Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Повышение эффективности автоматизированного контроля процесса осаждения тонких пленок на основе емкостного метода

Диссертация: Повышение эффективности автоматизированного контроля процесса осаждения тонких пленок на основе емкостного метода
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Большой вклад в развитие технологических процессов по контролю качества покрытий в процессе осаждения внесли ученые следующих российских и иностранных организации: Санкт-Петербургского государственного электротехнического университета, МАТИ-РГТУ им. К. Э. Циолковского, Рыбинской государственной авиационной технологической академии им. П. А. Соловьева, Международного центра электронно-лучевых… Читать ещё >

Повышение эффективности автоматизированного контроля процесса осаждения тонких пленок на основе емкостного метода (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • ГЛАВА 1. АНАЛИЗ СОВРЕМЕННОГО СОСТОЯНИЯ ОБЛАСТИ ИССЛЕДОВАНИЯ
    • 1. 1. Методы осаждения покрытий в вакууме
    • 1. 2. Методы контроля толщины тонких пленок в вакууме
      • 1. 2. 1. Весовой метод
      • 1. 2. 2. Метод кварцевого резонатора
      • 1. 2. 3. Фотометрический метод
      • 1. 2. 4. Резистивный метод
      • 1. 2. 5. Емкостные методы
      • 1. 2. 6. Вибрационный метод
    • 1. 3. Выводы по первой главе и постановка задач исследований
  • ГЛАВА 2. РАЗРАБОТКА И ИССЛЕДОВАНИЕ ЕМКОСТНОГО ДАТЧИКА ТОЛЩИНЫ ПОКРЫТИЙ, НАНОСИМЫХ В ВАКУУМЕ
    • 2. 1. Емкостный метод контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме
    • 2. 2. Разработка емкостного датчика
      • 2. 2. 1. Конструкция емкостного датчика
      • 2. 2. 2. Математическая модель емкостного датчика
      • 2. 2. 3. Чувствительность емкостного датчика
      • 2. 2. 4. Погрешность емкостного датчика
      • 2. 2. 5. Измерительные схемы для емкостного датчика
    • 2. 3. Выводы по второй главе
  • ГЛАВА 3. РАЗРАБОТКА И ИССЛЕДОВАНИЕ АВТОМАТИЗИРОВАННОЙ СИСТЕМЫ КОНТРОЛЯ ТОЛЩИНЫ ПОКРЫТИЙ, НАНОСИМЫХ В ВАКУУМЕ
    • 3. 1. Классификация автоматизированных систем
    • 3. 2. Разработка аппаратного обеспечения АС
      • 3. 2. 1. Анализ возможных путей реализации устройства сопряжения
      • 3. 2. 2. Связь УС с персональным компьютером
      • 3. 2. 3. Управление заслонкой и коммутация сигналов
    • 3. 3. Разработка программного обеспечения АС
    • 1. 3.4 Выводы по третьей главе
  • ГЛАВА 4. ТЕХНИЧЕСКАЯ РЕАЛИЗАЦИЯ И ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ ХАРАКТЕРИСТИК ЕМКОСТНОГО ДАТЧИКА ТОЛЩИНЫ ПОКРЫТИЙ, НАНОСИМЫХ В ВАКУУМЕ
    • 4. 1. Опытный образец емкостного датчика толщины покрытий и устройства сопряжения. k 4.2 Оборудование и техника экспериментов
      • 4. 2. 1. Разработка устройства ввода данных от измерительного оборудования в ПК
      • 4. 2. 2. Разработка программного обеспечения для устройства ввода данных от измерительного оборудования в ПК
    • 4. 3. Результаты экспериментального исследования датчика
    • 4. 4. Выводы по четвертой главе

Тонкие пленки, получаемые методами осаждения в вакууме, находят разнообразное применение в измерительной технике, приборостроении (в частности, в радиопромышленности), изделиях электроники и микроэлектроники.

Качество наносимых слоев оценивается путем контроля таких параметров покрытий, как толщина, химический состав, пористость, плотность, адгезия, износостойкость, твердость, шероховатость, внутренние напряжения и др. [1]. Совокупность контролируемых параметров в каждом конкретном случае зависит от назначения покрытия, однако, для любого нанесенного слоя одним из важнейших параметров является его толщина [1].

Большой вклад в развитие технологических процессов по контролю качества покрытий в процессе осаждения внесли ученые следующих российских и иностранных организации: Санкт-Петербургского государственного электротехнического университета, МАТИ-РГТУ им. К. Э. Циолковского, Рыбинской государственной авиационной технологической академии им. П. А. Соловьева, Международного центра электронно-лучевых технологий Института электросварки им. Е. О. Патона, НИКИ «Вакууммаш», Leybold-Vacuum, CIT ALKATEL, Balzers, General Electric и др.

В ходе изучения технологического процесса контроля толщины покрытий было выяснено, что в настоящее время не существует универсальных методов и средств, в равной степени удовлетворяющих всем предъявляемым требованиям к методам и датчикам оперативного технологического контроля процесса осаждения покрытий в вакууме. Поэтому вопрос о выборе метода измерений и прибора должен решаться в каждом отдельном случае в зависимости от метода нанесения покрытия, свойств материала, а также от диапазона требуемых значений толщины и необходимой точности измерений. В результате появляется необходимость создания универсального датчика для контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме, применяемых в электронной промышленности. Настоящая диссертация посвящена решению данной проблемы и отражает результаты исследований, выполненных автором в период с 2003 по 2006 г.

Объектом исследования настоящей работы является технологический процесс нанесения покрытий в вакууме.

Предметом исследования являются методы контроля толщины покрытий и средства построения систем автоматического контроля.

Цель работы — Повышение эффективности автоматизированного контроля процесса осаждения тонких пленок на основе емкостного метода.

Научная новизна работы заключается в следующем:

— предложены и исследованы емкостные метод и датчик контроля толщины покрытий, в процессе их нанесения в вакууме;

— разработана математическая модель емкостного датчика, связывающая изменение емкости с изменением толщины покрытия.

В результате проведения исследований сформулированы основные научные положения, которые выносятся на защиту:

— емкостный датчик толщины покрытий;

— математическая модель емкостного датчика;

— принципы построения емкостного датчика толщины покрытий, позволяющее уменьшить влияние температуры на датчик.

Практическая ценность работы заключается в следующем:

— разработан емкостный датчик толщины покрытий, наносимых в вакууме;

— разработана система автоматического контроля толщины покрытий;

— исследованы чувствительность и ресурс емкостного датчика;

— уменьшена температурная зависимость показаний датчика за счет применения компенсационноко конденсатора.

Достоверность результатов диссертационной работы подтверждена корректно полученными данными теоретических расчетов и экспериментальных исследований датчика и системы автоматического контроля толщины покрытий в целом с опытными образцами аппаратных средств.

Материалы диссертационной работы прошли апробацию на конференциях и симпозиумах:

— «Высокие технологии в промышленности России», (Москва, 20 042 006 гг.);

— «Моделирование и обработка информации в технических системах», (Рыбинск, 2004 г.);

— «XXIX конференции молодых ученых и студентов», (Рыбинск, 2005 г.);

— «VI Всероссийской научно-практической конференции», (Ярославль, 2005 г.);

— «XI Всероссийской межвузовской научно-технической конференции студентов и аспирантов», (Москва, 2005 г.).

По материалам диссертации опубликовано 12 печатных работ, из которых 1 патент, 8 статей и 3 тезиса в сборниках материалов конференций и симпозиумов.

Диссертация состоит из введения, четырех глав, заключения и трех приложений на 129 страницах, содержит 51 рисунок, 10 таблиц, список источников из 95 наименований.

4.4 Выводы по четвертой главе.

1 Созданы опытные образцы емкостного датчика толщины покрытий и устройства сопряжения с ПК.

2 Создано программное обеспечение, осуществляющее обработку выходного сигнала емкостного датчика толщины покрытий, управление температурой датчика.

3 Разработана и технически реализована система регулирования температуры емкостного датчика толщины покрытий, что позволило увеличить точность измерений.

4 Проведено экспериментальное исследование емкостного датчика толщины покрытий на установке вакуумного напыления УВН-2М-1, в результате которого получены экспериментальные кривая и статические характеристики датчика. Датчик обеспечивает контроль толщины покрытия с погрешностью не более 4,9% при средней толщине 4 мкм. Интегральная чувствительность датчика по толщине составила 0,365 мкм" 1 для зазора между обкладками 125 мкм в диапазоне от 0 до 84 мкм. Исследован ресурс датчика, который составил 84 мкм при величине зазора между обкладками 125 мкм.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

.

Основные научные и практические результаты работы показали возможность создания системы автоматического контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме, на базе IBM PC-совместимых ПК как средства дополнительного обеспечения качества покрытий.

В процессе выполнения работы автором были получены следующие результаты:

1 В результате анализа существующих методов контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме, установлено, что в настоящее время нет универсальных методов и средств, в равной степени удовлетворяющих всем предъявляемым требованиям к методам и датчикам оперативного технологического контроля процесса осаждения покрытий в вакууме. Для измерения толщины покрытий предложен новый емкостный датчик, позволяющий контролировать толщину как металлических, так и диэлектрических покрытий. v 2 Разработана и исследована математическая модель емкостного датчика толщины покрытий, связывающая изменение емкости с изменением толщины покрытия. :

3 Технически реализован емкостный датчик толщины покрытий.

4 Разработаны и технически реализованы аппаратные и программные средства для создания системы автоматического контроля толщины покрытий, k где в качестве датчика толщины используется емкостный датчик.

5 Разработана и технически реализована система регулирования температуры емкостного датчика толщины покрытий, что позволило увеличить точность измерений.

6 Экспериментально исследован емкостный датчик в составе системы автоматического контроля толщины покрытий. Датчик обеспечивает контроль.

1 толщины покрытия с погрешностью не более 4,9% при средней толщине.

4 мкм. Интегральная чувствительность датчика по толщине составила 0,365 мкм-1 для зазора между обкладками 125 мкм в диапазоне от 0 до 84 мкм.

7 Повышена эффективность контроля толщины металлических тонкопленочных покрытий:

— разработанный дифференциальный датчик имеет большой диапазон контролируемых толщин (до нескольких сотен микрометров), что в десятки раз превышает ресурс кварцевого датчика и позволяет контролировать толщину относительно толстых покрытий, применяемых в машиностроении и авиационной промышленности;

— дифференциальный датчик температуростоек и может работать в процессе получения покрытий при температуре изделий до 350 °C.

Основные научные и практические результаты диссертационной работы внедрены на ООО «НПП Тензосенсор» и ООО НТЦ «Интрофизика» (г. Рыбинск) (акты внедрения приведены в приложении Б), а также используются в учебном процессе РГАТА им. П. А. Соловьева при преподавании дисциплины «Конструкторско-технологическое обеспечение производства ЭВМ», что подтверждается справкой, приведенной в приложении В.

Использование системы автоматического контроля толщины покрытий, позволяет измерять толщину осажденного покрытия и является способом дополнительного обеспечения качества получаемых покрытий.

В заключение автор выражает глубокую благодарность научному руководителю профессору Э. И. Семенову и доценту А. В. Гусарову за обсуждение материалов диссертационной работы и ценные советы, А. Н. Ломанову (Рыбинская государственная авиационная технологическая академия им. П. А. Соловьева) и И. Ю. Паутову, Н. А. Швалеву (ОАО «НПО» Сатурн") за помощь в проведении экспериментальных исследований, а также директору научно-производственной фирмы «Тензосенсор» В. С. Никитину за помощь в проведении испытаний и внедрении разработанной системы автоматического контроля толщины покрытий.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Технология тонких пленок Текст.: справочник: в 2-х т. — под ред. Л. Майссела, Р. Глэнга. — пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона, Г. Г. Смолко. -М.: Сов. радио, 1977. Т. 1 — 664 е.: ил.
  2. , И. Л. Нанесение защитных покрытий в вакууме Текст. / И. Л. Ройх, Л. Н. Колтунова, С. Н. Федосов. М.: Машиностроение, 1976. -368 е.: ил.
  3. , И. Л. Защитные покрытия на стали Текст. / И. Л. Ройх, Л. Н. Колтунова. -М.: Машиностроение, 1971.-280 е.: ил.
  4. , А. И. Справочник оператора установок по нанесению покрытий в вакууме / А. И. Костржицкий, В. Ф. Карпов, М. П. Кабанченко и др. М.: Машиностроение, 1991. — 176 е.: ил.
  5. Кафедра ИУ4 МГТУ им. Н. Э. Баумана Электронный ресурс. Электрон. дан. — М.: МГТУ им. Н. Э. Баумана, 1997 —. — Режим доступа: http://cdl.iu4.bmstu.ru, свободный. — Загл. с экрана. — Яз. рус., англ.
  6. , Л. К. Методы нанесения тонких пленок в вакууме Текст. / Л. К. Ковалев, Ю. В. Панфилов // Справочник. Инженерный журнал. 1997.3.-С. 20−28.
  7. Технология тонких пленок Текст.: справочник: в 2-х т. — под ред. Л. Майссела, Р. Глэнга. — пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона, Г. Г. Смолко. -М.: Сов. радио, 1977. Т. 2 — 768 е.: ил.
  8. , А. А. Состояние и тенденции развития методов и средств контроля толщины покрытий в приборостроении Текст. /
  9. A. А. Богородицкий, А. А. Капитанов, А. А. Мельников // Измерения, контроль, автоматизация. 1982. — № 1. — С. 9−14.
  10. , В. А. Современное состояние и тенденции развития нераз-рушающего контроля покрытий (Обзор) Текст. / В. А. Троицкий,
  11. B. И. Загребельный, Н. Н. Синица // Автоматическая сварка. 1986. — № 7. — С. 22−29.
  12. , Ф. П. Датчики оперативного технологического контроля процессов нанесения и травления пленок Текст. / Ф. П. Демидов, JI. М. Амосова // Электронная промышленность. 1991. — № 7. — С. 20−26.
  13. , Б. С. Вакуумная техника в производстве интегральных схем Текст. / Под. общ. ред. Р. А. Нилендера. М.: Энергия, 1972. — 256 с.: ил.
  14. , В. П. Весовой измеритель толщины и скорости роста покрытий Текст. / В. П. Мищенко, П. П. Осечков, JI. Ф. Новиченко // Проблемы специальной электрометаллургии. 1985. — № 4. — С. 51−55.
  15. , В. П. Автоматизированная система управления процессом электронно-лучевого нанесения покрытий Текст. / В. П. Мищенко, Н. В. Подола, В. Н. Воробьев, С. С. Тарасов // Проблемы специальной электрометаллургии. 1985. -№ 3. — С. 45−50.
  16. , Г. С. Механотроны Текст. / Г. С. Берлин. М.: Радио и связь, 1984. — 248 е.: ил.
  17. Зигмунд, Х.-И. Новые измерительные приборы и микропроцессорное управление для напылительных и распылительных установок Текст. / Х.-Й. Зигмунд. Ганау: Лейбольд-Хереус ГМБХ, 1980. — 33 е.: ил.
  18. , Ф. П. Применение пьезокварцевого микровзвешивания при изготовлении тонкопленочных структур Текст. / Ф. П. Демидов,
  19. A. И. Лоскутов, В. К. Ершов // Электронная промышленность. 1989. — № 11. -С. 20−21.
  20. , В. В. Пьезорезонансные датчики Текст. / В. В. Малов. 2-е изд., перераб. и доп. / В. В. Малов. — М.: Энергоатомиздат, 1989. — 272 с.: ил.
  21. , А. Б. Прибор для контроля толщины и скорости осаждения пленок при вакуумном испарении Текст. / А. Б. Ляпахин, Б. Л. Пьянков, Д. Б. Горбачев // Оптико-механическая промышленность. 1988. — № 1. — С. 29−30.
  22. , С. В. Модуль контроля и управления процессом напыления тонких пленок Текст. / С. В. Чураев, В. И. Хомяков // Каталог приборов. -Минск: Наука и техника, 1988. С. 152−153.
  23. Заявка 98 100 837 Российская Федерация, МКИ6 С 23 С 14/35. Устройство для нанесения покрытий в вакууме Текст. / В. Г. Кузнецов,
  24. B.П.Булатов, С. И. Рыбников (Россия) — заявл. 01.13.1998 — опубл. 27.10.1999, Бюл. № 12.-3 с.
  25. , А. В. Анализ точностных характеристик фотометрического датчика толщины пленок Текст. / А. В. Юдин, С. Э. Семенова // Датчики и системы. 2001. — № 11. — С. 44−46.
  26. , Е. А. Контроль толщин пленок при плазменном ВЧ распылении диэлектриков Текст. / Е. А. Колгин // Изв. Ленинград, электротехн. ин-та им. В. И. Ульянова (Ленина). 1989. — Вып. 408. — С. 57−60.
  27. , Ю. А. Технологический контроль размеров в микроэлектронном производстве Текст. / Ю. А. Быстров, Е. А. Колгин, Б. Н. Котлецов -М.: Радио и связь, 1988. 168 е.: ил.
  28. , Е. А. Об опыте применения лазерной системы контроля в установках термовакуумного нанесения фотослоев на основе селенида кадмия. Текст. / Е. А. Колгин // Изв. Ленинград, электротехн. ин-та им. В. И. Ульянова (Ленина). -1993. Вып. 455. — С. 3−6.
  29. , Г. В., Нанесение неравнотолщинных покрытий с использованием оптического контроля Текст. / Г. В. Пантелеев, А. А. Журавлев // Оптико-механическая промышленность. -1988. № 3. — С. 35−36.
  30. А. с. 890 760 СССР, МКИ3 С 23 С 13/08. Устройство для контроля скорости и толщины пленок на подложках Текст. / В. А. Тучин, Н. Т. Ключник, А. И. Гуров (СССР) — заявл. 19.08.1979 — опубл. 13.05.1980. Бюл. № 16.-4 с.
  31. А. с. 1 026 004 СССР, МКИ3 G 01 В 11/16. Устройство для контроля толщины тонких пленок, наносимых на подложку Текст. / P. X. Фазылзянов, И. X. Исаков, И. С. Гайнутдинов (СССР) — заявл. 06.01.1982 — опубл. 30.06.1983. Бюл. № 12.-3 с.
  32. , О. П., Устройства и методы фотометрического контроля в технологии производства ИС Текст. / О. П. Глудкин, А. Е. Густов. М.: Радио и связь, 1981. — 112 с.: ил. (Масс, б-ка шщ. «Электроника»).
  33. , Н. М. Устройство контроля толщины и показателя преломления прозрачных пленок в процессе выращивания Текст. / Н. М. Зеркаль. // Электронная промышленность. 1989. -№ 1. — С. 50.
  34. , В. А. Система лазерного контроля процессов плазмохимиче-ского травления Текст. / В. А. Сокол, С. С. Сухоруков, В. М. Тельнов, В. И. Хомяков, С. В. Чукаев // Электронная промышленность. -1989. № 1. — С. 57.
  35. Сморгонский завод оптического станкостроения Электронный ресурс. Электрон, дан. -. — Режим доступа: http://szos.nm.ru, свободный. — Загл. с экрана. — Яз. рус.
  36. , Б. М., Измерение параметров оптических покрытий Текст. / Б. М. Комраков, Б. А. Шапочкин. М.: Машиностроение, 1986. — 136 с.: ил. (Б-ка приборостроителя).
  37. Пат. 2 032 237 Россия, МКИ6 Н 01 С 17/08, Н 01 L 21/66. Способ контроля поверхностного сопротивления тонких резистивных пленок в процессе осаждения Текст. / В. К. Смолин, В. П. Уткин (Россия) — заявл. 04.02.1992 — опубл. 27.03.1995, Бюл. № 9.-3 с.
  38. Семенов, Э. II Автоматическое управление процессом нанесения рези-стивных пленок Текст. / Э. И. Семенов // Труды Украинского вакуумного общества. Харьков, 1997. — Т. 3. — С. 348−350.
  39. , В. А. Методика и практика технических экспериментов Текст.: учеб. пособие для студ. высш. учеб. заведений / В. А Рогов, Г. Г. Позняк. -М.: Изд. центр «Адкадемия», 2005. 288 с.
  40. , JI. Пленочная микроэлектроника Текст. / JI. Холлэнд, пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона. М.: Мир, 1968. — 316 с.
  41. А. с. 1 127 913 СССР, МКИ3 С 23 С 13/00. Устройство для контроля толщины покрытия Текст. / Э. И. Семенов, В. П. Сидоркин, В. Ф. Латышев (СССР) — заявл. 30.03.1983 — опубл. 07.12.1984, Бюл. № 45. С. 4.
  42. , Э. И. Методы контроля технологического процесса термовакуумного нанесения защитных покрытий и тонких пленок и их параметров Текст. / Э. И. Семенов // Контроль. Диагностика. 1999. — № 3. — С. 17−24.
  43. Пат. 2 261 416 Российская Федерация, МПК7 G 01 В 7/06. Емкостный способ контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме Текст. / В. К. Козка, Э. И. Семенов, А. С. Истомин (Россия) — заявл. 06.07.2004 — опубл. 27.09.2005, Бюл. № 27. С. 4.
  44. Материалы в приборостроении и автоматике Текст.: справочник под ред. Ю. М. Пятина. 2-е изд., перераб. и доп. — М.: Машиностроение, 1982. -528 с.: ил.
  45. , Г. И. Теплостойкие пластмассы Текст. / Г. И. Назаров, В. В. Сушкин. М.: Машиностроение, 1980. — 208 с.: ил.
  46. , Г. И. Конструкционные пластмассы Текст. / Г. И. Назаров, В. В. Сушкин, J1. В. Дмитриевская. М.: Машиностроение, 1973. — 190 с.: ил.
  47. , В. Н. Электрические конденсаторы постоянной емкости Текст. / В. Н. Гусев, В. Ф. Смирнов. М. «Советское радио», 1968. — 108 с.: ил.
  48. , JI. Р. Теоретические основы электротехники Текст.: в 3-х ч. / JI. Р. Нейман, П. JI. Калантаров. JI.: Энергоиздат., 1954. — Ч. 3. — 245 с.: ил.
  49. , И. Н. Справочник по математике для инженеров и учащихся ВТУЗов Текст. / И. Н. Бронштейн, К. А. Семендяев. 13-е изд., испр. -М.: Наука, Гл. ред. физ.-мат. лит., 1986. — 544 с.: ил.
  50. , Ю. Я. Расчет электрической емкости Текст. / Ю. Я. Иоссель, Э. С. Кочанов, М. Г. Струнский. 2-е изд. — JI.: Энергоиздат, 1981.-302 е.: ил.
  51. , И. В. Курс общей физики. Электричество и магнетизм. Волны. Оптика. Текст. / И. В. Савельев: учебное пособие в 3-х т. 3-е изд. испр. — М: Наука. Гл. ред. физ.-мат. Лит., 1988. — Т. 2. — 346 с.: ил.
  52. , Б. М. Справочник по физике Текст. / Б. М. Яворский, А. А. Детлаф. 3-е изд., испр. — М.: Наука, Гл. ред. физ.-мат. лит., 1990. -624 с.: ил.
  53. , Р. Электрические измерения неэлектрических величин Текст. / Р. Тиль. М: Энергоиздат, 1984. — 97 е.: ил.
  54. , В. Г. Элементы современной низкочастотной электроники Текст. / В. Г. Лугвин. М. — Л.: Энергоиздат, 1964. — 88 е.: ил.
  55. , Б. 3. Высокочастотные емкостные и индуктивные датчики Текст. / Б. 3. Михлин. -М.: Госэнергоиздат, 1961.-120 е.: ил.
  56. Измерения и автоматизация Текст.: Каталог. М.: National Instruments, 2002. — 49 е.: ил.
  57. Ballard, L. J. Instrumentation for measurment of moisture Text. / L. J. Ballard «Nat. Coop. Highway Res. Program Rep.», 1973. — №. 138. — 66 p.
  58. Magruder, Thomas. Гибкие масштабируемые системы сбора данных на основе ПК Текст. / Thomas Magruder // Instrumentation Newsletter, 2001. Т. 13.-№ 3.-С. 4−5.
  59. , Н. Н. Аппаратные и программные средства систем управления : учебное пособие. Текст. / Н. Н. Севрюгин. Рыбинск: РГАТА, 2003. -90 е.: ил.
  60. , Ю. В. Разработка устройств сопряжения для персонального компьютера типа IBM PC : практическое пособие Текст.: под общ. ред. Ю. В. Новикова. М: ЭКОМ, 2002. — 224 е.: ил.
  61. National Instruments Электронный ресурс. Электрон, дан. —. — Режим доступа: http://www.ni.com, свободный. — Загл. с экрана. — Яз. рус., англ.
  62. Фирма Элике Электронный ресурс. Электрон, дан. -. — Режим доступа: http://www.Eliks.ru., свободный. — Загл. с экрана. — Яз. рус., англ.
  63. , Д. Р. Устройство параллельного ввода-вывода информации для IBM PC Текст. / Д. Р. Дмитриев, М. Н. Подлевских // Приборы и системы управления. 1994. — № 2. — С. 26−27.
  64. Schumny, Н. Digital measurement systems Text. / H. Schumny // Modern electrical and magnetic measurement: proceedings of the 7th IMEKO TC4 International Symposium. Part 1. — Prague, 1995. — P. 1−7.
  65. , Т. И. Построение современных измерительных систем на базе стандартных интерфейсов Текст. / Т. И. Кривченко, В. А. Сталневич, А. В. Клементьев, Г. Н. Новопашенный. // Приборы и системы управления. -1996.-№ 1.-С. 1−6.
  66. , И. П. Основы теории транзисторов и транзисторных схем Текст. / И. П. Степаненко. 4-е изд., перер. и доп. — М.: Энергия, 1977. -672 с.: ил.
  67. Фирма Ниеншанц-Автоматика Электронный ресурс. Электрон, дан. —. — Режим доступа: http://www.nnz-ipc.ru, свободный. — Загл. с экрана. — Яз. рус., англ.
  68. , В. Структура измерительной системы на базе пассивных датчиков Текст. / В. Яковлев // Современные технологии автоматизации. -2002. -№ 1.- С. 76−84.
  69. Сорокин, С. A. IBM PC в промышленности Текст. / С. А. Сорокин // Приборы и системы управления. 1996. — № 1. — С. 46−51.
  70. , В. Г. Управляющий вычислительный комплекс на базе ПЭВМ PC Текст. / В. Г. Хазаров, М. С. Утешев // Приборы и системы управления.- 1996.-№ 6.-С. 8−10.
  71. The Measurement and automation Text.: Catalog. Austin: National Instruments, 2002. — 769 p.: ill.
  72. Фирма ProSoft Электронный ресурс. Электрон, дан. —. — Режим доступа: http://www.prosoft.ru, свободный. — Загл. с экрана. — Яз. рус., англ.
  73. , В. М. Создание и применение средств вычислительной техники для управления технологическими процессами в странах СНГ Текст. / В. М. Костелянский // Приборы и системы управления. 1996. — № 10. -С. 13−12.
  74. , А. М. Теоретические основы построения эффективных АСУ ТП Текст.: конспект лекций / А. М. Литюга, Н. В. Клиначев, В. М. Мазуров. -Offline версия 1.1. Тула, Челябинск, 2002. — 703 файла: ил.
  75. , Р. Новая тенденция в области измерений на базе персональных компьютеров Текст. / Р. Керер // Приборы и системы управления. 1997 — № 4 — С. 25−27.
  76. , Н. И. Устройства связи с объектом. Состояние и перспективы Текст. / Н. И. Гореликов, Б. М. Кауфман, А. Г. Кузнецов, А. Я. Соколов // Приборы и системы управления. 1990. — № 2 — С. 14−16.
  77. Блокин-Мечталин, Ю. К. Многоканальный аналого-цифровой измерительный преобразователь для магистрально-модульных систем Текст. / Ю. К. Блокин-Мечталин, В. М. Власенко, В. И. Матвиив, А. В. Судаков // Измерительная техника. 1991. — № 11 — С. 15−16.
  78. Краткий каталог продукции ПроСофт 8.0. М.: ProSoft, 2002. — 273 е.:ил.
  79. , В. А. Структура измерительной системы на базе пассивных датчиков Текст. / В. А. Яковлев // Современные технологии автоматизации. -2002.-№ 1.-С. 76−84.
  80. , А. И. Метрология и радиоизмерения Текст.: конспект лекций / А. И. Дворсон. Рыбинск: РГАТА, 1995. — Ч. 1. — 66 е.: ил.
  81. , П. Оценка точности результатов измерений Текст.: пер. с нем. / П. Тойберт. М.: Энергоатомиздат, 1988. — 88 с.: ил.
  82. MathCad 6.0 PLUS. Финансовые, инженерные и научные расчеты в среде Windows 95 Текст. / Перевод с англ. М.: Информационно-издательский дом «Филинъ», 1996. — 712 с.
  83. , Е. М. Mathcad 2000 Pro: символьное и численное решение разнообразных задач Текст. / Е. М. Кудрявцев. М.: ДМКПресс, 2001. -576 с.: ил.
  84. , А. С. Измерение толщины покрытий в процессе их нанесения с помощью емкостного датчика Текст. / А. С. Истомин, Э. И. Семенов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. 2006. — № 2. — С. 49−51.122
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!