Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Газофазные реакции органофторсиланов типа RSiF3, инициируемые инфракрасным лазерным излучением

Диссертация: Газофазные реакции органофторсиланов типа RSiF3, инициируемые инфракрасным лазерным излучением
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Мы знаем, что колебательное возбуждение очень эффективно в промотировании мономолекулярных реакций Я81Р3. А возможно ли использовать трифторсилильную группу в качестве ИК антенны для инициирования бимолекулярной реакции? Этот вопрос имеет очень общий характер и касается роли колебательной энергии в преодолении активационного барьера столкновительных процессов. Возможность лазерного ускорения была… Читать ещё >

Газофазные реакции органофторсиланов типа RSiF3, инициируемые инфракрасным лазерным излучением (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • Глава 1. Обзор литературы
    • 1. 1. Методы получения органотрифторсиланов
      • 1. 1. 1. Получение органотрихлорсиланов
      • 1. 1. 2. Получение галогенированных органотрихлорсиланов
      • 1. 1. 3. Фторирование органотрихлорсиланов
    • 1. 2. Электронное строение фторсиланов
      • 1. 2. 1. Спектральные данные
      • 1. 2. 2. Кинетические данные
      • 1. 2. 3. Расчетные данные
    • 1. 3. Постановка задачи
  • Глава 2. Материалы и методы
    • 2. 1. Приготовление веществ
    • 2. 2. Экспериментальная установка
    • 2. 3. Квантовохимические расчеты
  • Глава 3. Сравнительное исследование алкилтрифторсиланов
    • 3. 1. Инфракрасные спектры и многофотонное поглощение
    • 3. 2. Инфракрасная лазерная фотодиссоциация
    • 3. 3. Энергии разрыва связей
  • Глава 4. Исследование влияния колебательного возбуждения на скорость бимолекулярной реакции
    • 4. 1. Ускорение реакции ВТФС и ДА под действием ИК излучения
    • 4. 2. Состав продуктов реакции
    • 4. 3. Кинетическая модель превращения колебательной энергии
    • 4. 4. Кинетический анализ при импульсном инициировании реакции
  • Глава 5. Инфракрасная фотохимия галогенэтилтрифторсиланов
    • 5. 1. Инфракрасная фото диссоциация дБЭТФС
    • 5. 2. Инфракрасный спектр и многофотонное поглощение ХЭТФС
    • 5. 3. Фотоиндуцированная реакция ХЭТФС
    • 5. 4. Выход диссоциации ХЭТФС
    • 5. 5. Разделение изотопов кремния через фотореакцию ХЭТФС
    • 5. 6. Инфракрасная фотодиссоциация БЭТФС
    • 5. 7. Выбор рабочего вещества для метода МЛРИ

Использование ИК лазеров в химии имеет потенциально большое практическое значение, поскольку позволяет селективно управлять химической реакцией [1- 2]. Селективность лазерного воздействия может быть как межмолекулярной, так и внутримолекулярной [3]. Существуют разные схемы селективного контроля в зависимости от типа реакции и от характеристик используемого лазерного источника. Самый простой способ — быстрый нагрев колебательных степеней свободы молекул путем многофотонного возбуждения — дает возможность провести химическую реакцию селективно по сорту молекул [4]. Связь-селективная химия происходит, когда с помощью лазера энергия вносится в индивидуальную колебательную моду, которая затем становится координатой реакции [5]. С помощью фемтосекундных лазеров можно управлять движением волновых пакетов в молекулярных системах [6- 7].

На пути практического применения принципов лазерной химии стоит много трудностей. И это не только дороговизна мощной лазерной техники, но и релаксационные процессы, которые приводят к статистическому перераспределению энергии и препятствуют селективному контролю [8- 9]. Поэтому на сегодняшний день селективная лазерная химия все еще остается предметом научных исследований. Исключение составляют несколько направлений лазерной химии, обладающих межмолекулярной селективностью. Так, серьезное развитие получили методы молекулярно-лазерного разделения изотопов элементов (МЛРИ) на основе инфракрасной многофотонной диссоциации [10]. Соотношение ценности изотопических материалов и стоимости доступных инфракрасных лазеров (главным образом — С02-лазера) сделали это направление практически интересным. Например, был успешно реализован проект «Углерод» по разделению изотопов углерода [И], а недавно была предложена перспективная схема для разделения изотопов кислорода, использующая ретро-реакцию Дильса-Альдера [12]. Появление новых лазерных источников среднего инфракрасного диапазона, таких как полупроводниковые лазеры [13] и лазеры на свободных электронах [14- 15], дает шанс на возрождение колебательной фотохимии многоатомных молекул [16- 17- 18].

Актуальность данной работы по СОг-лазерной ИК-фотохимии обусловлена строительством третьей очереди Новосибирского лазера на свободных электронах (ЛСЭ) [19- 20]. Этот новый лазерный источник будет способен перестраиваться в широком диапазоне частот средней и дальней ИК областей, что сулит уникальные экспериментальные возможности для колебательной фотохимии. Несмотря на то, что С02-лазерная фотохимия была объектом пристального внимания много лет назад [21- 22], в лаборатории лазерной фотохимии Института химической кинетики и горения СО РАН это направление было реанимировано благодаря появлению ЛСЭ. Более того, исследования с использованием С02-лазера были начаты для решения актуальной и практически важной задачи, а именно для разработки технологии МЛРИ кремния.

Дело в том, что кремний является основным элементом полупроводниковой индустрии, при этом в природе содержится три его изотопа 2881 (92,22%), 2981 (4,69%) и 3081 (3,09%). За последнее время созданы предпосылки для использования изотопически чистого кремния. Например, экспериментально показаны преимущества моноизотопного кремния для.

7Я микроэлектроники: в кристаллах моноизотопного кремния 81 повышается теплопроводность, а нейтронное легирование по схеме 3081 + п° —> 3181 —> 31Р + е" позволяет создавать однородное распределение донорной примеси [23]. А также существует очень привлекательная перспектива создания квантового компьютера на основе кремниевых изотопных гетероструктур [24].

Изотопы кремния в настоящее время доступны по традиционной газоцентрифужной технологии [25]. Однако себестоимость центробежного метода очень высока, так как газовая центрифуга обладает низким коэффициентом разделения. Поэтому во многих лабораториях пытались разработать более эффективный лазерный метод [26- 27- 28]. Цикл статей лаборатории ЛФХ ИХКГ по этой теме обобщен в диссертации Кошлякова П. В.

29]. Работа посвящена поиску соединений кремния, подходящих для лазерного разделения изотопов. На примере СН381Р3, С2Н381Р3 и С1СН281Р3 была показана принципиальная пригодность трифторидов кремния для разделения изотопов. Валентные колебания связей кремний-фтор имеют сильное поглощение в инфракрасном спектре в области генерации углекислотного лазера, поэтому для этих соединений удается проводить эффективное колебательное возбуждение молекул при умеренной плотности энергии лазерного излучения. Так при сечении поглощения на максимуме спектральных полос в 10″ 19−10″ 18 см² эти соединения поглощают десятки квантов несфокусированного излучения С02-лазера, что приводит к многофотонной диссоциации. К тому же валентные колебания связей кремний-фтор имеют существенные изотопные сдвиги по кремнию. Интересно, что при этом связи кремний-фтор являются очень прочными, в результате чего вся фотохимия связана с присутствием органического заместителя. Природа заместителя оказалась настолько существенной для механизма фотоиндуцированного превращения, что в случае 1,2-дихлорэтилтрифторсилана С1СН2С1СН81Р3 проявилась очень интересная реакция. Это соединение под действием инфракрасного излучения претерпевает бета-элиминирование, в результате которого образуются молекулярные продукты: п/ш.

С1СН2С1СН81Рз —> СН2СНС1 + ОБ^з.

Замечательно, что эту реакцию можно провести с очень высокой изотопической селективностью за счет отсутствия вторичных радикальных реакций. Кроме того, продукты реакции различаются по своим физическим и химическим свойствам, что имеет большое значение для метода разделения, поскольку они могут быть легко отделены от исходного реагента и друг от друга.

Ввиду того, что трифторкремниевая группа 81Р3 оказалась хорошим инфракрасным хромофором, а также из-за ценности полученных данных для разделения изотопов кремния представляется целесообразным продолжить исследования инфракрасной лазерной фотохимии кремнийорганических соединений типа 1181Р3.

Цель настоящей работы — изучение хромофорных свойств группы 81Р3 с точки зрения применения ее для различных фотохимических процессов, индуцируемых ИК лазерным излучением. Объектами исследования являются органофторсиланы вида 118 ¿-Р3. Лазерная химия таких соединений, как уже было отмечено, сильно зависит от природы Я. Причем чем сложнее Я, тем, очевидно, богаче многообразие возможных превращений. Очень важно узнать, как влияет заместитель на группу 81Р3, насколько характеристичны частоты валентных колебаний этой группы. Другой вопрос, как в свою очередь группа 81Р3 влияет на боковой радикал. Может быть, хромофор сам определяет направление фотореакции. Для того чтобы прояснить эти вопросы, необходимо поварьировать заместитель К.

Мы знаем, что колебательное возбуждение очень эффективно в промотировании мономолекулярных реакций Я81Р3. А возможно ли использовать трифторсилильную группу в качестве ИК антенны для инициирования бимолекулярной реакции? Этот вопрос имеет очень общий характер и касается роли колебательной энергии в преодолении активационного барьера столкновительных процессов. Возможность лазерного ускорения была продемонстрирована для реакций небольших молекул с атомами и свободными радикалами [30]. Влияние колебательного возбуждения на скорость бимолекулярных реакций многоатомных молекул остается недостаточно изученным вопросом. Чтобы разобраться в нем, нужно подобрать подходящую модельную систему. Исходный трифторид должен нести некоторый реакционный центр на своем органическом заместителе Я, а его партнер должен обладать достаточной активностью. Задача заключается в том, чтобы инициировать бимолекулярную реакцию посредством лазерного возбуждения силана Я81Р3 и в случае успеха выяснить роль колебательной энергии.

Отдельно стоит вопрос разделения изотопов кремния. Последние достижения в области наноинжиниринга полупроводников делают все более реалистичным будущее квантовых компьютеров с использованием изотопных разновидностей кремния [31- 32- 33- 34]. Поэтому стоит довести дело по лазерному методу разделения изотопов кремния до конца и предложить субстрат наиболее пригодный для практического внедрения. Можно ожидать, что и другие соединения типа 81РзСпН2П+1.тХт с атомом галогена в положении 2 боковой цепи могут подобно 1,2 дихлорэтилтрифторсилану подвергаться реакции бета-элиминирования под действием лазера:

Необходимо исследовать такие соединения и выбрать вещество с наилучшими характеристиками. Однако здесь стоит руководствоваться одним очень важным критерием, который позволяет ограничить круг потенциально пригодных веществ. Это очевидное соображение о доступности вещества. Ведь каким бы хорошим не был процесс разделения, но если он требует дорогостоящих субстратов, коммерческая ценность такого метода сильно снижается и вообще может свестись к нулю. Критерий доступности следует обозначить как свободное наличие на рынке или, в крайнем случае, как возможность получения вещества из промышленно производимых продуктов в минимальное количество стадий и с высоким выходом.

Научная новизна работы.

В работе применен системный подход к изучению ИК фотохимии отдельного класса соединений — органотрифторсиланов Ь^Рз. Исследованы спектроскопические и фотохимические свойства гомологичных алкилтрифторсиланов. Показано, что трифторсилильная группа влияет на связь кремний-углерод, что проявляется в ее значительном упрочнении. Кроме того, было обнаружено, что в высших органотрифторсиланах валентные колебания связей кремний-фтор не являются характеристическими.

С помощью излучения ИК лазера была инициирована бимолекулярная реакция винилтрифторсилана и диоксида азота путем колебательного возбуждения ВТФС. Для выяснения роли лазерного воздействия в ускорении реакции был разработан кинетический подход, учитывающий процессы превращения колебательной энергии. Предложенная методика кинетического анализа позволяет определить, происходит ли реакция в условиях неравновесного распределения молекул. Установлено, что в рассмотренном случае ускорение реакции обусловлено равновесным тепловым разогревом реакционной смеси.

С учетом общих требований, предъявляемых к рабочему веществу лазерного метода разделения изотопов, были отобраны и исследованы несколько галогенэтилтрифторсиланов. Установлено, что из исследованного ряда только одно соединение реагирует по механизму бета-элиминирования -2-хлорэтилтрифторсилан (ХЭТФС). Обнаружено, что ХЭТФС очень эффективен в разделении изотопов кремния, продемонстрированы.

29 30 коэффициенты разделения по изотопам 81 и 81 200 и 1650 соответственно.

Практическая значимость.

В работе опробованы экспериментальные подходы, которые создают методическую основу для изучения химических реакций под действием излучения третьей очереди Новосибирского ЛСЭ.

Описанные в работе свойства группы SiF3 позволяют использовать ее в качестве ИК хромофора в различных фотохимических и фотофизических процессах.

Исследованная в работе фотореакция ХЭТФС, протекающая под действием излучения СОг-лазера, имеет наилучшие показатели по разделению изотопов кремния и могла бы стать основой для разработки промышленной технологии.

Защищаемые положения.

Закономерности в ИК спектроскопических и фотохимических свойствах соединений типа RSiF3;

Химические основы молекулярно-лазерного метода разделения изотопов кремния.

Список публикаций.

Наиболее значимые результаты данной квалификационной работы опубликованы в виде трех статей в рецензируемых индексируемых журналах:

1. P. S. Dementyev, A. S. Nizovtsev, Е. N. Chesnokov. Infrared photolysis of alkylfluorosilanes F3SiCnH2"+j, n = 1−3 II Journal of Molecular Structure. 2011. V. 990. P. 271−275. DOI 10.1016/j.molstruc.2011.01.057.

2. П. С. Дементьев, П. В. Кошляков, Е. H. Чесноков. Газофазное окисление винилтрифторсилана диоксидом азота под действием импульсного С02 лазера II Кинетика и катализ. 2010. Т. 51. № 5. С. 650−660. DOI 10.1134/S0023158410050022.

3. P. S. Dementyev, A. S. Nizovtsev, Е. N. Chesnokov. Infraredphotoreaction of 2-chloroethyltrifluorosilane II Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry. 2011. V. 222. P. 77−80. DOI 10.1016/j.jphotochem.2011.05.004.

Менее существенные данные опубликованы как тезисы докладов конференций. Всего в ходе работы опубликовано более десяти тезисов конференций различного уровня.

Апробация работы.

Результаты диссертационного исследования обсуждались на Международной научной студенческой конференции (Новосибирск, 2008 и 2009), V Всероссийской конференции «Высокореакционные интермедиаты химических реакций» (Московская область, пансионат «Юность», 2010), XIV конференции «Высокочистые вещества и материалы. Получение, анализ, применение» (Нижний Новгород, 2011), Всероссийской молодежной конференции «Успехи химической физики» (Черноголовка, 2011) и на XXIII Симпозиуме «Современная химическая физика» (Туапсе, 2011).

Личный вклад соискателя.

Автор диссертации участвовал в постановке задач исследования и сформулировал план их решения. Вся экспериментальная работа, включая синтез исследуемых веществ, выполнена лично автором. Квантовохимические расчеты, результаты которых представлены в главах 3 и 5, проведены А. С. Низовцевым. Феноменологическое описание процессов межмолекулярной релаксации в главе 4 предложено Е. Н. Чесноковым. П. В. Кошляков принимал участие в постановке некоторых экспериментов из главы 4. Обработку, анализ и интерпретацию данных, а также подготовку публикаций провел соискатель.

Структура и объем диссертации

.

Диссертация состоит из введения, 5 глав, заключения, списка литературы (157 наименований) и приложения. Работа изложена на 117 страницах и содержит 23 рисунка, 4 таблицы и 4 таблицы приложения.

Выводы:

1) Частоты валентных колебаний связей кремний-фтор в инфракрасных спектрах соединений типа Ь^Бз не являются характеристическими.

2) В инфракрасных спектрах соединений типа Ы^Рз сечение поглощения в области 10 мкм сохраняет высокое значение на уровне 10″ 19−10″ 18 см².

3) Соединения типа Я81Рз имеют высокую прочность связи кремний-углерод с энергией разрыва более 400 кДж/моль.

4) Высокая электрофильность атома кремния группы 81Р3 ограничивает ее применение в качестве нейтрального ИК хромофора.

5) Наилучшие показатели элементарного акта разделения по изотопам кремния.

30 * 29 *.

81 и 81 достигаются в фотореакции 2-хлорэтилтрифторсилана. Изотопообогащенный продукт реакции легко отделяется от реакционной смеси физическими методами.

6) Фотореакция 2-хлорэтилтрифторсилана, инициируемая излучением С02-лазера, могла бы стать основой для разработки технологии МЛРИ кремния.

Заключение

.

В работе исследованы газофазные реакции органотрифторсиланов, инициируемые излучением импульсного С02-лазера. Благодаря валентным колебаниям связей кремния-фтор соединения типа Ь^Бз хорошо поглощают инфракрасное излучение. Сильное колебательное возбуждение молекул значительно увеличивает их реакционную способность, что позволяет проводить селективные химические превращения.

Основными инструментальными методами для изучения фотохимических процессов под действием излучения С02-лазера были инфракрасная и масс-спектрометр ия. Экспериментальные данные в ряде случаев подкреплялись квантовохимическими расчетами. В ходе работы были приготовлены и впервые исследованы пять веществ. В соответствии со структурой диссертации результаты работы можно разделить на три блока.

Инфракрасная лазерная диссоциация гомологичных алкилфторсиланов СпН2п+181Рз показала, что трифторсилильная группа сильно влияет на связь кремний-углерод и не воздействует на углеводородную цепь. Эффект проявляется в упрочнении связи БьС, что согласуется с представлениями о сильном кулоновском взаимодействии за счет поляризации как связей, так и связи 8ьС. Кроме того, было обнаружено взаимодействие, которое приводит к смешиванию валентных колебаний кремний-фтор с валентными колебаниями углеводородного скелета. В результате такого взаимодействия колебательные частоты связей кремния-фтор в высших органотрифторсиланах теряют свою характеристичность. ИК спектры в области генерации С02-лазера становятся очень сложными с широкими перекрывающимися полосами поглощения. Однако интегральная интенсивность поглощения сохраняет свое высокое значение.

С помощью излучения инфракрасного лазера удалось инициировать модельную бимолекулярную реакцию винилтрифторсилана и диоксида азота. Реакция происходит в результате колебательного возбуждения винилтрифторсилана. Для выяснения роли лазерного воздействия в ускорении реакции была разработана теоретическая модель превращения колебательной энергии в терминах внутренних температур. Анализ кинетических кривых позволил выявить три стадии колебательной релаксации: стадию колебательного возбуждения молекул поглощающего вещества, стадию, где колебательная температура реагентов сильно отличается от поступательной, и стадию равновесного нагрева системы. Предложена методика кинетического анализа для выявления стадии, на которой протекает химическая реакция. Установлено, что в изучаемом случае ускорение реакции обусловлено равновесным разогревом системы. Можно надеяться, что развитый подход будет полезен при дальнейшем изучении лазерно-стимулированных бимолекулярных реакций. Однако практическое применение трифторкремниевой группы в качестве инертного хромофора для таких процессов, по-видимому, весьма ограничено. Из-за большого сродства атома кремния к кислороду группа 81Р3 может стать паразитным химически активным центром для широкого круга реагентов.

Практически ориентированное исследование инфракрасной фотохимии галогенэтилтрифторсиланов было направлено на развитие лазерного метода разделения изотопов кремния. Цель исследования заключалась в том, чтобы определить наилучшее рабочее вещество для технологии МЛРИ. Выбор потенциальных кандидатов на эту роль основывался на данных по ИК фотохимии 1,2-дихлорэтилтрифторсилана и производился с учетом коммерческой доступности веществ. Установлено, что из исследованного ряда соединений по механизму бета-элиминирования реагирует только 2-хлорэтилтрифторсилан. Фотореакция этого субстрата была детально изучена, оказалось, что он очень эффективен в разделении изотопов. Сравнение 2-хлорэтилтрифторсилана и 1,2-дихлорэтилтрифторсилана показало, что по параметрам фотопроцесса вновь исследованное соединение значительно превосходит реперный субстрат.

По результатам диссертационного исследования можно сделать несколько обобщающих выводов.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Zewail А. H. Laser selective chemistry is it possible? 11 Phys. Today. 1980. Vol. 33, P. 27−35.
  2. Zare R. N. Laser Control of Chemical Reactions // Science. 1998. Vol. 279. P. 1875−1879.
  3. Quack M. Infrared laser chemistry and the dynamics of molecular multiphoton excitation // Infrared Phys. 1989. Vol. 29. P. 441−466.
  4. Lupo D. W., Quack M. IR-Laser photochemistry // Chem. Rev. 1987. Vol. 87. P. 181−216.
  5. Crim F. F. Bond-Selected Chemistry: Vibrational State Control of Photodissociation // J. Phys. Chem. 1996. Vol. 100. P. 12 725−12 734.
  6. Zewail A. H. Femtochemistry: Recent Progress in Studies of Dynamical and Control of Reactions and Their Transition States // J. Phys. Chem. 1996. Vol. 100. P. 12 701−12 724.
  7. Rabitz H., de Vivie-Riedle R., Motzkus M., Kompa K. Whither the Future of Controlling Quantum Phenomena? // Science. 2000. Vol. 288. P. 824−828.
  8. Flynn G. W., Parmenter C. S. Vibrational Energy Transfer // J. Phys. Chem. 1996. Vol. 100. P. 12 817−12 838.
  9. Nesbitt D. J., Field R. W. Vibrational Energy Flow in Highly Excited Molecules: Role of Intramolecular Vibrational Redistribution // J. Phys. Chem. 1996. Vol. 100. P. 12 735−12 756.
  10. В. С., Рябов Е. А. Многофотонная изотопически-селективная ИК диссоциация молекул // Изотопы: свойства, получение, применение, ред. Баранов В. Ю. М.: Физматлит. 2005. Т. 2. С. 445−459.
  11. В. Ю., Дядькин А. П., Летохов В. С., Рябов Е. А. Лазерное разделение изотопов углерода // Изотопы: свойства, получение, применение, ред. Баранов В. Ю. М.: Физматлит. 2005. Т. 2. С. 460−474.
  12. Hashimoto M., Ohba H., Yokoyama A. Oxygen isotope separation utilizing two-frequency infrared multiphoton dissociation of 2,3-dihydropyran // Appl. Phys. B. 2011. Vol. 104. P. 969−974.
  13. Williams B. S. Terahertz quantum-cascade lasers //Nature Photonics. 2007. Vol. 1. P. 517−525.
  14. Edwards G. S., Allen S. J., Haglund R. F., Nemanich R. J., Redlich В., Simon J. D., Yang W. Applications of Free-Electron Lasers in the Biological and Material Sciences // Photochem. Photobiol. 2005. Vol. 81. P. 711−735.
  15. Van der Meer A. F. G., Van der Wiel M. J. Mid-IR FEL User Facility FELIX // Appl. Spectrosc. 1997. Vol. 51. P. 574−575.
  16. Quack M. IR Laser Chemistry // Infrared Phys. Technol. 1995. Vol. 36. P. 365−380.
  17. Miyamoto Y., Majima Т., Arai S., Katsumata K., Akagi H., Maeda A., Hata H., Kuramochi K., 13
  18. Kato Y., Tsukiyama K. C-selective infrared multiple photon dissociation of b-propiolactone by a free electron laser//Nucl. Instr. Meth. Phys. Res. B. 2011. Vol. 269. P. 180−184.
  19. Kanda Т., Kato Y., Imai Т., Tsukiyama K. Unimolecular isomerization from (СНз)зСЫС to (CH3)3CCN induced by infrared free electron laser // Nucl. Instr. Meth. Phys. Res. B. 2011. Vol. 269. P. 1944−1946.
  20. Knyazev B. A., Kulipanov G. N., Vinokurov N. A. Novosibirsk terahertz free electron laser: instrumentation development and experimental achievements // Meas. Sci. Technol. 2010. Vol. 21. P. 54 017−54 030.
  21. Kubarev V. V., Kulipanov G. N., Shevchenko O. A., Vinokurov N. A. Third Harmonic Lasing on Terahertz NovoFEL // J. Infrared Milli. Terahz. Waves. 2011. DOI 10.1007/s 10 762−011−9788−3.
  22. В. H., Молин Ю. Н. Инфракрасная фотохимия // Успехи химии. 1978. Т. 67. С. 967−991.
  23. Ю. Н., Панфилов В. Н., Петров А. К. Инфракрасная фотохимия. Новосибирск: Наука, 1985. 254 с.
  24. Е. Е. Physics with isotopically controlled semiconductors // Физ. техн. полупровод. 2010. Т. 44. С. 871−882.
  25. К. М. An all-silicon linear chain NMR quantum computer // Solid State Comm. 2005. Vol. 133. P.747−752.ло лл ЛЛ
  26. Bulanov A. D., Gusev A. V. High-Purity Silicon Isotopes Si, Si, and Si // Inorganic Materials. 2008. Vol. 44. P. 1395−1408.
  27. Lyman J. L., Newnam В. E., Noda Т., Suzuki H. Enrichment of Silicon Isotopes with Infrared Free-Electron Laser Radiation // J. Phys. Chem. A. 1999. Vol. 103. P. 4227−4232.
  28. M., Boyarkin О. V., Rizzo T. R., Apatin V. M., Laptev V. В., Ryabov E. A. Infrared Laser Chemistry of Trichlorosilane in View of Silicon Isotope Separation // J. Phys. Chem. A. 2003. Vol. 107. P. 8578−8583.
  29. П. В. Поиск и изучение перспективных кремнийорганических молекул для селективной по изотопам кремния инфракрасной многофотонной диссоциации // диссертация. Новосибирск, 2010. 135 с.
  30. Kneba M., Wolfrum J. Bimolecular reactions of vibrationally excited molecules // Ann. Rev. Phys. Chem. 1980. Vol. 31. P. 47−73.
  31. Hayashi H., Itahashi T., Itoh K. M., Vlasenko L. S., Vlasenko M. P. Dynamic nuclear polarization of 29Si nuclei in isotopically controlled phosphorus doped silicon // Phys. Rev. B. 2009. Vol. 80. P. 45 201-(1−10).
  32. Rahmana M. R., Vlasenko M. P., Vlasenko L. S., Haller E. E., Itoh К. M. Splitting of electron paramagnetic resonance lines of lithium-oxygen centers in isotopically enriched 28Si single crystals // Solid State Commun. 2010. Vol. 150. P. 2275−2277.
  33. Moutanabbir O., Isheim D., Seidman D. N., Kawamura Y., Itoh К. M. Ultraviolet-laser atomprobe tomographic three-dimensional atom-by-atom mapping of isotopically modulated Si nanoscopic layers // Appl. Phys. Lett. 201. Vol. 98. P. 1 311 l-(l-3).
  34. И. Органическая химия кремния // Общая органическая химия, ред. Д. Бартон и У. Д. Оллис. М.: Химия, 1984. Т. 6. С. 66−233.
  35. К. А., Хананашвили JI. М. Технология элементоорганических мономеров и полимеров. М.: Химия, 1973. 400 с.
  36. К. А. Кремнийорганические соединения. М.: ГХИ, 1955. 521 с.
  37. К. А. Методы элементоорганической химии. Кремний. М.: Наука, 1968. 699 с.
  38. Gilliam W. F., Liebhafsky H. A., Winslow A. F. Dimethyl Silicon Dichloride and Methyl Silicon Trichloride // J. Am. Chem. Soc. 1941. Vol. 63. P. 801−803.
  39. Booth H. S., Carnell P. H. Ethyl Trichlorosilane and its Fluorination Products // J. Am. Chem. Soc. 1946. Vol. 68. P. 2650−2652.
  40. Booth H. S., Halbeldel H. S. The Fluorination of n-Propyl Trichlorosilane // J. Am. Chem. Soc. 1946. Vol. 68. P. 2652−2654.
  41. Booth H. S., Schwartz A. A. Preparation and Fluorination of n-Butyl Trichlorosilane // J. Am. Chem. Soc. 1946. Vol. 68. P. 2662−2665.
  42. К., Грибанова О. Исследования в области алкил- и арил-замещенных ортоэфиров кремниевой кислоты // ЖОХ. 1939. Т. 8. С. 552−556.
  43. К. А. Исследования в области кремнийорганических соединений // ЖОХ. 1946. Т. 16. С. 487−491.
  44. Rochow Е. G. The Direct Synthesis of Organosilicon Compounds // J. Am. Chem. Soc. 1945. Vol. 67. P. 963−965.
  45. Г. В., Андрианов К. А., Зеткин В. И. Успехи в области реакции галоидирования органических соединений кремния // Успехи химии. 1971. Т. 40. С. 980−1013.
  46. В. Ф., Пономаренко В. А. О некоторых закономерностях хлорирования кремнеорганических соединений // Изв. АН СССР, ОХН. 1957. С. 199−206.
  47. L. Н., Whitmore F. С. Organosilicon Compiunds. III. a- and b-Chloroalkyl Silanes and the Unusual Reactivity of the Latter // J. Am. Chem. Soc. 1946. Vol. 68, P. 485−487.
  48. А. Д., Миронов В. Ф., Пономаренко В. А., Чернышев Е. А. Хлорирование алкилсилан- и дисиланхлоридов и алкилирование образующимися галогенидами ароматических углеводородов //ДАН СССР. 1954. Т. 97. С. 687−690.
  49. Е. П. Фотохлорирование этилтрихлорсилана в жидком состоянии // ДАН СССР. 1957. Т. 117. С. 821−822.
  50. Г. В., Джагацпанян Р. В., Снегова А. Д. Синтез и некоторые превращения полихлорэтилтрихлорсиланов //Журн. Общ. Химии. 1968. Т. 38. С. 1186−1191.
  51. М. Т., Джагацпанян Р. В., Моцарев Г. В., Зеткин В. И. Радиационное хлорирование этилтрихлорсилана, метилтрихлорсилана и диметилтрихлорсилана // Журнал ВХО им. Д. И. Менделеева. 1964. Т. 9. С. 475−476.
  52. Р. В., Филиппов М. Т., Моцарев Г. В., Зеткин В. И., Розенберг В. Р. Радиационное хлорирование некоторых органохлорсиланов и органополисилоксанов // ДАН СССР. 1964. Т. 155. С. 1163−1166.
  53. Г. В., Джагацпанян Р. В., Розенберг В. Р., Барденштейн С. Б., Колбасов В. И., Тарасова Т. Т. Получение и некоторые свойства моно- и полихлорзамещенных этилхлорсиланов // Журнал прикладной химии. 1968. Т. 41. С. 2509−2516.
  54. L. Н., Dorfmam Е., Goldberg G. М., Whitmore F. С. The Reactivity with Alkali of Chlorine—Carbon Bonds Alpha, Beta and Gamma to Silicon // J. Am. Chem. Soc. 1946. Vol. 68. P. 488−489.
  55. В. Ф., Погонкина Н. А. Синтез кремнеуглеводородов с у- и е-положением двойной связи относительно атома кремния // Изв. АН СССР, ОХН. 1955. С. 182−186.
  56. Tamborski С., Post Н. W. Studies in Silico-Organic Compounds. XXVI. Additional Derivatives of Vinyltrichlorosilane // J. Org. Chem. 1952. Vol. 17. P. 1397−1399.
  57. Wagner G. H., Bailey D. L., Pines A. N., Dunham M. L., Mclntire D. B. Reactions of Vinyltrichlorosilane and Vinyltriethoxysilane // Industrial and Engineering Chemistry. 1953. Vol. 45. P. 367−374.
  58. Michael K. W., Bank H. M., Speier J. L. Photobromination of Alkyltrichlorosilanes // J. Org. Chem. 1969. Vol. 34. P. 2832−2834.
  59. Agre C. L., Hilling W. Observations on Certain Silanes Containing Bromine in Side Chains. // J. Am. Chem. Soc. 1952. Vol. 74. P. 3899−3902.
  60. Haszeldine R. N., Marklow R. J. Polyfluoroalkyl Compunds of Silicon. Part I. Reaction of Trichlorosilane with Tetrafluoroethylene // J. Chem. Soc. 1956. P. 962−970.
  61. Geyer A. M., Haszeldine R. N., Leedham K., Marklow R. J. Polyfluoroalkyl Compounds of Silicon. Part IV. Polyfluoroalkyl-silanes, -silicones, and -polysiloxanes derived from Perfluoroalkylethylenes or Vinylsilanes // J. Chem. Soc. 1957. P. 4472−4479.
  62. McBee E. Т., Roberts C. W., Puerckhauer G. W. R. The Addition of Trichlorosilane and Methyldichlorosilane to Fluorine- and Chlorine-containing Olefins // J. Am. Chem. Soc. 1957. Vol. 79. P. 2329−2332.
  63. А. В., Верина А. Д., Сидорова Л. П., Губанова А. В. Радиационно-химический синтез кремнийорганических и кремнийфторорганических соединений // ДАН СССР. 1962. Т. 144. С. 576−578.
  64. В. М., Лукина Ю. А., Воронков М. Г., Губанова Л. И., Самсонова Г. А., Тандура С. Н. Бром- и йодсодержащие (галогеналкил)трихлорсиланы иметил (галогеналкил)хлорсиланы и их превращения // Изв. АН СССР, сер. хим. 1978. С. 23 662 372.
  65. Г. В., Пономаренко В. А., Петров А. Д. Кремнийфторорганические соединения //Успехи химии. 1961. Т. 30. С. 941−981.
  66. Booth Н. S., Martin W. F. Methyl Trichlorosilane and Its Fluorination Products // J. Am. Chem. Soc. 1946. Vol. 68. P. 2655−2657.
  67. В. А., Снегова А. Д., Егоров Ю. П. О направленности хлорирования и бромирования фенилсиланов, содержащих группы SiF3 и Si(CH3)3 // Изв. АН СССР, ОХН. 1960. С. 244−250.
  68. Aleksa V., Gruodis A., Klaeboe P., Nielsen С. J., Herzog К., Salzer R., Guirgis G. A., Durig J. R. Infrared and Raman spectra, conformations and ab initio calculations of 2-chloroethyltrifluorosilane // J. Mol. Struct. 1999. Vols. 482−483. P. 563−569.
  69. Gruodis A., Powell D. L., Klaeboe P., Nielsen C. J., Guirgis G. A., Durig J. R., Aleksa V. Infrared and Raman spectra, conformations and ab initio calculations of 1,1,1-trifluoropropyl trifluorosilane // J. Mol. Struct. 1999. Vols. 482−483. P. 627−632.
  70. В. Ф. Алкенилфторсиланы // Изв. АН СССР, ОХН. 1962. С. 1884−1886.
  71. Emeleus Н. J., Wilkins С. J. Some New Ethyl and Phenyl Silicon Fluorides // J. Chem. Soc. 1944. P. 454−456.
  72. Schnell E. Zur Kenntnis des Vinyltrifluorsilans // Monatsch. Chem. 1957. Vol. 88. P. 10 041 006.
  73. Pearlson W. H., Brice T. J., Simons J. H. The Use of Hydrogen Fluoride in Preparing Organo-silicon Fluorides // J. Am. Chem. Soc. 1945. Vol. 67. P. 1769−1770.
  74. Frost L. W. Preparation and Properties of Some Negatively-substituted Organosilanes // J. Am. Chem. Soc. 1956. Vol. 78. P. 3855−3857.
  75. М. Г., Скорик Ю. П. Синтез органофторсиланов // Изв. АН СССР, Сер. хим. 1964. С. 1215−1221.
  76. А. Н. Сопряжение в органических соединениях элементов подгруппы кремния //Успехи химии. 1992. Т. 61. С. 1092−1113.
  77. L. О., Wall F. Т. The Electron Diffraction Investigation of Some Non-metallic Halides // J. Am. Chem. Soc. 1934. Vol. 56. P. 2373−2379.
  78. Goodman L., Konstam A. H., Sommer L. H. d-Orbital Participation in Silane Conjugation // J. Am. Chem. Soc. 1965. Vol. 87. P. 1012−1016.
  79. Inagaki, Jing Ma and Satoshi. Cyclic Derealization of the Oxygen Lone Pair Electrons in the Unusual Structures of Disilaoxirane and 1,3-Cyclodisiloxane // J. Phys. Chem. A. 2000. Vol. 104. P. 8989−8994.
  80. В. В., Осадчев А. Ю., Скороходов С. С. Неклассическое сопряжение в кремнийорганических полимерах // ДАН. 2001. Т. 380. С. 71−76.
  81. Pitt С. G. Hyperconjugation: an alternative to the concept of the p-d bond in Group IV chemistry// J. Organometal. Chem. 1970. Vol. 23. P. C35-C37.
  82. Lambert J. B. The interaction of silicon with positively charged carbon // Tetrahedron. 1990. Vol. 46. P. 2677−2689.
  83. J. В., Singer R. A. Neutral Hyperconjugation // J. Am. Chem. Soc. 1992. Vol. 114. P. 10 246−10 248.
  84. J. В., Zhao Y., Emblidge R. W., Salvador L. A., Liu X., So J.-H., Chelius E. C. The beta Effect of Silicon and Related Manifestations of sigma Conjugation // Acc. Chem. Res. 1999. Vol. 32. P. 183−190.
  85. Hassall K., Lobachevsky S., White J. M. Comparison of Carbon-Silicon Hyperconjugation at the 2- and 4-Positions of the N-Methylpyridinium Cation // J. Org. Chem. 2005. Vol. 70. P. 19 931 997.
  86. Fujiyama R., Alam Md. A., Shiiyama A., Munechika Т., Fujio M., Tsuno Y. The b-silicon effect. 4: substituent effects on the solvolysis of l-alkyl-2-(aryldimethylsilyl)ethyl trifluoroacetates // J. Phys. Org. Chem. 2010. Vol. 23. P. 819−827.
  87. Reed A. E., Schleyer P. v. R. Chemical Bonding in Hypervalent Molecules. The Dominance of Ionic Bonding and Negative Hyperconjugation over d-Orbital Participation // J. Am. Chem. Soc. 1990. Vol. 112. P. 1434−1445.
  88. Oberhammer H., Boggs J. E. Importance of (p-d) Bonding in the Siloxane Bond // J. Am. Chem. Soc. 1980. Vol. 102. P. 7241−7244.
  89. Mitzel N. W., Losehand U., Richardson A. D. Synthesis and Molecular Structures in the Gas Phase of N, N-Dimethylaminoxy-trimethylsilane and -trimethylgermane // Inorg. Chem. 1999. Vol. 38. P. 5323−5328.
  90. Robinson E. A., Johnson S. A., Tang T.-H., Gillespie R. J. Reinterpretation of the Lengths of Bonds to Fluorine in Terms of an Almost Ionic Model // Inorg. Chem. 1997. Vol. 36. P. 3022−3030.
  91. A. H., Воронков M. Г. Электронное строение органических соединений кремния, германия и олова. Новосибирск: Издательство СО РАН, 2000. 615 с.
  92. Pitt С. G. Hyperconjugation and its role in group IV chemistry // J. Organometal. Chem. 1973. Vol. 61. P. 49−70.
  93. Luo Yu-Ran. Comprehensive handbook of chemical bond energies. Boca Raton: CRC Press Taylor&Francis Group, 2007. 1655 p.
  94. Livingston R. L., Brockway L. O. The Molecular Structures of Dimethyl Silicon Dichloride, Methyl Silicon Trichloride and Trifluoro Silicon Chloride // J. Am. Chem. Soc. 1944. Vol. 66. P. 94−98.
  95. Spitzer R., Howell W. J., Schomaker Jr., V. An Electron Diffraction Investigation of the Molecular Structures of Silicon Tetrabromide, Tribromosilane, and Dibromodifluorosilane // J. Am. Chem. Soc. 1942. Vol. 64. P. 62−67.
  96. Hagen K., Hedberg K. Interatomic distances and rms amplitudes of vibration of gaseous SiF4 from electron diffraction //J. Chem. Phys. 1973. Vol. 59. P. 1549−1550.
  97. Cox A. P., Ewart, Gayton T. R. Microwave Spectrum, Structure, Quadrupole Coupling Constants, and Dipole Moment of Bromotrifluorosilane // J. Mol. Spectrosc. 1987. Vol. 125. P. 7690.
  98. Laurie V. W. Microwave Spectrum, Dipole Moment, and Structure of Difluorosilane // J. Chem. Phys. 1957. Vol. 26. P. 1359−1362.
  99. Odom J. D., Stampf E. J., Li Y. S., Durig J. R. Spectra and structure of silicon containing compounds. Part IX. Microwave spectrum of methoxytrifluorosilane // J. Mol. Struct. 1978. Vol. 49. P. 1−6.
  100. Smith A. L., Angelotti N. C. Correlation of the SiH stretching frequency with molecular structure // Spectrochimica Acta. 1959. Vol. 15. P. 412−420.
  101. В., Oberhammer H., Aunert N. (p-d)-Bonding in Fluorosilanes? Gas-Phase Structures of (CH3)4-nSiFn with n = 1−3 and of t-Bu2SiF2 // J. Am. Chem. Soc. 1986. Vol. 108. P. 3893−3897.
  102. Curran C., Witucki R. M., McCusker P. A. Electric Moments of Organosilicon Compounds. I. Fluorides and Chlorides // J. Am. Chem. Soc. 1950. Vol. 72. P. 4471−4474.
  103. A. E., Обухова E. M., Воронков M. Г., Алксне В. H. Участие вакантных d орбиталей кремния в сопряжении // Теор. эксп. химия. 1973. Т. 9. С. 123−125.
  104. Durig J. R., Li Y. S., Tong С. C. Microwave spectrum, structure, dipole moment and barrier to internal rotation of methyltrifluorosilane // J. Mol. Struct. 1972. Vol. 14. P. 261−266.
  105. Lide D. R., Coles K. D. Microwave Spectroscopic Evidence for Internal Rotation in Methyl Silane//Phys. Rev. 1950. Vol. 80. P. 911−911.
  106. Pierce L. Microwave Spectrum, Internal Barrier, Structure, Equilibrium Configuration, and Dipole Moment of Methyl Monofluorosilane // J. Chem. Phys. 1958. Vol. 29. P. 383−388.
  107. Swalen D. R., Stoicheff B. P. Microwave Spectrum of Methyl Difluorosilane // J. Chem. Phys. 1958. Vol. 28. P. 671−674.
  108. Schnell E., Rochow E. G. The nuclear magnetic resonance spectra of F19 in methyl- and ethylfluorosilanes // J. Am. Chem. Soc. 1956. Vol. 78. P. 4178.
  109. Schnell E., Rochow E. G. The nuclear magnetic resonance of fluorine in fluorosilanes // J. Inorg. & Nucl. Chem. 1958. Vol. 6. P. 303−307.
  110. R. В., Brinckman F. E., Coyle T. D. Nuclear Magnetic Resonance Studies of Inorganic Fluorides. V. Fluorosilanes. //J. Phys. Chem. 1968. Vol. 72. P. 660−667.
  111. Cradock S., Ebsworth E. A. V., Whiteford R. A. Photoelectron spectra of some simple fluorosilanes // J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1973. Vol. 22. P. 2401−2404.
  112. П. В., Чесноков Е. Н., Горелик С. Р., Киселев В. Г., Петров А. К. Инфракрасная многофотонная диссоциация метилтрифторсилана // Хим. физика. 2006. Т. 25. С. 12−22.
  113. P. V., Gorelik S. R., Chesnokov Е. N., Vorobiev А. V., Petrov А. К. Infrared multiphoton dissociation of vinyltrifluorosilane // Appl. Phys. B. 2006. Vol. 84. P. 529−536.
  114. Koshlyakov P. V., Gorelik S. R., Chesnokov E. N., Aseev O. S., Rakhymzhan A. A., Petrov A. K. Infrared Multiple Photon Dissociation of Chloromethyltrifluorosilane // Photochem. Photobiol. 2009. Vol. 85. P. 901−908.
  115. Koshlyakov P. V., Dementyev P. S., Gorelik S. R., Chesnokov E. N., Petrov A.K. Infrared multiphoton dissociation of 1,2-dichloroethyltrifluorosilane // Appl. Phys. B. 2009. Vol. 97. P. 625 633.
  116. Durig J. R., Hellams K. L. Vibrational spectra and structure of some silicon containing compunds. ITT. Vinyltrifluorosilane // J. Mol. Struct. 1970. Vol. 6. P. 315−327.
  117. С. В., Курамшина Г. М., Пентин Ю. А. Квантово-механические расчеты строения и колебательных спектров замещенных метилсиланов вида CH3nClnSiF3 (п=0−3) // Ж. физ. химии. 2007. Т. 81. С. 1051−1057.
  118. Г. А., Егорочкин А. Н., Хоршев С. Я., Вязанкин Н. С., Миронов В. Ф. Инфракрасные спектры трехзамещенных силанов и d-p-взаимодействие // ДАН СССР. 1969. Т. 185. С. 100−102.
  119. М. Г., Ковалев И. Ф., Шевченко И. В., Худобин Ю. И. Спектроскопические сойства связи Si-H в трехзамещенных силанах R1R2R3SiH // Изв. АН СССР, сер. хим. 1973. С. 2479−2486.
  120. В. А., Снегова А. Д. Фотохимическое хлорирование этилсиланфторидов. Ориентирующее влияние фторсилильных групп //ЖОХ. 1957. Т. 27. С. 2067−2073.
  121. L. Н., Bailey D. L., Strong W. A., Whitmore F. С. New Alpha and Beta Chloroalkyl Silanes. Further Studies on the Alpha Silicon Effect // J. Am. Chem. Soc. 1946. Vol. 68. P. 18 811 883.
  122. В. А., Снегова А. Д., Егоров Ю. П. О направленности хлорирования и бромирования фенилсиланов, содержащих группы SiF3 и 81(СНз)з // Изв. АН СССР, ОХН. 1960. С. 244−250.
  123. Roelandt F. F., Van de Vondel D. F., Van den Berghe E. V. CNDO/2 study of 29Si NMR chemical shifts // J. Organometal. Chem. 1975. Vol. 94. P. 377−381 .
  124. Roelandt F. F., Van de Vondel D. F., Van der Kelen G. P. An ab initio study of the electronic structure of SiH4, SiH3 °F and SiH2F2 // J. Mol. Struct. 1978. Vol. 50. P. 147−153.
  125. Veszpremi Т., Nagy J. The role of inductive, hyperconjugative and d-orbital effects in organosilicon compounds // J. Organometal. Chem. 1983. Vol. 255. P. 41−47.
  126. W. В., Jolly W. L. Correlation of Core Electron Binding Energies with Charge Distributions for Compounds of Carbon, Silicon, and Germanium // Inorg. Chem. 1974. Vol. 13. P. 1211−1217.
  127. Ermakov A. I., Merkulov A. E. Orbital relaxation and molecular properties of silicon compounds // J. Struct. Chem. 1998. Vol. 39. P. 484−488.
  128. Nolan E. M., Linck R. G. Charge Variations in Substituted Alkanes: Evidence for a Through-Space Effect//J. Am. Chem. Soc. 2000. Vol. 122. P. 11 497−11 506.
  129. Nolan E. M., Linck R. G. An Exploration of Long Range Electronic Effects in Substituted Alkanes//J. Phys. Chem. A. 2001. Vol. 105. P. 7297−7307.
  130. Nolan E. M., Linck R. G. Through-Space Charge and Dipolar Effects in Substituted Ethanes and 1,1,1 -Trifluoroethanes //J. Phys. Chem. A. 2002. Vol. 106. P. 533−543.
  131. Cottrell T. L., Graham Т. E. The kinetics of the oxidation of ethylene by nitrogen dioxide // J. Chem. Soc. 1953. P. 556−563.
  132. Chao S. C., Jaffe S. Gas-phase reaction of N02 and Ethylene at 25 °C // J. Chem. Phys. 1972. Vol. 56. P. 1987−1988.
  133. В. А., Розловский А. И. Кинетика взаимодействия моноолефинов с двуокисью азота // ДАН СССР. 1976. Т. 230. С. 1129−1132.
  134. Sotiropoulou V., Katsanos N. A., Metaxa Н., Roubani-Kalantzopoulou F. Gas chromatographic determination of rate constants in bimolecular gaseous reactions // Chromatographia. 1996. Vol. 42. P. 441−447.
  135. Fishwick G., Haszeldine R. N., Parkinson C., Robinson P. J., Simmons R. F. Kinetics of the Thermal Decomposition of Polyfluoroalkylsilicon Compounds // Chem. Comm. 1965. P. 382−384.
  136. Кнунянц И. JL, Якобсон Г. Г. Синтезы фторорганических соединений. М.: Химия, 1973. 247 с.
  137. Booth Н. S., Bozarth A. R. Fluorination of Phosphorus Trichloride // J. Am. Chem. Soc. 1939. Vol. 61. P. 2927−2934.
  138. Ю. В. Чистые химические вещества. М.: Химия, 1974. 408 с.
  139. Karapuzikov A. I., Malov A. N., Sherstov I. V. Tunable TEA С02 laser for long-range DIAL lidar // Infrared Phys. Technol. 2000. Vol. 41. P. 77−85.
  140. Dunning Т. H. Gaussian basis sets for use in correlated molecular calculations. I. The atoms boron through neon and hydrogen // J. Chem. Phys. 1989. Vol. 90. P. 1007−1023.
  141. Purvis G. D., Bartlett R. J. A full coupled-cluster singles and doubles model: The inclusion of disconnected triples//J. Chem. Phys. 1982. Vol. 76. P. 1910−1918.
  142. Moller C., Plesset M. S. Note on an Approximation Treatment for Many-Electron Systems // Phys. Rev. 1934. Vol. 46. P. 618−622.
  143. EMSL basis set library. URL: http://www.emsl.pnl.gov/forms/basisform.html.
  144. Hunter Т. F., Kristjansson К. S. Optoacoustic method of measuring reaction rates of the radicals CH3, CD3, C2H5 and CH2I with I and I2 // J. Chem. Soc. Faraday Trans. 1982. Vol. 78. P. 2067−2076.
  145. Knox J. H., Musgrave R. G. Iodination of alkanes: ethane, propane and isobutane // Trans. Faraday Soc. 1967. Vol. 63. P. 2201−2216.
  146. В. П., Новикова Н. Ф. Применение тафтовских зависимостей для корреляции свойств кремнийорганических соединений. Роль эффектов заместителей // Успехи химии. 1981. Т. 50. С. 85−110.
  147. Colvin E.W. Silicon reagents in organic sinthesis. London: Academic Press, 1988. 151 p.
  148. В. H., Никитин Е. Е. Кинетика и механизм газофазных реакций. М.: Наука, 1974. 558 с.
  149. . Ф., Осипов А. И., Шелепин JT. А. Кинетические процессы в газах и молекулярные лазеры. М.: Наука, 1980. 512 с.
  150. Steinfeld J. I., Burak I., Sutton D. G., Nowak A. V. Infrared double resonance in sulfur hexafluoride // J. Chem. Phys. 1970. Vol. 52. P. 5421−5434.
  151. E. H., Панфилов В. H. Исследование процессов передачи колебательной энергии между молекулами CH3 °F и СН4 методом двойного резонанса // ЖЭТФ. 1977. Т. 72, С. 1694−1701.
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!