Разработка программно-аппаратного комплекса для диагностики и управления газовыми потоками в реакторах для быстрых термических процессов
Диссертация
Многообразие систем и комплексов управления в настоящее время достигло невероятного размаха. С каждым днем появляются новые разработки в совершенно различных отраслях деятельности человека. Прогресс в этой области вполне объясним последними достижениями микроэлектроники, в том числе миниатюризацией и увеличением возможностей элементной базы. Естественно, микроэлектроника также нуждается… Читать ещё >
Список литературы
- Salzer J.M. RTP: What’s Ahead? il Solid State Technology. — 1992 — V5. -P. 62−63.
- Lojek B. The evolving role of Rapid Thermal Processing for deep submicron devices.-Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing. Ed. Roozeboom F. // NATO ASI Series. 1996. — Vol. 318. — P. 465 — 492.
- Roozeboom F. History and perspectives of Rapid Thermal Processing.-Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing. Ed. Roozeboom F. // NATO ASI Series. Vol. 318. — 1996. — P. 1 — 34.
- Roozeboom F. Manufacturing Equipment Issues in Rapid Thermal Processing.- Rapid Thermal Processing. Science and Technology. Ed. Richard B. Fair: Academic Press, Inc. -1991. -P. 349 360.
- Borisenko V.E., Hesketh P.J. Rapid Thermal processing of semiconductors. -Microdevices. Physics and Fabrication Technologies. Series Editors: I. Brodie and A. Sher. // SRI International Menlo Park, CA. -1997. -P. 225.
- Saraswat K.C. Rapid Thermal Multiprocessing for a programmable factory for manufacturing of ICs. Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing. Ed. Roozeboom F. // NATO ASI Series. — 1996. — Vol. 318. — P. 375 — 414.
- Moslehi M.M., Paranjpe A., Velo L.A., Kuehne J. RTP Key to Future Semiconductor Fabrication // Solid State Tecnology. — 1994. — Vol. 318. — Iss 2. — P. 37.
- Reid K.G., Sitaram A.R. Rapid Thermal Processing for ULSI AP. lications -An Overview // Solid State Technology. 1996. — Vol. 39. — Iss 2. — P. 63.
- Snnikrishnan U., Yoon G.W., Kwong D.L. Applications of Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition Technology to ULSI Material Processing and Device Fabrication // Thin Solid Films. 1994. — Vol. 241. — Iss 1 — 2. — P. 329 — 334.
- Dehart В., Johnsgard K. New Developments in Rapid Thermal-Processing // Solid State Technology. 1996. — Vol. 39. — Iss 2. — P. 107.
- Dilhac J.- M. Temperature and process control in Rapid Thermal Processing. Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing. Ed. Roozeboom F. //NATO ASI Series. — 1996. — V. 318. — P. 143 — 162.
- Schietinger C. Wafer temperature measurement in RTP. Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing. Ed. Roozeboom F. // NATO ASI Series. -1996.-V. 318.-P. 103- 124.
- Олей ни к Б.Н., Лаздина С. И., Л аз дин В.П., Жагулло О. М. Приборы и методы температурных измерений. М.: Изд-во стандартов, 1987, — 296 с.
- Гimans P.J. Temperature Measurement in Rapid Thermal Processing // Solid State Technology. 1997. — Vol. 40. — Iss 4. — P. 63.
- Wagner J. and Boebel F.G. Temperature Measurement at RTP Facilities -An Overview. Rapid Thermal and Integrated Processing MRS Symposium Proc. -1996.-Vol. 429.-P. 303 -308.
- Lee Y.J., Khuriyakub В.Т., Saraswat K.C. Temperature Measurement in Rapid Thermal Process Using Acoustic Techniques // Review of Scientific Instruments. 1994. — Vol 65. — Iss 4. — P. 974 — 976.
- Degertekin F.L., Khuriyakub B.T., Saraswat K.C. In situ Acoustic Temperature Tomography of Semiconductor // Wafers Applied Physics Letters. -1994. Vol. 64. — Iss. 11. — P. 1338- 1340.
- Батавии B.B., Концевой Ю. А., Федорович Ю. В. Измерение параметров полупроводниковых материалов и структур. -М.: Радио и связь, -1985.-С. 117 122.
- Conrad К.А., Sampson R.K., Massoud H.Z., Irene E.A. Design and Construction of a Rapid Thermal Processing System for in-situ Optical Measurements // Review of Scientific Instruments. 1996, — Vol. 67. — Iss 11. — P. 3954 — 3957.
- Guidotti D. Optical Reflectance Thermometry for Rapid Thermal Processing // Journal of Vacuum Science and Technology. B. 1998. — Vol. 16. — Iss 2. — P. 609 -612.
- Dilhac J.-M., Ganibal C. and Castan. In situ reflectivity measurement in a rapid thermal processor for study of platinum silicide formation // Appl. Phys. Lett. -1989. Vol. 55. — P. 2225 — 2226,
- Dilhac J.-M, Nolhier N. and Canibal C. In situ silicon solid phase regrowth kinetics measurement in a rapid thermal processor // Appl. Surface Science. 1990. -Vol. 46,-P. 451−454.
- Peters L. Semiconductor International. -1991. Vol. 14 (9). — P. 56 -62.
- Voorthes D.W. and Hall D.M. Soc. Photo Opt. Instrum. Eng. Symp. Proc. -1991. — Vol. 1595. -P.61 -64.
- Jongste J.F., T.G.M.O.G.C. Bart, G.C.A.M. Janssen, Radellaar S. Deformation of Si (100) wafers during rapid thermal annealing // J. Appl. Phys. 1994. -Vol. 75.-P. 2830−2836.
- Вест Ч. Голографическая интерферометрия.- М.: Мир, 1982. — 504 с.
- Бекетова А.К., Белозеров А. Ф., Березкин А. Н. и др. Голографическая интерферометрия фазовых объектов. JL: Наука, — 1979, — 232 с.
- Giling Г. J. Flow Patterns in Horizontal Epitaxial Reactor Cells Observed by Interference Holography // J. Electrochem. Soc. 1982. — V. 129. — № 3. — P. 634 -644.
- Райнова Ю.П., Турилин С. М., Антоненко К. И., Сорокин И. Н. Исследование газовых потоков при эпитаксии кремния // Неорганические материалы. 1995 .- том 31. — № 2. — С. 151 — 159.
- Rainova Yu.P., Pezoldt J., Antonenko K.I., Eichhorn G. Application of Holographic Interferometiy to Flow Pattern Visualization in a RTCVD reactor //Rapid Thermal andtotegrated Processing. V, MRS Symp. Proc. 1996. — Vol. 429. — P. 65 -70.
- Сазонов A.A., Корнилов Р. В., Кохан Н. П., Лукичев Ю., Осокин В. И., Таран В. А., Федукин В. А. Автоматизация технологического оборудования микроэлектроники. М.: Высшая школа. 1991. — 334 с.
- Пузырев В.А. Управление технологическими процессами производства микроэлектронных приборов. М.: Радио и связь, -1984. — 160 с.
- Автоматизированное управление технологическими процессами. Учебное пособие под ред. Яковлева В. Б. Л.: Издательство Ленинградского университета, — 1998. — С. 103.
- Dilhac J.-M., Ganibal C., Bordeneuve J. and Nolhier N. Temperature control in a rapid thermal processor // IEEE Trans. Electron Dev. 1992. — Vol. 39. -P. 201 -203.
- Thakiir R.P., Schuegraf K., Fazan P., Rhodes H. RTP Manufacturing Perspective // Solid State Technology. — 1996. — Vol. 39. — Iss 4. — P. 99.
- Зейликович И.С., Спорник H.M. Топографическая диагностика прозрачных сред. Минск: Университет, — 1998. — 208 с.
- Meyer Y. Wavelets: Algorithms and Applications. SIAM. 1993.
- Meyer Y. Wavelets, vibrations and scalings. CRM monograph series. // AMS. 1998. — Vol. 9.
- Daubechies I. Ten Lectures on Wavelets. SIAM. 1992.
- Петухов В.А. Периодические дискретные всплески. Алгебра и анализ. 1996.-8.-№ 3,-С. 151−183.
- Готра З.Ю. Технология микроэлектронных устройств. М.: Радио и связь, — 1991. — 528 с.
- Антоненко К.И., Арендаренко А. А., Райнова Ю. П., Сорокин И. Н., Турилин С. М. Исследование газовых потоков в реакторе радиального типа дляэпитаксии GaAs // Изв. РАН. Механика жидкости и газа. 1996. — № 6. — С. 118 124.
- Солодовников В.В. Техническая кибернетика. Теория автоматического регулирования. М.: Машиностроение, — 1969. — Кн. 3. — Ч. 1. -608 с.
- Воронов A.A., Бабаков H.A., Воронова A.A. и др. Теория автоматического управления. Под ред. Воронова A.A. М.: Высшая школа, -1986. -Ч 1.-367 с.
- Воронов A.A., Ким Д.П., Лохин В. М. и др. Теория автоматического управления. Под ред. Воронова A.A. М.: Высшая школа, — 1986. — Ч. 2. — 504 с.
- Солодовников В.В. Техническая кибернетика. Теория автоматического регулирования. М.: Машиностроение, — 1969. — Кн. 3. — Ч. 3. -368 с.
- Бархоткин A.B., Кочкарев A.A. Влияние современных компьютерных средств на динамические характеристики систем управления. Сюрн (Л К
- Траксел Д. Синтез систем автоматического регулирования. М.: Машгиз, — 1959. — 614 с.172