Математическое моделирование физических процессов в биполярных полупроводниковых приборах
Диссертация
Актуальность" Создание полупроводниковых приборов и интегральных схем (ИС) с заданным сочетанием параметров побуждает разработчиков перейти от проектирования, основанного на личном опыте, к автоматизированному проектированию, базирующемуся на глубоком и объективном (формализованном) описании физических процессов, протекающих в полупроводниковых структурах в стационарном и нестационарном режимах… Читать ещё >
Список литературы
- Shockley W. Theory of p-n junctions in semiconductors and p-n junction transistors.- Bell System Tech. J., 1949, v.28, July, p.435−489.
- Roosbroeck W. Theory of the flow of electrons and holes in Germanium and other semiconductors.-Bell System Tech. J., 1950, v.29, p.560−607.
- Gummel H.K. A self-consistent iterative scheme for one-dimensional steady state transistor calculations.-IEEE Trans. Electron. Dev., 1964, V. ED-11, U 10, p.455−465.
- Be Mari A. An accurate numerical one-dimensional solution of the p-n junction under arbitrary transient conditions.-Solid-State Electron., 1968, v. 11, JJ 1, p.33−58.
- Беллман P., Энджел Э. Динамическое программирование и уравнения в частных производных. М.: Мир, 1974. — 208 с.
- Самарский А.А. Теория разностных схем. М.: Наука, 1977. — 656 с.
- De Mari A. An accurate numerical steady-state one-dimensional solution of the p-n junction.- Solid-State Electron., 1968, v.11, p.33−58.
- Arandjelovlc V. General iterative scheme for one-dimensional calculations of steady-state electrical properties of transistor. -Internet. J. Electron., 1969, v.27, H 5, p.459−478.
- Arandjelovic V. Accurate numerical steady-state solutions for a diffused one-dimensional junction diode.- Solid-State Electron., 1970, v.13, H 6, p.865−871.
- Choo S. G, Theory of a forward-biased diffused-junction p-l-n rectifier-Part I s Exact numerical simulation.- IEEE Trans. Electron. Dev., 1972, v. ED-19, IT 8, p.954−966.
- Seidman T.I., Choo S.C. Iterative scheme for computer simulation of semiconductor devices.- Solid-State Electron., 1972, v.15,1. 11, p. 1229−1235.
- Абрамов И.И., Мулярчик С. Г. Метод векторной релаксации систем в задачах многомерного численного анализа полупроводниковых приборов. Известия вузов — Радиоэлектроника, 1981, т.24, № 6, с.59−67.
- Мулярчик С.Г., Абрамов И. И. Выбор начального приближения в задачах численного анализа биполярных полупроводниковых приборов. Известия вузов — Радиоэлектроника, 1981, т.24, № 3, с.49−56.
- Mock U.S. On the convergence of Оштппе!1 s numerical algorithm. Solid-State Electron., 1972, v. 5, Л 1, p.1−4.
- Slotboom X.W. Iterative scheme for 1 -and 2- dimensional D.C. transistor simulation.- Electron. Lett., 1969, v.5, If 26, p.677−678.
- Reiser M. Difference methods for the solution of the time -dependent semiconductor flow egaations.- Electron. Lett., 1971, v.7, N 12, p.353−355″
- Petersen O.6., Rikoski R.A., Cowles W.W. Humerical method for the solution of the transient behavior of bipolar semiconductor devices.- Solid State Eleotron., 1973, v. 16, IT 2, p.239−251.
- Slotboom J.W. Computer-aided two-dimensional analysis of bipolar transistors.- IEEE Trans. Eleotr. Dev., 1973, V. ED-20, U 8, p.669−679.
- Heimeier H.H. A two-dimensional numerical analysis of silicon n-p-n transistor.-IEEE Trans. Electr. Dev., 1973, у. ED-20, N 8, p.708−714.
- Польский B.C., Похвалина JI.С. Двумерная численная модель биполярного транзистора.- Изв. АН Латв. ССР. Сер. физ.-техн. наук, 1977, № 4, с.59−69.
- Мартузан Б.Й., Польский Б. С. Численное решение одномерных стационарных задач теории полупроводниковых приборов.- Латв. матем. ежегодник, 1978, т. 22, с.133−143.
- Польский Б.С., Римшанс Я. С. Численное моделирование переходных процессов в биполярных полупроводниковых приборах.- Изв. АН Латв. ССР, Сер. физ.-техн. наук, 1978, № 4, с.70−78.
- Баталов Б.В., Дьяконов В. М., Кремлев В. Я. Двумерное моделирование работы биполярных транзисторных структур.- Электр, техника. Сер. 2, Полупров. приборы, 1979, № 5, с.99−106.
- Миргородский Ю.Н., Руденко А. А. Алгоритм расчета статических и импульсных характеристик полевых транзисторов с затвором Шоттки.- Микроэлектронные и полупров. приборы, 1983, № 7,с.263−267.
- Gokhale B.V. numerical solutions for a one-dimensional silicon n-p-n transistor.- IEEE Trans. Electron. Dev., 1970, v. ED-17, N 8, p.594−602.
- Hachtel G.D., Joy R.C., Cooley J.W. A new efficient one-dimensional analysis program for junction device modeling.-Proo. IEEE, 1972, v.60, H 1, p.86−98.
- Kurata M. Design consideration of step recovery diodes with the aid of numerical large-signal analysis.- IEEE Trans. Electron. Dev., 1972, v. ED-19, H 11, p.1207−1215.
- Manck 0., Heimeier H.H., Engl W.L. High injection in a two-dimensional transistor.- IEEE Trans. Electron. Dev., 1974″ v. ED-21, N 7, p.403−409.
- Manck 0″, Engl W.L. Two-dimensional computer simulation for switching a bipolar transistor out of saturation.- IEEE Trans.
- Electron. Dev, 1975, v. ED-22, U 6, p.339−347.
- Мулярчик С.Г., Абрамов И.И, Соловьев В. Г. Программа одномерного анализа переходных процессов в биполярных транзисторах.-Изв. вузов Радиоэлектроника, 1980, т. 23, № 6, с.55−60.
- Велмре Э.Э., Удал А. Э., Фрейдин Б. П. Исследование эффективности численных алгоритмов моделирования силовых полупроводниковых структур в проводящем состоянии.- Электронное моделирование, 1981, № 4, с.85−133.
- Poleky B.S., Rimshans J.S. Comparison of different methods for numerical simulation of transient processes in bipolar semiconductor deTices.-Solid-State Electron., 1980, v.23, H 23, p. 183−185.
- Стильбанс Л.С. Физика полупроводников, M.: Сов. радио, 1967. -452 с.
- Poleky B.S., Rimshans J.S. Humerioal simulation of transient processes in 2-D bipolar transistors.-Solid-State Electron., 1981, v. 24, U 12, p.1081−1085.
- Ferguson R.S., Ryan W.D., Armstrong G.A. A simulation of the base widening effect in a high frequency bipolar transistor using a highly robust finite difference algorithm.- Int. J.
- Eleotr., 1984, v. 56, И 2, p.179−196.
- Смит P. Полупроводники, Пер. с англ.- M.: Мир, 1982. 560 с.
- Милне А. Примеси с глубокими уровнями в полупроводниках.- М.: Мир, 1977. 562 с.
- Prince U.B. Drift mobilities in semiconductors-ZZ. Silicon.-Phys. Rev., 1954, v.93, H 6, p.1204−1206.43* Могin F.J., Malta J.P. Eleotrioal properties of silicon containing arsenic and boron.-Phys. Rev., 1954, v.96, IT 1, p.28−35.
- Paige E.G.S. Drift mobility of electrons and holes in germanium at low temperature.-J. Phys. Chem. Sol., 1960, v.16, U 3−4, p.207−219.
- McLean T.P., Paige E.G.S. Theory of effects of carrier-carrier scattering of mobility in semiconductors.- J. Phys. Chem.Sol., 1960, v.16, S 3−4, p.220−236.
- McLean T.P., Paige E.G.S. Electron-hole scattering and minority carrier mobility in germanium.- J. Phys. Chem. Sol., 1961, v.18, U 2−3, p.139−149.
- Григорьев H.H. Влияние основных носителей тока на подвижность неосновных в полупроводнике. ФГТ, 1964, т.6, № 12, с.3705−3708.
- Дыкман И.М., Томчук П. М. Влияние основных носителей в полупроводниках на подвижность неосновных. ФТТ, 1964, т.6, № 5,с.1388−1398.
- Holl R.N. Power rectifiers and transistors.- Proc. IRE, 1952, v.40, И 11, p.1512−1518.
- Fletcher N.H. The high current limit for semiconductor junction devices.- Proc. IRE, v.45, IT 6, 1957, p.862−872.
- Авакьянц Г. М., Мурыгин В. И., Сандлер Л. С., Тешабаев А., Юровский А. В. Прямая ветвь вольтамперной характеристики тонких диодов при высоких уровнях инжекции. Радиотехника и Электроника, 1963, т.8, № II, с.1919−1926.
- Howard N.R., Johnson G.W. Р+ UT+ silicon diodes at high forward current densities.- Solid-State Electron., 1965, v.8,1. 3, p.275−284.
- Грибников 3.C., Мельников В. И. Электронно-дырочное рассеяниев полупроводниках при -высоких уровнях инжекции. ФТП, 1968, т.2, № 9, с.1352−1363.
- Кокова R.A. The potential and oarrier distribution of a p-n-p-n device in the one-state.- Proc. IEEE, 1967, v.55, N 8, p.1389−1400.
- Herlet A. The forward characteristics of silicon power rectifiers at high current densisties.- Solid-State Electron., 1968, v.11, N8, p.717−742.
- Erausse J. Die abhangigkeit der tragerbeweglichke it in silizium von der konzentration der frein ladungstrager-2.- SolidState Electron., 1972, v.15, Я 12, p.1376−1381.
- Кузьмин В.А., Мнацаканов Т. Т., Шуман В. Б. О влиянии электрон-дырочного рассеяния на вольтамперную характеристику кремниевых многослойных структур при большой плотности тока.- Письма в ЖГФ, 1980, т.6 № II, с.689−693.
- Грехов И.В., Отблеск А. Е. 0 влиянии электронно-дырочного рассеяния на распределение концентрации инжектированных носителей в базе р-а-п структуры.-ФТП, 1974, т.8, № 7, с.1408−1411.
- Kurata М. One-dimensional calculation of thyristor forward voltages and holding currents.- Solid-State Electron., 1976, v. 19, Л 6, p.527−535.
- Adler M.S. Accurate calculation of the forward drop and power dissipation in thyristors.- IEEE Trans. Electr. Dev., 1978, v. ED-25, Iff 1, p.16−22.
- Preidin В., Velmre E. numerical simulation of a forward biased p-i-n structure with band-to-band Auger recombination.-Electr. Lett., 1978, v. 14, IT 22, p.701−703.
- Haito M., Hagano Т., Fukui H., Terasawa Y. One-dimensional analysis of turrioff phenomena for a gate turnoff thyristor.-IEEE Trans. Electr. Dev., 1979, v. ED-26, И 3, p.226−231.
- Велмре Э.Э., Фрейдин Б. П. Численное моделирование переходных процессов в арсенид-галиевых диодных структурах.- Известия вузов Радиоэлектроника, 1983, № 6, с.93−95.
- Грехов И.В., Делимова Л. А. Оже-рекомбинация в кремнии.-ФТП, 1980, т.14, № 5, с.897−901.
- Делимова Л.А. Оже-рекомбинация в Si при пониженных температурах.- ФТП, 1981, т.15, № 7, с.1349−1352,68″ Meyer J.R. Effect of electron-hole scattering on ambipolar diffusion 1л semiconductors.- Phys. Rev. B, 1980, v.21, N 4, p.1554−1558.
- Бойко И.И., Балев О. Г. Диффузионно-дрейфовый перенос носителей в условиях сильного электронно-дырочного рассеяния.-ФТП, 1983, т.17, № 4, с.745−748.
- Davies L.W. Electron-hole scattering at high injection levels in germanium.- Hature, 1962, v. 194, May, p.762−763.
- Хомврики O.K. Применение гальваномагнитных датчиков в устройствах автоматики и измерений,— М.: Энергия, 1971, — 112 с.
- Боярченков Н.А., Хомерики O.K., Розенталь Ю. Д., Палагашвили Я. Ш. Гальваномагнитные детекторы цилиндрических магнитных доменов на основе датчиков Холла, — Приборы и системы управления, 1973, № II, с.28−34,
- Кобус А, Тушинский Я. Датчики Холла и магниторезисторы, перевод с польского под редакцией Хомерики O.K.- М.: Энергия, 1971.- 352с.
- Викулин И.М., Глауберман, Викулина Л.Ф., Запорожченко Ю. А, Исследование характеристик двухколлекторного магнитотранзистора, — ФТП, 1974, т.8, № 3, с.580−583,
- Hudson Е. Патент США, 3,389.230 от 18.6.1968 г.
- Викулин И.М., Глауберман М. А., Викулина Л. Ф. Датчик магнитного поля на основе двухколлекторного магнитотранзистора, — Приборы и техника эксперимента, 1974, № 5, с.181−182.
- Егмазарян Г. А., Мнацаканян Г. А., Мурыгин В. И., Стафеев В. И. Кремниевые магнитодиоды, чувствительные к направлению магнитного поля.-ФТП, 1975, т.9, № 7,с.1252−1259.
- Гамолин Е. И, Каракушан Э, И., Коварский В. Я, Комаровских К. Ф., Стафеев В. И. Кремниевые магнитодиоды, — ФТП, 1975, т.9,№ 8,с.I465−1470,
- Левитас И.С., Рагаускас А. В. Магнитотранзисторы на основе полевого гальваномагниторекомбинационного эффекта.- Приборы и системы управления, 1978, № I, с.34−35.. .
- Janavicviene Я.J., bwitas I.S., Pozola J.K. Semiconductor device sensitive to magnetic field gradient.- Solid-State- 184
- Electron., 1981, v.24, Я 5, p.407−410.
- Victor Z., Bart D. Magnetic-field-sensitive nrulticollector n-p-n transistors.- IEEE Trans. Electr. Dev., 1982, v. ED-29, ГГ 1, p.83−90.
- Beresford R. Magnetic transistor exploit new theory of carrier modulation.- Electronics, 1982, v.55, Я 10, p.45−46.
- Ансельман A.И. Распределение концентраций носителей тока в образце полупроводника при эффекте Холла.- 1ТФ, 1952, т. 22,7, с.1145−1153.
- Пикус Г. Б. Термо- и гальваномагнитные эффекты в полупроводниках при учете изменения концентрации носителей тока. -ЖТФ, 1956, т. 26, № I, с.22−35.
- Васильев В.И., Лонгинов В. В., Соловьев А. К., Чарыков h.А. & датчиках Холла малых размеров. Радиотехника электроника, 1978, т. 23, № 2, с.375−384.
- Васильев В.И., Лонгинов В. В., СоловьевА.К.Чарыков Н. А. Днализ датчика Холла при синусоидальном по координате магнитном поле. Радиотехника и электроника, I97O, Т.23, № 3, с.658−661.
- Лонгинов В.В., СоловьевА.К., Чарыков Н. А., Анализ датчика Холла при воздействии на него доля цилиндрического домена.- Тр./ Моск. энергет. ин-т, 1977, вып.315, с.48−52.
- Лонгинов В.В., Соловьев А. К., Чарыков Н. А. &bdquo-Анализ датчика Холла, находящегося в поле полосового магнитного домена. -Тр./ Моск. энерг т. ин-т, 1977, вып. 315, с.52−55.
- Лонгинов В.В., Соловьев А. К., Чарыков h.А. Численный анализ распределения потенциала в датчиках Холла крестообразной формы.- Тр./ Моск. энергет. ин-т, 1979, вып.438, с.8−12.
- Левитас И.С., Иожела Ю. К. Исследование гальваномагниторекомби-национного эффекта в германии. Литовский физический сборник, 1967, т.7, № 2, с.387−395.
- Жербюнайте В.И., Левитас И. С., Иожела Ю. К. Гальваномагниторе-комбинационный эффект в неоднородном электрическом поле. Литовский физический сборник, 1971, т. 11, № 5, с.787−797.
- Левитас И.С., Иожела Ю. К., Сащук А. П. Исследование кинетики гальваномагниторекомбинационного эффекта. ФТИ, 1972, т.6, № 1, с.205−207.
- Fossum J.G. Computer-aided numerical analysis of silicon solar cells.- Solid-State Electron., 1976, v.19, H 4, p.269−277.
- Удал А.Э. Численное моделирование диодных структур с учетом Оже-рекомбинации и фотогенерации. Тр./ Таллинск. политехи, ин-та, 1982, № 538, с.3г20.
- Dah-Kwang Yeh, Thomas A. Computer analysis of Induced layer MOSsolar-cells"Solid-State Electron., 1984, v.27, N 3, p.283−292.
- Бонч-Бруевич В.JI., С. Г. Калашников. Физика полупроводников. -М.: Наука, 1977. 672 с.
- Ландау Л.Д., Лившиц В. М. Теория поля. М: Наука, 1967, 537.-с.
- Жданов В. М. Явление переноса в многокомпонентной плазме. -М.: Энергоиздат, 1982, 177.-е.
- Киреев П.С. Физика полупроводников. М.: Высшая школа, 1969, — 592 с.
- Shockley W., Read W.T. Ir. Statistics of recombination of holes and electrons. Phys. Rev., 1952, v.87, H 5, p, 861−864.
- Collins C.B., Carlson R.O., Gallagher C.J. Properties of gold -doped silicon. Phys. Rev., 1957, v.105, К 4, p.1168−1173.
- Wicder A.W. Emitter effects in shallow bipolar devicessMeasu-rements and conseguences.- IEEE Trans. Electr. Dev., 1980, v. ED-27, N 8, p.1402−1408.
- Beck J.O., Conradt R. Auger recombination in silicon.- SolidState Oommun., 1973, v.13, Я 1, p.93−95. ПО. Зи C.M. Физика полупроводниковых приборов. M.: Энергия, 1973. — 656 с.
- Engl L., Dirks К., Kleiner zhagen В. Device modeling.- Proc.
- EE, 1983, v.- 71, N 1, p.10−33.
- Полупроводниковые формирователи сигналов изображения/ Под. ред. П. Йеспера, Ф. Ван де Виле и М. Уайта.- М.: Мир, 1979. -576 с.
- Шалимова К.В. Физика полупроводников.- М: Энергия, 1971. -416 с.
- Dash W.C., Newman R. Intrinsic optical absorpsion a sihgle crystal germanium and silicon at 77K and 300K.- Phys. Rev., 1955, v.99, Я 8, p.1151−1155.
- Caughey D.M., Thomas R.E. Carrier mobility in silicon empirically related to doping and field.- Proc. IEEE, 1967, v.55,1. N 12, p.2192−2193.
- Arora D., Hauser R., Roulston J. Electron and hole mobilities in silicon as a function of concentration and temperature.-IEEE Trans. Electr. Dev., 1982, v. ED-29, Я 2, p.292−295.
- Li S.S., Thurber W.R. The dopant density and temperature de-pedence of electron mobility and resistivity in n-type silicon. Solid-State Electron., 1977, v.20, Я 7, p.609−616.
- Li S.S. The dopant density and temperature depedence of hole mobility and resistivity in boron doped silicon.- SolidState Electron., 1978, v.21, Я 10, p.1109−1117.
- Пека Г. 11. Физика поверхности полупроводников. Киев, Киевский университет, 1967. -92 с.
- Прокопьев А.И. О дополнительном условии Шарфеттера-Гуммеля. -Радиотехника и электроника, 1983, т.28, № 11, с.2298−2299.
- Чуа Л.О., Пен-Мин Лин, — Машинный анализ электронных схем. -М.: Энергия, 1980. 640с.122″ Shicman H.S. Integration system of nolinear network-analysisprogramm.- IEEE Trans. Circuit Theory, 1980, v. CT-17, N 3, p.378−385.
- Brown G.W., Lindsay B.W. The numerical solution of Poissons eguation for two-dimensional semiconductor devices.- SolidState Electron., 1976, v. 19, p.991−992, №.
- Reiser U. Large-scale numerical simulation in semiconductor devioe modelling.- Сотр. Meth. Appl. Mech. Eng., 1972, v.1, N 1, p.17−38.
- Ламперт M., Марк li. Инфекционные токи в твердых телах. -М.: Мир, 1973. 416 с.
- Номорцева Л.И. 0 влиянии нелинейных физических эффектов на граничные условия в диффузионных структурах при большой плотности тока, ФТП (в печати)
- Bezz Р., Cooper R., Fagg S. Recombination in the end regions of p-i-n diode. Solid-State Electron., 1979, v.22, N 3, p.293−301.
- Вайякус Ю., Гривицкас В. Зависимость интенсивности зона -зонной Оже-рекомбинации от концентрации носителей в кремнии. ФТП, 1981, т.15, № 10, с.1894−1902.
- Hikin В., Roach Т., Rodov V. Reverse recovery process with no -uniform lifetime distribuation in the base of a diode.-IAS/IEEE Conf. Record., 1977, p.644−647.
- Temple V.A., Holroyd E.W., Adler M.S. The effect of carrier lifetime profile on turn-off time and turn-off losses. IEEE Power Electron. Spec. Conf., 1980, p.153−163.
- Temple V.A., Forrest H. Optimizing carrier lifetime profile for improved trade-off betwen turn-off time and forward drop.-IEEE Trans. Electron. Dev., 1983, v. ED-30, И 7, p.782−790.
- Велмре Э.Э., Дерменжи Д. Г., Удал А. Э. Влияние распределения времени жизни электронов и дырок на процесс обратного восстановления р+ п -п+ диодов, — Электротехника, 1984, № 3, с.47−51.
- Мнацаканов Т.Т. Переходной процесс переключения диффузионного р л перехода. — ЙТФ, 1983, т.53, № X, с.189−191.
- Дзехцнер Г. Б., Орлов G.C. Р-1-N/ диоды в широкополосных устройствах СВЧ.- М.- Сов. радио, 1970. 200 с.
- Носов Ю.Р. Физические основы работы полупроводникового диода в импульсном режиме.- М.- Наука, 1968.-263 с.
- Гаршенин В.В., Чарыков С. А., Купцов Ю. Ф. Многоканальные транзисторные оптроны для устройств числового программного управления.- Электронная техника. Сер. 2, Полупроводниковые приборы, .1983, № 6, с.61−69.
- Гаршенив В.В., Чарыков С. А., Купцов Ю. Ф., Синюшин М. Н. Опто-электронная пара на составном транзисторном приемнике- новый тип ключевого оптрона. Электронная техника. Сер.2, Полупроводниковые приборы, 1977, № 6, с.61−66.
- Колесников В.Г. Кремниевые пданарные транзисторы/ Под. ред. л.А. Федотова. М.- Сов. радио 1982. -335 с.
- Ricco R.P., Goldstein J.I., Callum J.G. The diffusion of implanted boron in silicon.- J. Eleotrochem. Soc.- SolidState .Sci. and technology, 1977, v. 124, N2, p.276−279.
- Васильева А.Б., Бутузов В. Ф. Асимптотические разложения решений сингулярно возмущенных уравнений.- М.: Наука, 1973, — 157 с.
- Дулан Э., Миллер Дж., Шилдерс У. Равномерные численные методы решения задач с пограничным слоем.- М.: Мир, 1983, 200с.
- Ильин В.Н. Численные методы решения задач электрооптики. -Новосибирск, Наука, 1974. 202 с.
- Лонгинов В.В., Соловьев А. К., Филатов Н. И., Чарыков Н. А. Анализ галвваномагниторекомбинационного эффекта с учетом накопления заряда.- Тр./ Моск. энерг. ин-т, 1981, вып. 517, с. 66−70.
- Соловьев А.К., Чарыков Н. А., Лонгинов В. В., Филатов Н. И., Шо-рин М.В. Датчик Холла с повышенной магниточувствительностью.- Тр./ Моск. энерг. ин-т, 1978, вып. 372, с.16−18.
- Филатов H.H., Чарыков H.A. Численный анализ эффекта Холла в образцах ограниченных размеров с учетом двух типов носителей.- Тр./ Моск. энерг. ин-т, 1982, вып. 563, с.3−8.
- Соловьев А.К., Лонгинов В. В., Филатов Н. И., Астахов A.A. Исследование эффекта Холла в пространственно неоднородном магнитном поле.- Тр./ Моск. энерг. ин-т, 1982, вып. 563, с.35−38.
- Филатов Н.И., Соловьев А. К., Лонгинов В.В, Влияние поверхностной рекомбинации на распределение концентраций носителей тока .и электрического поля при эффекте Холла.- Тр./ Моск. энерг. ин-т, 1983, вып.597, с.22−28.
- Филатов Н.И., Чарыков H.A. Решение уравнения Пуассона в задачах автоматизированного расчета полупроводниковых приборов. Тр./ Моск. энерг. ин-т, 1983, вып.597, с.28−32.
- Результаты ПИР внедрены на предприятии п следующем виде: ГТрмнято к промышленному производству
- Рекомендовано к опытно-промышленной проверке
- При внедрении результатов НИР на предприятии получен годовой экономический эффектвдается годовой экономический эффект50. ООО:.РУб
- Отзыв о работе (с указанием достигнутого научно-технического эффекта).1. Замечания по работе:
- Результаты НИР внедрены на предприятии в следующем виде: Принято к промышленному производству
- Рекомендовано к опытно-промышленной проверке
- При внедрении результатов НИР на предприятии получен годовой экономический эффектндается годовой экономический эффект 200С0 руб.
- Отзыв о работе (с указанием достигнутого научно-технического эффекта). Замечания по работе:
- За выполненную научно-исследовательскую работу в окончательный расчет с учетом перечислен с авансов исполнителю в соответствии со сметной стоимостью работы причитается —сумма прописью)
- Предлагается продолжение работ по указанной тематике и включение в план вуза на 19—гг. работы:•¦' От предприятия1' ' ¦ От Предприятия • ¿-^^тОДЛ4
- Зам -дирен *ора/НВИ им .В.И .Ленинашего учебного запедепняыорозкин В.П.
- Зав.отд. №. 39Р0. Д-Ф-М.Н. «^ л пп ТПТ5. , ——^—*--^ г Соловьев А. 1С, 1роф. Кузьмин В.А.1. Зав.отд.ВТ-с6» .х? • 1.ф.-м.н. Мнацаканов Т.Т.1. Дкафаров З.Т.
- ОтвТМолнитель ?Щ'Щ Филатов Н.И.р.шксенер--'~сопоглист «Красная -М.Ф.ь^ГУ1. УТБШДАЮ"по ученной работе • м и э мг: ' •'Л'А*т.--, ,-:-$)офессор АФАНАСЬЕВ В.Н.1984 г. акт вшданш
- Опытная эксплуатация системы показала её удобство и высокую ценность для понимания студентами физических основ работы биполярных диодов и транзисторов.
- Результаты НИР внедрены на предприятии в следующем виде: Принято к промышленному производству -•екомендовано к опытно-промышленной проверке
- При внедрении результатов НИР на предприятии получен годовой экономический эффектдается годовой экономический эффект20 000 руб.
- Этзыв о работе (с указанием достигнутого научно-технического эффекта).1. Замечания по работе:
- За выполненную научно-исследовательскую работу в окончательный расчет с учетом перечислен-авансов исполнителю в соответствии со сметной стоимостью работы причитается —сумма прописью)