, М. 3. Коган. Производство тонкопленочных микросхем. Л.: Энергия, 1973.
- И. Е. Ефимов, Г. А. Блинов, И. Н. Волежин. Методы изготовления и электролфизические характеристики ТПК. /Электронная техника, серия 6 Микроэлектроника, 1968, вып.2'.
- Н. К. Иванов-Есипович. Технология микросхем. М.: Высшая школа, 1972.
- В. А. Зарембо, В. Ф. Зорин, Г. А. Блинов. Некоторые вопросы развития технологии изготовления гибридных микросхем на тонких пленках. Электронная техника, серния 6 Микроэлектроника, 1968, вып.2.
- Пленочная микроэлектроника. /Под ред. Л. Холланда. М.: Мир.1 А Л П1уоо.
- В. С. Сергеев, И. Н. Важенин. Интегральные гибридные микросхемы. М.: Сов. радио, 1973.
- А. В. Павлов. Структурные превращения в d переходных металлах при ионной бомбардировке. /Диссертация. Горьк. гос. унт. Горький, 1975.
- Л. С. Палатник, М. Я Фукс, Б. Т. Бойко и др. Влияние отжига на характеристики блочной структуры вакуумных конденсатов А1 и Sn. /Кристаллография, том 12, вып.5, 1967.
- Материалы II Всесоюзной конференции по ваккумной микроэлектронике. ЦНИИ «Электроника», М., 1973.
- Р. П. Мадден. Изготовление и исследование отражающих покрытий для вакуумного ультрафиолетового излучения. /В кн.: «Физика тонких пленок.» М.: Мир, 1967, т.1, с. 152.
- К. А. Кейгебауэр. Явления структурного разупорядочения в тонких металлических пленках. /В кн.: «Физика тонких пленок.» М.: Мир, 1967, т.2, с. 13.
- И. Ш. Абдуллин и др. Обработка металлических поверхностей потоком индукционной плазмы. /В кн.: «Основные направления развития и применения низкотемпературной плазмы в машиностроении и металлообработке.» Казань, 1979, с. 100.
- Г. Ю. Даутов и др. Нанесение тонких пленок высокочастотной индукционной плазмой низкого давления. Физико-химическая обработка материалов. 1978, № 6, с. 42 48.
- Б. Г. Грибов, Г. А. Домрачев, Б. В. Жук, Б. С. Каверин,'Б. И. Ко-зыркин, В. В. Мельников, О. Н. Суворова. Осаждение пленок и покрытий разложением металлоорганических соединений. М.: Наука, 1981, 322 с.
- М. Yamada, J. Tamano, К. Yoneda, S. Morita, S. Hattori. Electron beam vacuum lithography using a plasma co-copolymerezed MMA -TMT resist. //Jap. J. Appl. Phys. 1982, v.21, N5, part 1, P. 768 -771.
- M. Hon, J. Tamano, K. Yoneda, S. Morita. Effect of Sn in plasma copolymerized methylmethacrilate and tetramethyltin (MMA
- TMT) resist on plasma development far x-ray irraduation. //J. Vac. Sci. and Technol. 1986, B.4, N2, p. 500 504.
- Б. Г. Грибов, В. П. Румянцева, Н. Н. Травкин, А. С. Пашин-кин, Б. И. Козыркин, Б. А. Саламатин. Исследование металлических пленок, полученных пиролизом 7 Г комплексов хрома и молибдена в газовой фазе. //Докл. АН СССР, 1970, Т.194, № 3, с. 580 — 582.
- Г. А. Разуваев, Б. Г. Грибов, Г. А. Домрачев, Б. А. Саламатин. Металлоорганические соединения в электронике. М.: Наука, 1972, 479 с.
- Ю. Б. Зверев. Получение бис-этилбензолхрома особой чистоты. В сб.: Гидриды, галиды и металлоорганические соединения особой чистоты. М.: Наука, 1976, с. 123 133.
- Н. М. Шахверди, А. Н. Сидоренко, Г. А. Миклина, А. С. Сет-пош-кин, А. А. Туманов. Химический анализ сточных вод производства хромовых резисторов. //Химия элементоорган. соединений, 1976, Вып.4(48), с. 102 104.
- Grzegorz Р. Т., Ui’bsnczyk G. W., Lipp-Symonwicz В. Н., Kowylska S. Т. Eiflub von Neidertemperatur Plasma auf Fin Sturturi a r i i i. т→л!» // i k
- Una ЛЛ11аГ01аГКе11 VOll JTOl.yeibl.eild.btail. jj lviwnanu. х^л-оши^.1983.- V.64 № 11- S! 838−840.
- Авгонов А. А., Кузнецова A. M., Захарчук А. П. Влияние низкотемпературной плазмы на качество хлопкового волокна. // Тез.докл. XI Всесоюз. науч. конф. по текстильному материаловеде. тлг. тлоо пп -1 г* л, а л чнию. jrvHeii, хуоо.— х.х.— хи—х/.
- Wakida Т., Паи 1., Goto Т., Takagiahi Т. Changes in Bull Property of Polyethelene-rephtalate Treated with Low Temperature Plasma. t / — T7>,."---- 1 QQC T 1 «Ma О D 1 QQ 19Й/ vjriicxxi. UApicaa.- хсЮи.— v .x.— л: ь.— ±. ±ии—хби
- Ingals L В., Wo И L.M. ESR Spectra of Free Radical Intermediates Formed by Reaction of Polyestyrene with Atoms of Hydrogen and Deuterium. // J. Ghem. Phys.- 1971.- № 35.- S. 370−371.
- Василец В. H., Тихомиров JI. А., Понамарев А. Н-Исследование действия плазмы ВЧ разряда на поверхность полиэтилена. // Химия высоких энергий.- 1975.- № 5.- С. 442−447.
- Абдуллин И. ILL, Абуталипова Л. Н., Махоткина Л. 10. Влияние низкотемпературной неравновесной плазмы на водостойкость кожевенного полуфабриката. // Текстильная химия.- 1997.- № 2-С. 48−50.
- Yasuda Н. Plasma for modification of polymers. // Macromol. Sci. Chein.- 1976.- V.10.- № 3, — P. 383−420.
- Багиров M. А., Волченков Г. Я. О роли газообразных продуктов разряда при ионозационном старении полиэтиленовой пленки. // Высокомолекулярные соединения.- 1970.- № 12.- С. 853.
- Багиров М. А., Керимов Л. К., Гезалов X. Б. Применение метода ЭПР для изучения старения диэлектриков. // Высокомолекулярные соединения 1977, — Б19 — № 10.- С. 746−747.
- Wakida Т., Takeda К., Tanaka I., Takagiahi T. Free Radicals in Cellulose Fibers Treated with Low Temperature Plasma. // Text. Res. J.- 1989.- V.59.- № 1- P. 49−53.
- Wakida Т., Takeda K., Kawamura H., Tanaka I., Takagiahi T. ESR Spectra of Fibers Treated with Low Temperature Plasma. // Chem. Express.- 1987.- V.2.- № 11- P. 711−714.
- Semionescu С. I., Makoveanu M., Olaru N. Grafting of Polymers under Condition of Radiofrequency Cold Plasma. // Cellulose Chem. Teclmol.- 1976.- V.10.- P. 197−207.
- Стефанович H. H., Радугин В. А., Виленский А. И., Владыкина Т. Н., Кротова Н. А. Исследование влияния тлеющего разряда на поверхность политетрафторэтилена методом ЭПР. // Докл. АН ССР.- 1971- № 7.- С. 398−401.
- Clars D. Т., Dilks A. ESCA Applied to polymers. XXIII. R.F. Glow Discharge Modification of Polymers in Pure Oxygen and Ilelium-Oxyclen Mixture. // J. Polym. Sci.: Polym, Chem. Ed.- 1979 -V.17 № 4 — P. 957−976.
- Митченко Ю. И., Фенин В. А., Чеголя А. С. Структурно-химические превращения полимеров, подвергнутых действию газового разряда. // Высокомолекулярные соединения.- 1989.— Т.31- № 2, — С. 16−17.
- Садова С. Ф. Исследование механизма воздействия низкотемпературной плазмы на шерстяное волокно. // Перспективы применения плазмен. технол. в текст, и легкой промышл.: Тез. докл. Всесоюз. семин.- Иваново, 1989.- С. 85−87.
- Акулова М. В., Блиничева И. Б., Мельников А. И. Влияние тлеющего разряда на структуру полиэфирных нитей. // Изв. ВУЗов. Химия и хим. технология.- 1981.- № 9.- С. 85−87.
- Ganca L., Malcik P., Petrovsky J. Textile Polymers Treated by RF and Silint Discharge Plasma. // Folia.- 1978.- V.19.- № 1.- P. 6574.
- Головтеева А. А., Куциди Д. А., Санкин JI. Б. Лабораторный практикум по химии и технологии кожи и меха.-М.:Легпромбытиздат, 1987.- 283 с.
- Геиас С. И. Декоративная обработка изделий из пластмасс,— Л.: Химия, 1978.- 120 с. 1. ГПГ: — • v ¦