ΠŸΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒ Π² написании студСнчСских Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚
АнтистрСссовый сСрвис

ИспользованиС пористого Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия для создания Π½Π°Π½ΠΎΡ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… структур ΠΈ ΠΏΡ€ΠΈΠ±ΠΎΡ€ΠΎΠ² наноэлСктроники

ΠšΡƒΡ€ΡΠΎΠ²Π°ΡΠŸΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒ Π² Π½Π°ΠΏΠΈΡΠ°Π½ΠΈΠΈΠ£Π·Π½Π°Ρ‚ΡŒ ΡΡ‚ΠΎΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒΠΌΠΎΠ΅ΠΉ Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Ρ‹

АвтоэмиссионныС исслСдования ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… массивов ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ Π² ΠΏΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚ΠΎΠΌ оксидС алюминия ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΠ»ΠΈΡΡŒ Π² ΠΏΠΎΡΡ‚оянно Ρ‚ΠΎΠΊΠΎΠ²ΠΎΠΌ ΠΈ ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ½ΠΎΠΌ Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΠ°Ρ…. Π’ ΠΊΠ°Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π²Π΅ ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄Π° использовалась автоэмиссионная ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Π°, Π° Π² ΠΊΠ°Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π²Π΅ Π°Π½ΠΎΠ΄Π° использовался стСклянный экран ΠΏΠΎΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚Ρ‹ΠΉ Π»ΡŽΠΌΠΈΠ½ΠΎΡ„ΠΎΡ€ΠΎΠΌ ZnS. РасстояниС ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ ΠΈ Π°Π½ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ составляло 300 ΠΌΠΊΠΌ, исслСдования ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΠ»ΠΈΡΡŒ Π² Π²Π°ΠΊΡƒΡƒΠΌΠ΅ 2Β· 10−7 ΠΌΠ±Π°Ρ€. Π’ ΠΏΡ€ΠΎΡ†Π΅ΡΡΠ΅… Π§ΠΈΡ‚Π°Ρ‚ΡŒ Π΅Ρ‰Ρ‘ >

ИспользованиС пористого Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия для создания Π½Π°Π½ΠΎΡ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… структур ΠΈ ΠΏΡ€ΠΈΠ±ΠΎΡ€ΠΎΠ² наноэлСктроники (Ρ€Π΅Ρ„Π΅Ρ€Π°Ρ‚, курсовая, Π΄ΠΈΠΏΠ»ΠΎΠΌ, ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΡŒΠ½Π°Ρ)

Π‘ΠΎΠ΄Π΅Ρ€ΠΆΠ°Π½ΠΈΠ΅ Π’Π²Π΅Π΄Π΅Π½ΠΈΠ΅

1. Π‘ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π· ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ пористого оксида алюминия

2. ВСхнология nanoimprint

3. ΠœΠΎΡ€Ρ„ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΡ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ пористого AL2O3

4. ΠŸΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚Ρ‹ΠΉ AL2O3 Π² ΠΊΠ°Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π²Π΅ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ»Π°Ρ‚ для синтСза Π½Π°Π½ΠΎΠ½ΠΈΡ‚Π΅ΠΉ ΠΈΠ»ΠΈ Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ с ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΡ€ΡƒΠ΅ΠΌΡ‹ΠΌ Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠΌ ΠΈ Π³Π΅ΠΎΠΌΠ΅Ρ‚ричСской Π°Π½ΠΈΠ·ΠΎΡ‚Ρ€ΠΎΠΏΠΈΠ΅ΠΉ

5. ΠœΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Ρ‹ ΠΈΠ· Π½Π°Π½ΠΎΠΏΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия Π² ΠΊΠ°Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π²Π΅ Ρ‡ΡƒΠ²ΡΡ‚Π²ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… элСмСнтов

6. УправляСмыС ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Π΅ автоэмиссионныС ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ Π½Π° ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π΅ пористого оксида алюминия Π—Π°ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ Бписок Π»ΠΈΡ‚Π΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρ‹ оксид алюминий Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΊΠ° автоэмиссионный Π’Π²Π΅Π΄Π΅Π½ΠΈΠ΅ ПлСнки пористого оксида алюминия с Π²Ρ‹ΡΠΎΠΊΠΎΠΉ Ρ€Π΅Π³ΡƒΠ»ΡΡ€Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ ячСисто-пористой структуры находят всС Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ ΡˆΠΈΡ€ΠΎΠΊΠΎΠ΅ ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠ΅ для формирования Π½Π°Π½ΠΎΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½, шаблонов для синтСза Π½Π°Π½ΠΎΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ², Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ упорядочСнных массивов Π°Π½ΠΈΠ·ΠΎΡ‚Ρ€ΠΎΠΏΠ½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… структур Π² ΡΠ»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ½Π½Ρ‹Ρ…, ΠΌΠ°Π³Π½ΠΈΡ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΈ Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΠ½Π½Ρ‹Ρ… ΠΏΡ€ΠΈΠ±ΠΎΡ€Π°Ρ… ΠΈ ΠΏΠΎΡΡ‚ΠΎΠΌΡƒ ΡΠ²Π»ΡΡŽΡ‚ΡΡ ΠΏΡ€Π΅Π΄ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠΌ интСнсивного изучСния.

Π˜Π½Ρ‚Π΅Ρ€Π΅Ρ ΠΊ Ρ‚Π°ΠΊΠΈΠΌ структурам связан с Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ изучСния Π½Π° ΠΈΡ… ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Ρ€Π΅ ΠΊΠ°ΠΊ Ρ„ΡƒΠ½Π΄Π°ΠΌΠ΅Π½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… Π·Π°Π΄Π°Ρ‡ (процСссы самоорганизации ΠΈ ΠΌΠ°Π³Π½Π΅Ρ‚ΠΈΠ·ΠΌ Π² ΠΏΡ€ΠΎΡΡ‚ранствСнно-упорядочСнных наносистСмах), Ρ‚Π°ΠΊ ΠΈ Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Π½ΠΈΡ ΡˆΠΈΡ€ΠΎΠΊΠΎΠ³ΠΎ ΠΊΡ€ΡƒΠ³Π° ΠΏΡ€ΠΈΠΊΠ»Π°Π΄Π½Ρ‹Ρ… вопросов, ΠΊΠ°ΡΠ°ΡŽΡ‰ΠΈΡ…ΡΡ получСния ΠΌΠ°Π³Π½ΠΈΡ‚Π½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ·ΠΈΡ‚ΠΎΠ² для устройств хранСния ΠΈΠ½Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠ°Ρ†ΠΈΠΈ со ΡΠ²Π΅Ρ€Ρ…высокой ΠΏΠ»ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ записи. Π’Π°ΠΊ ΠΆΠ΅, синтСз Π°Π½ΠΈΠ·ΠΎΡ‚Ρ€ΠΎΠΏΠ½Ρ‹Ρ… мСталличСских наноструктур интСрСсСн с Ρ‚ΠΎΡ‡ΠΊΠΈ зрСния создания ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² с Π³Ρ€ΠΎΠΌΠ°Π΄Π½Ρ‹ΠΌ Ρ„Π°ΠΊΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΌ ΡˆΠ΅Ρ€ΠΎΡ…ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΠΎΡΡ‚ΠΈ ΠΈ ΡƒΠ΄Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ ΠΏΠ»ΠΎΡ‰Π°Π΄ΠΈ повСрхности, Ρ‡Ρ‚ΠΎ особСнно Π²Π°ΠΆΠ½ΠΎ ΠΏΡ€ΠΈ создании каталитичСски Π°ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ².

ΠšΡƒΡ€ΡΠΎΠ²ΠΎΠΉ ΠΏΡ€ΠΎΠ΅ΠΊΡ‚ состоит ΠΈΠ· Π²Π²Π΅Π΄Π΅Π½ΠΈΡ, рассматриваСмых вопросов ΠΈ Π·Π°ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π΅Π½ΠΈΡ.

1. Π‘ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π· ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ пористого оксида алюминия Π‘ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π· ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΠΊ оксида алюминия с Π²Ρ‹ΡΠΎΠΊΠΎΡƒΠΏΠΎΡ€ΡΠ΄ΠΎΡ‡Π΅Π½Π½ΠΎΠΉ структурой ΠΏΠΎΡ€ проводится ΠΏΠΎ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΈΠΊΠ΅ двухстадийного Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ окислСния Π² Π²ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… растворах элСктролитов. Для синтСза ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡŽΡ‚ΡΡ Π³Π°Π»ΡŒΠ²Π°Π½ΠΎΡΡ‚Π°Ρ‚ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΠΈΠΉ, потСнциостатичСский ΠΈ ΠΊΠΎΠΌΠ±ΠΈΠ½ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΡ‹. Рост оксида Al ΠΏΡ€ΠΎΠΈΡΡ…ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ Π½Π° Π°Π½ΠΎΠ΄Π΅:

Π° ΠΈΠΎΠ½Ρ‹ Π²ΠΎΠ΄ΠΎΡ€ΠΎΠ΄Π° Π²ΠΎΡΡΡ‚Π°Π½Π°Π²Π»ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‚ΡΡ Π½Π° ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄Π΅:

РСакция, ΠΏΡ€ΠΎΡ‚Π΅ΠΊΠ°ΡŽΡ‰Π°Ρ Π½Π° Π°Π½ΠΎΠ΄Π΅ (Al) зависит ΠΎΡ‚ ΠΏΠΎΡ‚Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π»Π° элСктрода, Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρ‹ ΠΈ pH срСды, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ Π² ΡΠ²ΠΎΡŽ ΠΎΡ‡Π΅Ρ€Π΅Π΄ΡŒ опрСдСляСтся ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅ΠΌΡ‹ΠΌ элСктролитом.

Π’ Π·Π°Π²ΠΈΡΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΠΈ ΠΎΡ‚ ΡƒΡΠ»ΠΎΠ²ΠΈΠΉ синтСза, Π² Ρ‡Π°ΡΡ‚ности ΠΎΡ‚ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅ΠΌΠΎΠ³ΠΎ элСктролита, ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Ρ‹Π²Π°Ρ‚ΡŒΡΡ Π΄Π²Π° Ρ‚ΠΈΠΏΠ° Π°Π½ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ, ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π΅Π΄Ρ‘Π½Π½Ρ‹Ρ… Π½Π° Ρ€ΠΈΡΡƒΠ½ΠΊΠ΅ 1.1. Π‘Π°Ρ€ΡŒΠ΅Ρ€Π½Ρ‹ΠΉ Ρ‚ΠΈΠΏ ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΠΊ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ Π² Π½Π΅ Ρ€Π°ΡΡ‚Π²ΠΎΡ€ΡΡŽΡ‰ΠΈΡ… оксид элСктролитах (5 < pH < 7), Π½Π°ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Ρ€, Π² Ρ€Π°ΡΡ‚Π²ΠΎΡ€Π°Ρ… Π±ΠΎΡ€Π½ΠΎΠΉ кислоты. ПлСнки пористого Ρ‚ΠΈΠΏΠ° ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΡƒΡŽΡ‚ΡΡ Π² ΡΠ»Π°Π±ΠΎ Ρ€Π°ΡΡ‚Π²ΠΎΡ€ΡΡŽΡ‰ΠΈΡ… элСктролитах, Ρ‚Π°ΠΊΠΈΡ… ΠΊΠ°ΠΊ сСрная, фосфорная ΠΈ Ρ‰Π°Π²Π΅Π»Π΅Π²Π°Ρ кислоты.

Рис. 1.1 — БхСматичСскоС ΠΈΠ·ΠΎΠ±Ρ€Π°ΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΠΊ оксида алюминия.

Оба Ρ‚ΠΈΠΏΠ° оксидных ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΠΊ алюминия состоят ΠΈΠ· Π΄Π²ΡƒΡ… частСй: Π²Π½ΡƒΡ‚Ρ€Π΅Π½Π½Π΅Π³ΠΎ ΠΈ Π²Π½Π΅ΡˆΠ½Π΅Π³ΠΎ слоя. Π’Π½ΡƒΡ‚Ρ€Π΅Π½Π½ΠΈΠΉ слой прСдставляСт собой чистый оксид алюминия, Π² Ρ‚ΠΎ Π²Ρ€Π΅ΠΌΡ ΠΊΠ°ΠΊ внСшний содСрТит примСси Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… ΠΈΠΎΠ½ΠΎΠ².

Π‘Ρ…Π΅ΠΌΠ° получСния оксида алюминия с Π²Ρ‹ΡΠΎΠΊΠΎΡƒΠΏΠΎΡ€ΡΠ΄ΠΎΡ‡Π΅Π½Π½ΠΎΠΉ структурой ΠΏΠΎΡ€ ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Π° Π½Π° Ρ€ΠΈΡΡƒΠ½ΠΊΠ΅ 1.2.

Рис. 1.2 — Двухстадийная ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΈΠΊΠ° получСния оксида алюминия с Π²Ρ‹ΡΠΎΠΊΠΎΡƒΠΏΠΎΡ€ΡΠ΄ΠΎΡ‡Π΅Π½Π½ΠΎΠΉ структурой ΠΏΠΎΡ€.

На ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΎΠΉ стадии ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ высокочистого Al (Π½Π΅ ΠΌΠ΅Π½Π΅Π΅ 99,99%) ΠΎΡ‡ΠΈΡ‰Π°ΡŽΡ‚. Π—Π°Ρ‚Π΅ΠΌ Π°Π»ΡŽΠΌΠΈΠ½ΠΈΠ΅Π²ΡƒΡŽ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΡƒ ΠΏΠΎΠ΄Π²Π΅Ρ€Π³Π°ΡŽΡ‚ ΠΎΡ‚ΠΆΠΈΠ³Ρƒ Π² Ρ‚Π΅Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ 3 часов ΠΏΡ€ΠΈ 500? Π‘ Π΄Π»Ρ роста Π·Π΅Ρ€Π΅Π½ мСталличСского алюминия (рис. 1.2 Π°). Для ΡƒΠΌΠ΅Π½ΡŒΡˆΠ΅Π½ΠΈΡ ΡˆΠ΅Ρ€ΠΎΡ…ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΠΎΡΡ‚ΠΈ повСрхности алюминия ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½ΠΎ проводят ΠΌΠ΅Ρ…Π°Π½ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΡƒΡŽ ΠΈΠ»ΠΈ ΡΠ»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΡ…ΠΈΠΌΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΡƒΡŽ ΠΏΠΎΠ»ΠΈΡ€ΠΎΠ²ΠΊΡƒ (рис. 1.2 Π±). ΠŸΠΎΠ»ΠΈΡ€ΠΎΠ²ΠΊΠ°, Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ ΠΊΠ°ΠΊ ΠΈ Π±ΠΎΠ»ΡŒΡˆΠΎΠΉ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€ Π·Π΅Ρ€Π΅Π½, ΡΠΏΠΎΡΠΎΠ±ΡΡ‚Π²ΡƒΡŽΡ‚ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΡŽ упорядочСнной пористой структуры оксида алюминия с Π±ΠΎΠ»ΡŒΡˆΠΈΠΌ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€ΠΎΠΌ Π΄ΠΎΠΌΠ΅Π½ΠΎΠ². ПослС ΠΏΡ€Π΅Π΄Π²Π°Ρ€ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ ΠΏΠΎΠ΄Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²ΠΊΠΈ повСрхности проводится ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΎΠ΅ Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ΅ окислСниС алюминия[2],[3].

На Π½Π°Ρ‡Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ стадии процСсса, ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΠ΅ΡΡ ΠΏΠΎΡ€Ρ‹ малоупорядочСны (рис. 1.2 Π’ ΠΈ 1.3Π°). Однако Π² Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π΅ сил отталкивания ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ сосСдними ΠΏΠΎΡ€Π°ΠΌΠΈ Π² Ρ…ΠΎΠ΄Π΅ Π΄Π»ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΎΠ³ΠΎ окислСния происходит самоупорядочСниС пористой структуры. Π’ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π΅ этого Π½Π° Π³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ†Π΅ Ρ€Π°Π·Π΄Π΅Π»Π° оксид/ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π» образуСтся пСриодичСская структура с ΠΏΠ»ΠΎΡ‚Π½Π΅ΠΉΡˆΠ΅ΠΉ гСксагональной ΡƒΠΏΠ°ΠΊΠΎΠ²ΠΊΠΎΠΉ ΠΏΠΎΡ€ Π² Al2O3 (рис. 1.3Π±). ПослС ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΎΠ³ΠΎ Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ окислСния ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΡƒ Al2O3 Ρ€Π°ΡΡ‚Π²ΠΎΡ€ΡΡŽΡ‚ Π² ΡΠΌΠ΅ΡΠΈ CrO3/H3PO4, Π½Π΅ Π·Π°Ρ‚рагивая слоя Al, Ρ‡Ρ‚ΠΎΠ±Ρ‹ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ Ρ€Π΅ΠΏΠ»ΠΈΠΊΡƒ Π½ΠΈΠΆΠ½Π΅ΠΉ части оксидной ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠΈ, ΠΈΠΌΠ΅ΡŽΡ‰Π΅ΠΉ ΡƒΠΏΠΎΡ€ΡΠ΄ΠΎΡ‡Π΅Π½Π½ΡƒΡŽ структуру (рис. 1.2Π³). Π’ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π΅ ΠΏΠΎΡΠ»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰Π΅Π³ΠΎ (Π²Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ³ΠΎ) Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ окислСния ΠΏΡ€ΠΈ Ρ‚Π΅Ρ… ΠΆΠ΅ условиях, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΈ ΠΏΡ€ΠΈ ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΎΠΌ окислСнии, удаСтся ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΡƒ оксида алюминия с Π²Ρ‹ΡΠΎΠΊΠΎΠΉ ΡΡ‚Π΅ΠΏΠ΅Π½ΡŒΡŽ упорядочСния ΠΏΠΎΡ€ (рис 1.2Π΄ ΠΈ 1.4). ΠŸΡ€ΠΈ нСобходимости ΠΏΠΎΡ€Ρ‹ ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ Ρ€Π°Π²Π½ΠΎΠΌΠ΅Ρ€Π½ΠΎ Ρ€Π°ΡΡˆΠΈΡ€ΠΈΡ‚ΡŒ химичСским Ρ‚Ρ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ (рис. 1.2Π΅).

Рис. 1.3 — пористая ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠ° оксида алюминия послС ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΎΠ³ΠΎ Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ окислСния: Π°) ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ оксидной ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠΈ; Π±) ниТняя Ρ‡Π°ΡΡ‚ΡŒ ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Ρ‹ (микрофотография ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π° послС сСлСктивного растворСния алюминия).

Рис. 1.4 — ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ пористой ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ оксида алюминия послС Π²Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ³ΠΎ Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ окислСния.

2. ВСхнология nanoimprint

ВСхнология nanoimprint, Π·Π°ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°Π΅Ρ‚ΡΡ Π² ΠΏΡ€Π΅Π΄Π²Π°Ρ€ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΌ нанСсСнии Π½Π° Ρ€ΠΎΠ²Π½ΡƒΡŽ ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ алюминия Π½Π΅Π±ΠΎΠ»ΡŒΡˆΠΈΡ… ΡƒΠ³Π»ΡƒΠ±Π»Π΅Π½ΠΈΠΉ, Π² ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ… ΠΈ ΠΏΡ€ΠΎΠΈΡΡ…ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ ΠΏΠΎΡ€ ΠΏΡ€ΠΈ дальнСйшСм окислСнии. Для получСния Ρ‚Π°ΠΊΠΈΡ… ΡƒΠ³Π»ΡƒΠ±Π»Π΅Π½ΠΈΠΉ примСняСтся ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ ΡˆΡ‚Π°ΠΌΠΏ с ΠΏΠ΅Ρ€ΠΈΠΎΠ΄ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΠΈΠΌΠΈ выступами, ΠΈΠ·Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²Π»Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΉ с ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ рСнтгСновской ΠΈΠ»ΠΈ элСктронно-Π»ΡƒΡ‡Π΅Π²ΠΎΠΉ Π»ΠΈΡ‚ΠΎΠ³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΠΈ, ΠΏΠΎΠ·Π²ΠΎΠ»ΡΡŽΡ‰ΠΈΡ… ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ высокоС Ρ€Π°Π·Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ Π² ΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»Π°Ρ… 25Π½ΠΌ.

Π“Π»Π°Π²Π½Ρ‹ΠΌ прСимущСством Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ Nanoimprint являСтся ΠΌΠ½ΠΎΠ³ΠΎΠΊΡ€Π°Ρ‚Π½ΠΎΠ΅ использованиС ΡˆΡ‚Π°ΠΌΠΏΠ°, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π΄Π΅Π»Π°Π΅Ρ‚ Π΄Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ достаточно Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΡ‡Π½Ρ‹ΠΌ ΠΈ ΡΠΊΠΎΠ½ΠΎΠΌΠΈΡ‡Π½Ρ‹ΠΌ. Π’Π°ΠΊ ΠΆΠ΅ для Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ nanoimprint Π½Π΅Ρ‚ ΠΎΠ³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ‡Π΅Π½ΠΈΠΉ связанных с Π²Ρ‚ΠΎΡ€ΠΈΡ‡Π½Ρ‹ΠΌΠΈ элСктронами, Π΄ΠΈΡ„Ρ€Π°ΠΊΡ†ΠΈΠ΅ΠΉ ΠΈ ΡΡ„Ρ„Π΅ΠΊΡ‚Π°ΠΌΠΈ рассСяния[2].

Данная тСхнология позволяСт ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Ρ‚ΡŒ упорядочСнныС пористыС структуры с Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½ΠΎΠΉ ΡƒΠΏΠ°ΠΊΠΎΠ²ΠΊΠΎΠΉ (гСксагональной, Ρ‚Π΅Ρ‚Ρ€Π°Π³ΠΎΠ½Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ, Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ слоТной) ΠΈ Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹ΠΌ ΠΏΠΎΠΏΠ΅Ρ€Π΅Ρ‡Π½Ρ‹ΠΌ сСчСниСм ΠΏΠΎΡ€ (ромбоэдричСским, ΠΊΠ²Π°Π΄Ρ€Π°Ρ‚Π½Ρ‹ΠΌ, ΠΊΡ€ΡƒΠ³Π»Ρ‹ΠΌ ΠΈ Ρ‚. Π΄.).

Рис. 2.1 — Π”Π°Π½Π½Ρ‹Π΅ ΡΠΊΠ°Π½ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‰Π΅ΠΉ элСктронной микроскопии с ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ пористого оксида алюминия, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½ΠΎΠΉ окислСниСм алюминия с Π½Π°Π½Π΅ΡΡ‘Π½Π½Ρ‹ΠΌΠΈ углублСниями Π½Π° Π΅Π³ΠΎ ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΏΡ€ΠΈ 195 Π’ Π² 0.1 M H3PO4 Π² Ρ‚Π΅Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ 10 часов: Π°) ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ, Π±) ΠΏΠΎΠΏΠ΅Ρ€Π΅Ρ‡Π½ΠΎΠ΅ сСчСниС.

Π‘Π»Π΅Π΄ΡƒΠ΅Ρ‚ ΠΏΠΎΠΌΠ½ΠΈΡ‚ΡŒ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ расстояниС ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ сосСдними ΠΏΠΎΡ€Π°ΠΌΠΈ зависит ΠΎΡ‚ Π½Π°ΠΏΡ€ΡΠΆΠ΅Π½ΠΈΡ. Π’Π°ΠΊΠΈΠΌ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠΌ, Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ΅ окислСниС с ΠΎΡ‚ΠΏΠ΅Ρ‡Π°Ρ‚Π°Π½Π½Ρ‹ΠΌΠΈ углублСниями Π½Π° ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности слСдуСт ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΏΡ€ΠΈ напряТСнии. ΠœΠΈΠΊΡ€ΠΎΡ„ΠΎΡ‚ΠΎΠ³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΠΈ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ пористого оксида алюминия ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½ΠΎΠΉ с ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ описанной ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΈΠΊΠΈ ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Ρ‹ Π½Π° Ρ€ΠΈΡΡƒΠ½ΠΊΠ΅ 2.1.

3. ΠœΠΎΡ€Ρ„ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΡ ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ пористого AL2O3

Π’ ΠΏΡ€ΠΎΡ†Π΅ΡΡΠ΅ Π΄Π»ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ окислСния происходит самоупорядочСниС ΠΏΠΎΡ€, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ΅ ΠΎΠ±ΡŠΡΡΠ½ΡΠ΅Ρ‚ΡΡ с ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ ΠΌΠΎΠ΄Π΅Π»ΠΈ мСханичСских напряТСний, Π²Ρ‹Π·Π²Π°Π½Π½Ρ‹Ρ… силами отталкивания ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ сосСдними ΠΏΠΎΡ€Π°ΠΌΠΈ (рис. 3.1).

Рис. 3.1 — ОбъСмноС Ρ€Π°ΡΡˆΠΈΡ€Π΅Π½ΠΈΠ΅ алюминия ΠΏΡ€ΠΈ Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠΌ окислСнии.

ΠžΡΠ½ΠΎΠ²Π½Ρ‹ΠΌΠΈ полоТСниями, рассматриваСмыми Π² Π΄Π°Π½Π½ΠΎΠΉ Ρ‚Π΅ΠΎΡ€ΠΈΠΈ, ΡΠ²Π»ΡΡŽΡ‚ΡΡ:

1. ОкислСниС происходит Π½Π° Π³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ†Π΅ Ρ€Π°Π·Π΄Π΅Π»Π° ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»/оксид Π³Π»Π°Π²Π½Ρ‹ΠΌ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠΌ Π·Π° ΡΡ‡Π΅Ρ‚ ΠΌΠΈΠ³Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ кислородсодСрТащих ΠΈΠΎΠ½ΠΎΠ² (O2- ΠΈΠ»ΠΈ OH-) ΠΈΠ· ΡΠ»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΡ‚Π°.

2. ΠŸΡ€ΠΈ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠΈ пористого оксида алюминия Ρ‡Π°ΡΡ‚ΡŒ ΠΈΠΎΠ½ΠΎΠ² Al3+, Π΄ΠΈΡ„Ρ„ΡƒΠ½Π΄ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΡ… Ρ‡Π΅Ρ€Π΅Π· оксидный слой, ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ Π² Ρ€Π°ΡΡ‚Π²ΠΎΡ€, Π½Π΅ Π²Π½ΠΎΡΡ Π²ΠΊΠ»Π°Π΄ Π² Ρ€ΠΎΡΡ‚ оксидной ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠΈ.

3. Π’ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π΅ равновСсия ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ растворСниСм оксида Π½Π° Π³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ†Π΅ Ρ€Π°Π·Π΄Π΅Π»Π° оксид/элСктролит ΠΈ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ΠΌ оксида Π½Π° Π³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ†Π΅ ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»/оксид происходит рост ΠΏΠΎΡ€ пСрпСндикулярно повСрхности алюминия.

4. ОбъСмноС Ρ€Π°ΡΡˆΠΈΡ€Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΏΡ€ΠΈ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠΈ оксида Π½Π° Π³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ†Π΅ Ρ€Π°Π·Π΄Π΅Π»Π° оксид/ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π» ΠΏΡ€ΠΈΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ ΠΊ Π²ΠΎΠ·Π½ΠΈΠΊΠ½ΠΎΠ²Π΅Π½ΠΈΡŽ ΡΠΆΠΈΠΌΠ°ΡŽΡ‰ΠΈΡ… напряТСний Π² ΠΏΠ»ΠΎΡΠΊΠΎΡΡ‚ΠΈ ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠΈ, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ ΠΈ ΡΠ²Π»ΡΡŽΡ‚ся Π΄Π²ΠΈΠΆΡƒΡ‰Π΅ΠΉ силой упорядочСния ΠΏΠΎΡ€. Π Π°ΡΡˆΠΈΡ€Π΅Π½ΠΈΠ΅ Π² Π²Π΅Ρ€Ρ‚ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΌ Π½Π°ΠΏΡ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠΈ способствуСт росту стСнок ΠΏΠΎΡ€ Π²Π²Π΅Ρ€Ρ….

Богласно исслСдованиям, ΡΡ‚Π΅ΠΏΠ΅Π½ΡŒ объСмного Ρ€Π°ΡΡˆΠΈΡ€Π΅Π½ΠΈΡ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π° зависит ΠΎΡ‚ Π½Π°ΠΏΡ€ΡΠΆΠ΅Π½ΠΈΡ анодирования ΠΈ Π²Π»ΠΈΡΠ΅Ρ‚ Π½Π° Π²Π·Π°ΠΈΠΌΠ½ΠΎΠ΅ располоТСниС ΠΏΠΎΡ€, Ρ‚ΠΎ Π΅ΡΡ‚ΡŒ опрСдСляСт ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ самоупорядочСнной ΠΈΠ»ΠΈ Ρ…Π°ΠΎΡ‚ΠΈΡ‡Π½ΠΎΠΉ структуры. ΠžΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌΠΈ условиями формирования самоупорядочСнной пористой структуры оксида алюминия являСтся ΠΎ? 1,2. Π”Π°ΠΆΠ΅ Π½Π΅Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ΅ ΠΎΡ‚ΠΊΠ»ΠΎΠ½Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΎ ΠΎΡ‚ ΡΡ‚ΠΎΠ³ΠΎ эмпиричСски Π½Π°ΠΉΠ΄Π΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ значСния ΠΏΡ€ΠΈΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ ΠΊ Ρ€Π΅Π·ΠΊΠΎΠΌΡƒ ΡƒΠΌΠ΅Π½ΡŒΡˆΠ΅Π½ΠΈΡŽ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€ΠΎΠ² областСй с ΡƒΠΏΠΎΡ€ΡΠ΄ΠΎΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΌ располоТСниСм ΠΏΠΎΡ€.

Π‘Ρ‚Ρ€ΡƒΠΊΡ‚ΡƒΡ€Π° пористых ΠΏΠ»Ρ‘Π½ΠΎΠΊ Π°Π½ΠΎΠ΄ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ двухстадийного окислСния, Π½Π΅ Π»ΠΈΡˆΠ΅Π½Π° Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΠ². МоТно Π²Ρ‹Π΄Π΅Π»ΠΈΡ‚ΡŒ Π΄Π²Π° основных Ρ‚ΠΈΠΏΠ° Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΠ²: Ρ‚ΠΎΡ‡Π΅Ρ‡Π½Ρ‹Π΅ ΠΈ ΠΏΡ€ΠΎΡ‚яТённыС.

ΠžΡ‚ΡΡƒΡ‚ΡΡ‚Π²ΠΈΠ΅ ΠΏΠΎΡ€ Π² ΡΠ»ΡƒΡ‡Π°Π΅ образования Ρ‚ΠΎΡ‡Π΅Ρ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚Π° ΠΏΡ€ΠΈΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ ΠΊ Π·Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Π½ΠΎΠΌΡƒ искаТСнию Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡ‹ сосСдних ΠΏΠΎΡ€. ΠŸΡ€ΠΎΡ‚ΡΠΆΡ‘Π½Π½Ρ‹ΠΌΠΈ Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚Π°ΠΌΠΈ ΡΠ²Π»ΡΡŽΡ‚ΡΡ Π³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ†Ρ‹ Π΄ΠΎΠΌΠ΅Π½ΠΎΠ². Π’Π½ΡƒΡ‚Ρ€ΠΈ ΠΊΠ°ΠΆΠ΄ΠΎΠ³ΠΎ Π΄ΠΎΠΌΠ΅Π½Π° ΠΏΠΎΡ€Ρ‹ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΡƒΡŽΡ‚ Ρ€Π΅Π³ΡƒΠ»ΡΡ€Π½ΡƒΡŽ Π΄Π²ΡƒΠΌΠ΅Ρ€Π½ΡƒΡŽ Π³Π΅ΠΊΡΠ°Π³ΠΎΠ½Π°Π»ΡŒΠ½ΡƒΡŽ сСтку, ΠΎΠ΄Π½Π°ΠΊΠΎ Π΄ΠΎΠΌΠ΅Π½Ρ‹ Π² Ρ†Π΅Π»ΠΎΠΌ Ρ€Π°Π·ΠΎΡ€ΠΈΠ΅Π½Ρ‚ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Ρ‹ ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ Π΄Ρ€ΡƒΠ³ Π΄Ρ€ΡƒΠ³Π°[2].

4. ΠŸΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚Ρ‹ΠΉ AL2O3 Π² ΠΊΠ°Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π²Π΅ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ»Π°Ρ‚ΠΎΠ² для синтСза Π½Π°Π½ΠΎΠ½ΠΈΡ‚Π΅ΠΉ ΠΈ Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ с ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΡ€ΡƒΠ΅ΠΌΡ‹ΠΌ Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠΌ ΠΈ Π²Ρ‹ΡΠΎΠΊΠΎΠΉ гСомСтричСской Π°Π½ΠΈΠ·ΠΎΡ‚Ρ€ΠΎΠΏΠΈΠ΅ΠΉ Π’Π°ΠΆΠ½Ρ‹ΠΌ прСимущСством использования ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΠΊ пористого Al2O3 для получСния Π½ΠΈΡ‚Π΅Π²ΠΈΠ΄Π½Ρ‹Ρ… наночастиц являСтся Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ примСнСния элСктроосаТдСния, основными достоинствами ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ³ΠΎ ΡΠ²Π»ΡΡŽΡ‚ΡΡ:

? простота Ρ€Π΅Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ†ΠΈΠΈ ΠΈ Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ получСния ΡˆΠΈΡ€ΠΎΠΊΠΎΠ³ΠΎ спСктра ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ²;

? Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ контроля количСства Π²Π½Π΅Π΄Ρ€Π΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ вСщСства Π½Π° ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π΅ Π·Π°ΠΊΠΎΠ½Π° ЀарадСя;

? Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΡ€ΡƒΠ΅ΠΌΠΎΠ³ΠΎ создания сильно Π°Π½ΠΈΠ·ΠΎΡ‚Ρ€ΠΎΠΏΠ½Ρ‹Ρ… наноструктур с ΡƒΡ‡Π΅Ρ‚ΠΎΠΌ Π²Π°Ρ€ΠΈΠ°Ρ†ΠΈΠΈ Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΠΎΠ² осаТдСния, Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡ‹ ΠΈ ΠΊΠΎΠ½Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ ΠΏΠΎΡ€;

? ΠΏΠΎΠ»Π½ΠΎΡ‚Π° заполнСния ΠΏΠΎΡ€ внСдряСмым ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠΌ, Ρ‡Π΅Π³ΠΎ Π½Π΅ ΡƒΠ΄Π°Π΅Ρ‚ся Π΄ΠΎΡΡ‚ΠΈΡ‡ΡŒ ΠΏΡ€ΠΈ использовании ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠ² ΠΏΡ€ΠΎΠΏΠΈΡ‚ΠΊΠΈ ΠΏΠΎΡ€ с ΠΏΠΎΡΠ»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰Π΅ΠΉ химичСской ΠΌΠΎΠ΄ΠΈΡ„ΠΈΠΊΠ°Ρ†ΠΈΠ΅ΠΉ.

Π’Π°ΠΊ ΠΊΠ°ΠΊ элСктрохимичСский процСсс выдСлСния ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»Π° локализуСтся Π² ΠΏΠΎΠ³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ‡Π½ΠΎΠΉ области элСктрод/раствор, Ρ‚ΠΎ Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ‡Π½ΠΎΠΉ изоляции (тСмплатирования) для ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΡ€ΡƒΠ΅ΠΌΠΎΠ³ΠΎ роста наночастиц. Π’ Ρ‡Π°ΡΡ‚ности, ΠΏΡ€ΠΈ ΠΎΠ³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ‡Π΅Π½ΠΈΠΈ Π·ΠΎΠ½Ρ‹ протСкания элСктрохимичСского процСсса стСнками пористой ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ‹ Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ осадков с ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΡ€ΡƒΠ΅ΠΌΡ‹ΠΌ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌ-Ρ„Π°ΠΊΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΌ частиц.

ΠŸΡ€ΠΈ элСктрохимичСском осаТдСнии наночастиц ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»ΠΎΠ² Π² ΠΏΠΎΡ€Ρ‹ ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Ρ‹ ΠΈΠ· ΠΎΠΊΡΠΈΠ΄Π° алюминия Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎ Π½Π° ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠΉ ΠΈΠ· Π΅Π΅ ΡΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ½ ΡΠΎΠ·Π΄Π°Ρ‚ΡŒ элСктричСский ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚. Для этого Π½Π° ΠΎΠ΄Π½Ρƒ сторону ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠΈ Al2O3 послС удалСния Π±Π°Ρ€ΡŒΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ слоя ΠΈ Ρ€Π°ΡΡ‚равливания ΠΏΠΎΡ€ Π΄ΠΎ Π½ΡƒΠΆΠ½ΠΎΠ³ΠΎ Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Π° Π½Π°ΠΏΡ‹Π»ΡΡŽΡ‚ слой Π·ΠΎΠ»ΠΎΡ‚Π° Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ 0,3?0,5 ΠΌΠΊΠΌ. Π—Π°Ρ‚Π΅ΠΌ ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Ρƒ с Π½Π°ΠΏΡ‹Π»Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΌ Π·ΠΎΠ»ΠΎΡ‚Ρ‹ΠΌ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚ΠΎΠΌ ΠΏΠΎΠΌΠ΅Ρ‰Π°ΡŽΡ‚ Π½Π° Ρ‚ΠΎΠΊΠΎΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΡΡ‰ΡƒΡŽ основу, которая ΠΏΡ€ΠΈΠ΄Π°Π΅Ρ‚ ΠΌΠ΅Ρ…Π°Π½ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΡƒΡŽ ΠΏΡ€ΠΎΡ‡Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΈΠ·Π³ΠΎΡ‚Π°Π²Π»ΠΈΠ²Π°Π΅ΠΌΠΎΠΌΡƒ элСктроду. Π’ ΠΊΠ°Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π²Π΅ основы ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½ΠΎ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡŽΡ‚ пластинку ΠΈΠ· ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ ΠΈΠ»ΠΈ стСклоуглСрода. ΠœΠ΅ΡΡ‚ΠΎ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚Π° ΠΈΠ·ΠΎΠ»ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‚ силиконовым Π³Π΅Ρ€ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΈΠΊΠΎΠΌ ΠΎΠ±Π»Π°Π΄Π°ΡŽΡ‰ΠΈΠΌ Ρ…ΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΈΠΌΠΈ Π°Π΄Π³Π΅Π·ΠΈΠΎΠ½Π½Ρ‹ΠΌΠΈ ΠΈ ΠΌΠ΅Ρ…аничСскими характСристиками, Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ химичСски ΠΈΠ½Π΅Ρ€Ρ‚Π½Ρ‹ΠΌ Π² ΠΊΠΈΡΠ»ΠΎΠΉ срСдС. БхСматичСскоС ΠΈΠ·ΠΎΠ±Ρ€Π°ΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Ρ‹ Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²ΠΎΠΉ ΠΊ ΡΠ»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠΎΡΠ°ΠΆΠ΄Π΅Π½ΠΈΡŽ наночастиц Π² ΠΏΠΎΡ€Ρ‹ прСдставлСно Π½Π° Ρ€ΠΈΡΡƒΠ½ΠΊΠ΅ 4.1.

Рис. 4.1 — ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Π° Al2O3 для элСктроосаТдСния наночастиц.

Для ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΡ€ΡƒΠ΅ΠΌΠΎΠ³ΠΎ роста Π½ΠΈΡ‚Π΅Π²ΠΈΠ΄Π½Ρ‹Ρ… наночастиц ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»ΠΎΠ² Π² ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Π΅ пористого Al2O3 элСктрохимичСскоС осаТдСниС проводят Π² Ρ‚рСхэлСктродной ячСйкС (рис. 4.2) Π² ΠΏΠΎΡ‚СнциостатичСском Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΠ΅ ΠΏΡ€ΠΈ ΠΊΠΎΠΌΠ½Π°Ρ‚Π½ΠΎΠΉ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π΅[2].

Рис. 4.2. — Π‘Ρ…Π΅ΠΌΠ° трСхэлСктродной ячСйки: 1 — Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‡ΠΈΠΉ элСктрод; 2 — Π²ΡΠΏΠΎΠΌΠΎΠ³Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ элСктрод (Pt); 3 — Ρ€Π°Π·Π΄Π΅Π»ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ ΠΊΡ€Π°Π½; 4 — капилляр Π›ΡƒΠ³Π³ΠΈΠ½Π°; 5 — элСктрод сравнСния (насыщСнный хлорсСрСбряный элСктрод).

Π’ΡΠΏΠΎΠΌΠΎΠ³Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌ элСктродом слуТит Pt ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ»ΠΎΠΊΠ°, Π° ΡΠ»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ сравнСния — насыщСнный хлорсСрСбряный элСктрод. Бостав элСктролита ΠΈ ΠΏΠΎΡ‚Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π» осаТдСния ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Ρ‹ Π² Ρ‚Π°Π±Π». 1.

Π’Π°Π±Π»ΠΈΡ†Π° 1

Π‘ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π· Π½Π°Π½ΠΎΠ½ΠΈΡ‚Π΅ΠΉ гСрмания Π‘ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π· гСрмания проводится ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ тСрмичСского испарСния ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΠ° гСрмания Π½Π° ΠΏΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚Ρ‹Π΅ ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠΈ оксида алюминия. ΠŸΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚Ρ‹ΠΉ оксид алюминия (Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ ΠΏΠΎΡ€ — 75 Π½ΠΌ, Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Π° пластины — 30 ΠΌΠΊΠΌ), ΠΏΡ€Π΅Π΄ΡΡ‚Π°Π²Π»ΡΡŽΡ‰ΠΈΠΉ собой ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠΈ ΠΊΡ€ΡƒΠ³Π»ΠΎΠΉ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡ‹ Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠΌ 20 ΠΌΠΌ, фиксируСтся ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΌ скотчСм Π½Π° ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ ΠΈΠ· ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½ΠΈΡ ΠΈΠ»ΠΈ ситалла стандартного (64?48 ΠΌΠΌ) Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π°. ΠŸΠ»Π°ΡΡ‚ΠΈΠ½Ρ‹ Π·Π°ΠΊΡ€Π΅ΠΏΠ»ΡΡŽΡ‚ΡΡ Π½Π° Π΄Π΅Ρ€ΠΆΠ°Ρ‚Π΅Π»Π΅ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†ΠΎΠ². НапылСниС гСрмания ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΠ»ΠΎΡΡŒ ΠΏΡ€ΠΈ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π΅ кондСнсации 100 Β°C. ΠžΠ΄Π½ΠΎΠ²Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Π½Π½ΠΎ Π±Ρ‹Π»ΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΎ Π΄Π²Π° ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†Π°, ΠΎΠ΄ΠΈΠ½ ΠΈΠ· ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ… Π±Ρ‹Π» ΠΎΡ‚ΠΎΠΆΠΆΠ΅Π½ ΠΏΡ€ΠΈ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π΅ 350 Β°C Π² Ρ‚Π΅Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ 3,5 часов Π² Π°Ρ‚мосфСрС Π°Ρ€Π³ΠΎΠ½Π°. На Ρ€ΠΈΡΡƒΠ½ΠΊΠ΅ 4.3. прСдставлСны Π΄ΠΈΡ„Ρ€Π°ΠΊΡ‚ΠΎΠ³Ρ€Π°ΠΌΠΌΡ‹ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†ΠΎΠ² Π² ΡΡ€Π°Π²Π½Π΅Π½ΠΈΠΈ с Π΄ΠΈΡ„Ρ€Π°ΠΊΡ‚ΠΎΠ³Ρ€Π°ΠΌΠΌΠΎΠΉ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΠ° ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°. Π’ΠΈΠ΄Π½ΠΎ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π² Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π΅ напылСния ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΠ° ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π° ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°ΡŽΡ‚ΡΡ наноструктуры Π² Π°ΠΌΠΎΡ€Ρ„Π½ΠΎΠΌ состоянии, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ ΠΊΡ€ΠΈΡΡ‚Π°Π»Π»ΠΈΠ·ΡƒΡŽΡ‚ΡΡ послС ΠΎΡ‚ΠΆΠΈΠ³Π°.

Рис. 4.3. — Π Π΅Π½Ρ‚гСновскиС Π΄ΠΈΡ„Ρ€Π°ΠΊΡ‚ΠΎΠ³Ρ€Π°ΠΌΠΌΡ‹ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†ΠΎΠ² наноструктур Ge Π² ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Π°Ρ… пористого оксида аолюминия Π΄ΠΎ ΠΈ ΠΏΠΎΡΠ»Π΅ ΠΎΡ‚ΠΆΠΈΠ³Π° ΠΏΡ€ΠΈ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π΅ 350 Β°C Π² Ρ‚Π΅Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ 3,5 часов Π² Π°Ρ‚мосфСрС Π°Ρ€Π³ΠΎΠ½Π° Π² ΡΡ€Π°Π²Π½Π΅Π½ΠΈΠΈ с Π΄ΠΈΡ„Ρ€Π°ΠΊΡ‚ΠΎΠ³Ρ€Π°ΠΌΠΌΠΎΠΉ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΠ° Ge.

На Ρ€ΠΈΡΡƒΠ½ΠΊΠ΅ 4.4. прСдставлСны БЭМ-изобраТСния массива упорядочСнно располоТСнных Π½ΠΈΡ‚Π΅ΠΉ (Π°) ΠΈ Π½Π°Π½ΠΎΡ‚ΠΎΡ‡Π΅ΠΊ с Π½ΠΈΡ‚ями (Π±) гСрмания. Π˜Π·ΠΎΠ±Ρ€Π°ΠΆΠ΅Π½ΠΈΡ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Ρ‹ послС удалСния пористой ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠΈ оксида алюминия. Π’ΠΈΠ΄Π½ΠΎ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π½ΠΈΡ‚ΠΈ Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠΌ ΠΎΠΊΠΎΠ»ΠΎ 75 Π½ΠΌ (рис. 4.4Π°) располоТСны ΠΏΠ°Ρ€Π°Π»Π»Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ Π΄Ρ€ΡƒΠ³ Π΄Ρ€ΡƒΠ³Ρƒ, Π° Π½Π°Π½ΠΎΡ‚ΠΎΡ‡ΠΊΠΈ ΠΈ Π½ΠΈΡ‚ΠΈ (рис. 4.4Π±) ΠΈΠΌΠ΅ΡŽΡ‚ ΠΏΡ€ΠΎΡΡ‚Ρ€Π°Π½ΡΡ‚Π²Π΅Π½Π½ΡƒΡŽ ΠΏΠ΅Ρ€ΠΈΠΎΠ΄ΠΈΡ‡Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΎΠΊΠΎΠ»ΠΎ 50 Π½ΠΌ. РасполоТСниС Π½ΠΈΡ‚Π΅ΠΉ ΠΈ Ρ‚ΠΎΡ‡Π΅ΠΊ, Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ ΠΈΡ… Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ Π°Π½Π°Π»ΠΎΠ³ΠΈΡ‡Π½Ρ‹ Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Ρƒ ΠΈ Ρ€Π°ΡΠΏΠΎΠ»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΡŽ ΠΊΠ°Π½Π°Π»ΠΎΠ² Π² ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠ°Ρ… пористого оксида алюминия, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΡƒΠΊΠ°Π·Ρ‹Π²Π°Π΅Ρ‚ Π½Π° Ρ€Π΅ΠΏΠ»ΠΈΠΊΠ°Ρ†ΠΈΡŽ Π³Π΅Ρ€ΠΌΠ°Π½ΠΈΠ΅ΠΌ структуры Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ»Π°Ρ‚Π°. НаноразмСрныС Ρ‚ΠΎΡ‡ΠΊΠΈ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΡƒΡŽΡ‚ΡΡ ΠΏΡ€ΠΈ «ΠΎΠ±Ρ€Ρ‹Π²Π΅» Π½Π°Π½ΠΎΠ½ΠΈΡ‚Π΅ΠΉ Π²ΠΎ Π²Ρ€Π΅ΠΌΡ удалСния ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ‹, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΠ΅Ρ‚ особой остороТности ΠΏΡ€ΠΈ Ρ‚Ρ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠΈ[5].

Рис 4.4 — БЭМ-изобраТСния массива упорядочСнно располоТСнных Π½ΠΈΡ‚Π΅ΠΉ (Π°) ΠΈ Π½Π°Π½ΠΎΡ‚ΠΎΡ‡Π΅ΠΊ с Π½ΠΈΡ‚ями (Π±) гСрмания.

5. ΠŸΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚Ρ‹ΠΉ оксид алюминия Π² ΠΊΠ°Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π²Π΅ Ρ‡ΡƒΠ²ΡΡ‚Π²ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… элСмСнтов Наноструктурированный Π°Π½ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΉ пористый оксид алюминия позволяСт ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ Π΅Π³ΠΎ Π² ΠΊΠ°Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π²Π΅ Π°ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ‡ΡƒΠ²ΡΡ‚Π²ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΊ Π²Π»Π°Π³Π΅ элСмСнта ΠΏΡ€ΠΈ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠΈ сСнсоров влаТности, благодаря возмоТности с ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ΠΌ элСктрохимичСского процСсса анодирования ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Ρ‚ΡŒ капиллярныС Π½Π°Π½ΠΎΠΊΠ°Π½Π°Π»Ρ‹ ΠΈ ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Π½ΡΡ‚ΡŒ ΠΈΡ… Π³Π΅ΠΎΠΌΠ΅Ρ‚ричСскиС ΠΏΠ°Ρ€Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Ρ‹ (Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ ΠΈ Π΄Π»ΠΈΠ½Ρƒ).

Для Ρ€Π°Π·Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠΈ конструктивно-тСхнологичСских Π²Π°Ρ€ΠΈΠ°Π½Ρ‚ΠΎΠ² получСния сСнсоров влаТности Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ использованиС слоСв ΠΊΠ°ΠΊ с Π½Π°Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ΅ΠΌ Π±Π°Ρ€ΡŒΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ слоя Al2O3 Π½Π° Π΄Π½Π΅ Π½Π°Π½ΠΎΠΏΠΎΡ€, Ρ‚Π°ΠΊ ΠΈ Π±Π΅Π· Π½Π΅Π³ΠΎ, ΠΊΠΎΠ³Π΄Π° ΠΏΠΎΡ€Ρ‹ ΡΠ²Π»ΡΡŽΡ‚ΡΡ сквозными ΠΏΠΎ Π²ΡΠ΅ΠΉ Π΄Π»ΠΈΠ½Π΅.

ΠžΡΠ½ΠΎΠ²Π½Ρ‹Π΅ конструктивныС Π²Π°Ρ€ΠΈΠ°Π½Ρ‚Ρ‹ Π΄Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠ° влаТности Π½Π° ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π΅ Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия прСдставлСны ΠΏΠ»Π°Π½Π°Ρ€Π½ΠΎΠΉ ΠΈ ΠΎΠ±ΡŠΠ΅ΠΌΠ½ΠΎΠΉ конструкциями, Π²Ρ‹ΠΏΠΎΠ»Π½Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΌΠΈ Π² Π²ΠΈΠ΄Π΅ ΠœΠ”Πœ (ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»-диэлСктрик-ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π») кондСнсатора с Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΌ ΠΏΡ€ΠΎΠ½ΠΈΡ†Π°Π΅ΠΌΡ‹ΠΌ Π²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΈΠΌ элСктродом ΠΈΠ»ΠΈ встрСчно-ΡˆΡ‚Ρ‹Ρ€Π΅Π²ΠΎΠΉ схСмой Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΎΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΡ‡Π½Ρ‹Ρ… элСктродов с Π½Π°Π½ΠΎΠΏΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚Ρ‹ΠΌ Ρ‡ΡƒΠ²ΡΡ‚Π²ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌ слоСм, соотвСтствСнно. ΠœΠ”Πœ-кондСнсатор состоит ΠΈΠ· Π°Π»ΡŽΠΌΠΈΠ½ΠΈΠ΅Π²ΠΎΠΉ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ, Π½Π° ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΉ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ элСктрохимичСского окислСния сформирован Π°Π½ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΉ окисСл. Π’Ρ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΌ элСктродом слуТит Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΉ Π²Π»Π°Π³ΠΎΠΏΡ€ΠΎΠ½ΠΈΡ†Π°Π΅ΠΌΡ‹ΠΉ слой ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»Π° (Ρ‡Π°Ρ‰Π΅ всСго Π·ΠΎΠ»ΠΎΡ‚Π°, Ρ€Π΅ΠΆΠ΅ алюминия, сСрСбра, палладия ΠΈΠ»ΠΈ ΠΏΠ»Π°Ρ‚ΠΈΠ½Ρ‹). Π’ ΠΊΠ°Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π²Π΅ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡŽΡ‚ΡΡ алюминиСвая Ρ„ΠΎΠ»ΡŒΠ³Π°, ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½ΠΈΠ΅Π²Ρ‹Π΅ ΠΈΠ»ΠΈ кСрамичСскиС ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ с Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΌΠΈ (~ 1ΠΌΠΊΠΌ) слоями Π½Π°ΠΏΡ‹Π»Π΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ алюминия (рис. 5.1). Π₯арактСристики алюминиСво-оксидных Π΄Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠΎΠ² Π² ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π½ΠΎΠΌ ΠΎΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»ΡΡŽΡ‚ΡΡ свойствами Π°Π½ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΠΊ оксида алюминия, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅, Π² ΡΠ²ΠΎΡŽ ΠΎΡ‡Π΅Ρ€Π΅Π΄ΡŒ, зависят ΠΎΡ‚ ΡΠΎΡΡ‚Π°Π²Π° элСктролита ΠΈ Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΠΎΠ² анодирования[6].

Π’ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Π° ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠΈ оксида алюминия влияСт Π½Π° Ρ‡ΡƒΠ²ΡΡ‚Π²ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π΄Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠ° ΠΈ ΠΎΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»ΡΠ΅Ρ‚ Π΅Π³ΠΎ динамичСскиС характСристики. Π”Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠΈ с Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ окисной ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠΈ ~ 1,5−2,5 ΠΌΠΊΠΌ ΠΏΠΎΠ·Π²ΠΎΠ»ΡΡŽΡ‚ ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€ΡΡ‚ΡŒ Π²Π»Π°ΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π² ΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»Π°Ρ… ΠΎΡ‚ 20 Π΄ΠΎ 100%

Рис. 5.1 —. БхСматичСскоС ΠΈΠ·ΠΎΠ±Ρ€Π°ΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ Ρ„Ρ€Π°Π³ΠΌΠ΅Π½Ρ‚Π° Смкостного Π΄Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠ° ΠœΠ”Πœ-конструкции Π½Π° ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π΅ нанопористого Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия: 1 — алюминиСвая ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ°, 2 — Π°Π½ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΉ оксид алюминия, 3 — ΠΏΡ€ΠΎΠ½ΠΈΡ†Π°Π΅ΠΌΡ‹ΠΉ Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΉ элСктрод, 4 — адсорбционная ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ, 5 — ΠΌΠΎΠ»Π΅ΠΊΡƒΠ»Ρ‹ Π²ΠΎΠ΄Ρ‹.

К Π½Π΅Π΄ΠΎΡΡ‚Π°Ρ‚ΠΊΠ°ΠΌ Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠΉ конструкции относится Ρ‚Ρ€ΡƒΠ΄Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ нанСсСния ΠΏΠΎΠ»ΡƒΠΏΡ€ΠΎΠ·Ρ€Π°Ρ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ элСктрода Π½Π° ΠΏΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚ΠΎΠΉ повСрхности оксида алюминия. Π’ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΉ слой ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»Π° ΠΈΠΌΠ΅Π΅Ρ‚ высокоС ΡƒΠ΄Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ΅ сопротивлСниС, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΡƒΠ²Π΅Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ²Π°Π΅Ρ‚ значСния Π°ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π½Ρ‹Ρ… ΠΏΠΎΡ‚Π΅Ρ€ΡŒ Π² ΠΊΠΎΠ½Π΄Π΅Π½ΡΠ°Ρ‚ΠΎΡ€Π½ΠΎΠΉ структурС. ΠžΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ толстыС ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΡ‡Π½Ρ‹Π΅ покрытия частично ΠΈΠ»ΠΈ ΠΏΠΎΠ»Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ Π·Π°ΠΊΡ€Ρ‹Π²Π°ΡŽΡ‚ ΠΏΠΎΡ€Ρ‹ Π² Π΄ΠΈΡΠ»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΈΠΊΠ΅, ΠΈ ΡΠ½ΠΈΠΆΠ°ΡŽΡ‚ся сорбционныС свойства повСрхности оксида. На Ρ€ΠΈΡΡƒΠ½ΠΊΠ΅ 5.2 ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Ρ‹ усрСднСнныС зависимости измСнСния Смкости Π΄Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠ° ΠΎΡ‚ ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ влаТности ΠΏΡ€ΠΈ Π΅Π΅ ΡƒΠ²Π΅Π»ΠΈΡ‡Π΅Π½ΠΈΠΈ ΠΎΡ‚ 10% Π΄ΠΎ 90% ΠΈ ΡƒΠΌΠ΅Π½ΡŒΡˆΠ΅Π½ΠΈΠΈ Π΄ΠΎ ΠΈΡΡ…ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠΉ. Как слСдуСт ΠΈΠ· ΡΡ‚ΠΈΡ… Π΄Π°Π½Π½Ρ‹Ρ…, исходныС Π²Π΅Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ½Ρ‹ Смкости Π΄Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠ° влаТности ΡΠΎΡΡ‚Π°Π²Π»ΡΡŽΡ‚ ~30 ΠΏΠ€ ΠΏΡ€ΠΈ минимальном Π·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠΈ ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ влаТности ΠΈ ~200 ΠΏΠ€ ΠΏΡ€ΠΈ Π΅Π΅ ΠΌΠ°ΠΊΡΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΌ Π·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠΈ, Ρ‚. Π΅. Ρ‡ΡƒΠ²ΡΡ‚Π²ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ — Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ 2 ΠΏΠ€/%. Π­Ρ‚ΠΎ достаточно Ρ…ΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΈΠΉ ΠΏΠΎΠΊΠ°Π·Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒ для проСктирования элСктронной схСмы прСобразования Π°Π½Π°Π»ΠΎΠ³ΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ сигнала Π² Ρ†ΠΈΡ„Ρ€ΠΎΠ²ΠΎΠΉ.

Рис. 5.2 — УсрСднСнныС значСния измСнСния Смкости Π΄Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠ° ΠΏΡ€ΠΈ ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠΈ ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ влаТности.

ΠŸΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Π½Ρ‹Π΅ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π½Ρ‹Π΅ испытания ΠΏΠΎΠ΄Ρ‚Π²Π΅Ρ€Π΄ΠΈΠ»ΠΈ ΠΏΡ€Π΅Π΄ΠΏΠΎΠ»Π°Π³Π°Π΅ΠΌΡ‹Π΅ ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ нСбольшиС измСнСния ΠΏΠ°Ρ€Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠ² Π΄Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠ° Π² Π΄ΠΈΠ°ΠΏΠ°Π·ΠΎΠ½Π΅ ΠΎΡ‚ ΠΌΠΈΠ½ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… Π΄ΠΎ ΠΌΠ°ΠΊΡΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… Π·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠΉ ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ влаТности (рис. 5.3). ΠŸΡ€ΠΈ Π½Π°Π³Ρ€Π΅Π²Π΅ ΠΎΡ‚ 20 Β°C Π΄ΠΎ 60 Β°C измСнСния усрСднСнных Π·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠΉ Смкости Π΄Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠ° колСбались Π² ΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»Π°Ρ… ΠΎΡ‚ 2−3 ΠΏΠ€ ΠΏΡ€ΠΈ ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ влаТности 10%, Π΄ΠΎ 40 ΠΏΠ€ — ΠΏΡ€ΠΈ 90%.

Рис. 5.3 — УсрСднСнныС значСния измСнСния Смкости Π΄Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠ° ΠΏΡ€ΠΈ ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠΈ ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ влаТности ΠΈ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρ‹ ΠΎΠΊΡ€ΡƒΠΆΠ°ΡŽΡ‰Π΅ΠΉ срСды.

ΠŸΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠ΅ Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ Π½Π° ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π΅ ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΠΊ Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия позволяСт Ρ†Π΅Π»Π΅Π½Π°ΠΏΡ€Π°Π²Π»Π΅Π½Π½ΠΎ ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Π½ΡΡ‚ΡŒ Π·Π°Π·ΠΎΡ€Ρ‹ ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ ΠΎΠ±ΠΊΠ»Π°Π΄ΠΊΠ°ΠΌΠΈ Смкостной структуры, ΠΏΡ€ΠΎΠ΅ΠΊΡ‚ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ ΠΏΠ»Π°Π½Π°Ρ€Π½ΠΎ-ΠΎΠ±ΡŠΠ΅ΠΌΠ½Ρ‹Π΅ конструкции Π΄ΠΈΡ„Ρ„Π΅Ρ€Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… кондСнсаторов ΠΈ ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½ΡΡ‚ΡŒ ΠΈΡ… Π΄Π»Ρ Смкостных Π΄Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠΎΠ² ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ влаТности[7].

6. УправляСмыС ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Π΅ автоэмиссионныС ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ Π½Π° ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π΅ пористого оксида алюминия АвтоэмиссионныС ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ (Ρ…ΠΎΠ»ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Π΅ ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹) — это источники элСктронов, ΠΏΡ€ΠΈΠ½Ρ†ΠΈΠΏ Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Ρ‹ ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ… основан Π½Π° ΡΠ²Π»Π΅Π½ΠΈΠΈ автоэлСктронной эмиссии, Ρ‚. Π΅. Π½Π° Ρ‚ΡƒΠ½Π½Π΅Π»ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠΈ элСктронов ΠΏΠΎΠ΄ дСйствиСм ΠΏΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠΆΠ΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ элСктричСского поля Ρ‡Π΅Ρ€Π΅Π· ΠΏΠΎΡ‚Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ Π±Π°Ρ€ΡŒΠ΅Ρ€ Π½Π° Π³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ†Π΅ Ρ€Π°Π·Π΄Π΅Π»Π° «Ρ‚Π²Π΅Ρ€Π΄ΠΎΠ΅ Ρ‚Π΅Π»ΠΎ — Π²Π°ΠΊΡƒΡƒΠΌ». Π’Π΅Ρ€ΠΎΡΡ‚Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠ³ΠΎ туннСлирования опрСдСляСтся высотой ΠΏΠΎΡ‚Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ Π±Π°Ρ€ΡŒΠ΅Ρ€Π° (Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΎΠΉ Π²Ρ‹Ρ…ΠΎΠ΄Π°) ΠΈ Π²Π΅Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ½ΠΎΠΉ ΠΏΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠΆΠ΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ элСктричСского поля. ΠŸΠΎΠ΄ΠΎΠ±Π½Ρ‹Π΅ ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ ΠΎΠ±Π»Π°Π΄Π°ΡŽΡ‚ ΠΎΡ‡Π΅Π½ΡŒ большой ΠΏΠ»ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ Ρ‚ΠΎΠΊΠ°, Π½Π΅ Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΡŽΡ‚ ΠΏΠΎΠ΄ΠΎΠ³Ρ€Π΅Π²Π° ΠΈ ΠΏΡ€Π°ΠΊΡ‚ичСски Π±Π΅Π·Ρ‹Π½Π΅Ρ€Ρ†ΠΈΠΎΠ½Π½Ρ‹. Π‘ΠΏΠ΅ΠΊΡ‚Ρ€ примСнСния автоэмиссионных ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠ² Ρ‡Ρ€Π΅Π·Π²Ρ‹Ρ‡Π°ΠΉΠ½ΠΎ ΡˆΠΈΡ€ΠΎΠΊ: ΠΎΡ‚ ΠΏΡ€ΠΈΠ±ΠΎΡ€ΠΎΠ² Π²Π°ΠΊΡƒΡƒΠΌΠ½ΠΎΠΉ элСктроники Π΄ΠΎ ΡΡ„Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π½Ρ‹Ρ… источников свСта Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ назначСния. Но, ΠΏΠΎΠΆΠ°Π»ΡƒΠΉ, самая пСрспСктивная ΠΎΠ±Π»Π°ΡΡ‚ΡŒ — плоскиС автоэмиссионныС дисплСи для ΠΌΠΎΠ½ΠΈΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ² ΠΈ Ρ‚Π΅Π»Π΅Π²ΠΈΠ·ΠΎΡ€ΠΎΠ², Π½Π΅ ΡƒΡΡ‚ΡƒΠΏΠ°ΡŽΡ‰ΠΈΠ΅ элСктронно-Π»ΡƒΡ‡Π΅Π²Ρ‹ΠΌ дисплСям ΠΏΠΎ Ρ€Π°Π·Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Π½ΠΈΡŽ ΠΈ ΡΡ€ΠΊΠΎΡΡ‚ΠΈ. Для Ρ‚Π°ΠΊΠΈΡ… ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠΉ Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ большиС ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ‹ автоэмиссионных ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠ² (рис. 7.1). Для этих Ρ†Π΅Π»Π΅ΠΉ ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒΡΡ высокоупорядочСнныС нанопористыС структуры Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия[3].

Рис. 7.1 — ΠŸΠΎΠΏΠ΅Ρ€Π΅Ρ‡Π½ΠΎΠ΅ сСчСниС ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… автоэмиссионных ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠ² с ΡƒΠΏΡ€Π°Π²Π»ΡΡŽΡ‰ΠΈΠΌ элСктродом: 1 — диэлСктричСская ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Π° Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия; 2 — эмиттСры; 3 — ΡƒΠΏΡ€Π°Π²Π»ΡΡŽΡ‰ΠΈΠΉ элСктрод; 4 — ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ°.

ИспользованиС ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ позволяСт ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Ρ‚ΡŒ автоэмиссионныС ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄Ρ‹ с Π±ΠΎΠ»ΡŒΡˆΠΈΠΌ гСомСтричСским ΡΠΎΠΎΡ‚Π½ΠΎΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ аспСкта. Π”Π°Π½Π½ΠΎΠ΅ свойство обСспСчиваСт коэффициСнт усилСния элСктричСского поля порядка 1000, Ρ‡Ρ‚ΠΎ позволяСт ΡΠ½ΠΈΠ·ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΠ³ΠΎΠ²Ρ‹Π΅ напряТСнности элСктричСского поля Π² Ρ€Π°ΠΉΠΎΠ½ 1−2 Π’/ΠΌΠΊΠΌ.

Однако, ΠΏΡ€ΠΈ синтСзС ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ Π² ΠΏΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚Ρ‹Ρ… ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Π°Ρ… Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия, ΠΈΠΌΠ΅Π΅Ρ‚ мСсто ряд ΠΏΡ€ΠΎΠ±Π»Π΅ΠΌ, ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠΉ ΠΈΠ· ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ… являСтся Π½Π°Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ΅ Π½Π°Π΄Π΅ΠΆΠ½ΠΎΠ³ΠΎ элСктричСского ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚Π° Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ ΠΊ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ΅ ΠΈΠ·-Π·Π° наличия Π±Π°Ρ€ΡŒΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксидного слоя Π² ΡΡ‚Ρ€ΡƒΠΊΡ‚ΡƒΡ€Π΅ оксидных ячССк, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ ΠΈΡΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°Π΅Ρ‚ элСктричСский ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠΉ Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΊΠΈ ΠΊ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ΅.

Для Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Π½ΠΈΡ Π΄Π°Π½Π½ΠΎΠΉ ΠΏΡ€ΠΎΠ±Π»Π΅ΠΌΡ‹ ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½ΡΡ‚ΡŒ Ρ‚Ρ€ΠΈ Ρ‚ΠΈΠΏΠ° ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚Π½Ρ‹Ρ… интСрфСйсов (Π½Π°Π½ΠΎΠΊΠ°Ρ‚Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ²: мСталлоксидного, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄Π½ΠΈΠΊΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ ΠΈ ΠΌΠ΅Ρ‚алличСского), ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… элСктрохимичСским способом посрСдством удалСния Π±Π°Ρ€ΡŒΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ слоя Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия. Π§Ρ‚ΠΎ Π² ΡΠ²ΠΎΡŽ ΠΎΡ‡Π΅Ρ€Π΅Π΄ΡŒ, позволяСт ΡΡ„ΠΎΡ€ΠΌΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ прямой физичСский ΠΈ ΡΠ»Π΅ΠΊΡ‚ричСский ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠΉ Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΊΠΈ ΠΊ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ΅, ΠΏΡ€ΠΈ Π½Π΅Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΌ ΡƒΠ²Π΅Π»ΠΈΡ‡Π΅Π½ΠΈΠΈ Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠ² ΠΏΠΎΡ€ оксидной ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ‹, Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΡƒΠ»ΡƒΡ‡ΡˆΠΈΡ‚ΡŒ автоэмиссионныС характСристики ΠΈ Π΄ΠΎΡΡ‚ΠΈΡ‡ΡŒ высоких Π·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠΉ эмиссионных Ρ‚ΠΎΠΊΠΎΠ², Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΈΠΌΠ΅Π΅Ρ‚ ΠΎΡΠΎΠ±ΡƒΡŽ Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ для практичСских ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠΉ.

Π‘ΠΎΠ»Π΅Π΅ Π΄Π΅Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎ рассмотрим ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚Π½Ρ‹Ρ… интСрфСйсов Π½Π° ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Ρ€Π΅. Π˜ΡΡ…ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Π΅ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†Ρ‹ ΠΏΡ€Π΅Π΄ΡΡ‚Π°Π²Π»ΡΡŽΡ‚ собой Π½Π°ΠΏΡ‹Π»Π΅Π½Π½Ρ‹Π΅ Π½Π° ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½ΠΈΠ΅Π²Ρ‹Π΅ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ n-Ρ‚ΠΈΠΏΠ° проводимости с ΡΠΎΠΏΡ€ΠΎΡ‚ΠΈΠ²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ 4 Ом/? ΠΈ ΠΎΡ€ΠΈΠ΅Π½Ρ‚Π°Ρ†ΠΈΠ΅ΠΉ (100) Π² Π²Π°ΠΊΡƒΡƒΠΌΠ΅ ΠΌΠ°Π³Π½Π΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠ½Π½Ρ‹ΠΌ способом Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΎΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΡ‡Π½Ρ‹Π΅ структуры. Для ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΎΠ³ΠΎ Ρ‚ΠΈΠΏΠ° интСрфСйса Π½Π°ΠΏΡ‹Π»ΡΠ»ΠΈΡΡŒ Ρ‚ΠΈΡ‚Π°Π½ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ 250 Π½ΠΌ (ΠΏΠ΅Ρ€Π²Ρ‹ΠΉ слой), алюминий Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ 1,5 ΠΌΠΊΠΌ (Π²Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΉ слой). Для Π²Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ³ΠΎ ΠΈ Ρ‚Ρ€Π΅Ρ‚ΡŒΠ΅Π³ΠΎ Ρ‚ΠΈΠΏΠΎΠ² интСрфСйса напылялся Ρ‚ΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΎ алюминий Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ 1,5 ΠΌΠΊΠΌ. Π€ΠΎΡ€ΠΌΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ пористой ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ‹ Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия осущСствляли элСктрохимичСским ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ Π² Π²ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠΌ растворС Ρ‰Π°Π²Π΅Π»Π΅Π²ΠΎΠΉ кислоты (Н2Π‘2О4) с ΠΊΠΎΠ½Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠ΅ΠΉ 0,2 Πœ Π² Π³Π°Π»ΡŒΠ²Π°Π½ΠΎΡΡ‚атичСском Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΠ΅ ΠΏΡ€ΠΈ плотности Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ‚ΠΎΠΊΠ° 8 мА/см2 ΠΈ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π΅ элСктролита 20? Π‘.

Для ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†ΠΎΠ² ΠΏΠ΅Ρ€Π²ΠΎΠ³ΠΎ Ρ‚ΠΈΠΏΠ° ΠΏΠΎ Π΄ΠΎΡΡ‚ΠΈΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΈ Ρ„Ρ€ΠΎΠ½Ρ‚ΠΎΠΌ анодирования Ρ‚ΠΈΡ‚Π°Π½ΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ подслоя происходило локальноС Π°Π½ΠΎΠ΄ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ Ρ‚ΠΈΡ‚Π°Π½Π° ΠΏΠΎΠ΄ ΠΊΠ°ΠΆΠ΄ΠΎΠΉ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΠΉ с ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ΠΌ столбиков оксида Ρ‚ΠΈΡ‚Π°Π½Π°, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ ΠΏΡ€ΠΎΠΊΠ°Π»Ρ‹Π²Π°Π» Π±Π°Ρ€ΡŒΠ΅Ρ€Π½Ρ‹ΠΉ оксидный слой оксидной ячСйки ΠΈ Π²Ρ‹Ρ€Π°ΡΡ‚Π°Π», вслСдствиС объСмного роста, Π² Π½ΠΈΠΆΠ½ΡŽΡŽ Ρ‡Π°ΡΡ‚ΡŒ ΠΏΠΎΡ€Ρ‹. Для Π³Π°Ρ€Π°Π½Ρ‚ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ удалСния Π±Π°Ρ€ΡŒΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксидного слоя Π½Π° Π΄Π½Π΅ ΠΊΠ°ΠΆΠ΄ΠΎΠΉ ΠΏΠΎΡ€Ρ‹ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Π΅Ρ† подвСргался Ρ€Π΅Π°Π½ΠΎΠ΄ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΡŽ Π² Ρ‚ΠΎΠΌ ΠΆΠ΅ элСктролитС. Π Π΅Π°Π½ΠΎΠ΄ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅, ΠΎΡΡƒΡ‰Π΅ΡΡ‚Π²Π»ΡΠ»ΠΎΡΡŒ Π² ΠΏΠΎΡ‚СнциостатичСском Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΠ΅ с Π»ΠΈΠ½Π΅ΠΉΠ½ΠΎΠΉ Ρ€Π°Π·Π²Π΅Ρ€Ρ‚ΠΊΠΎΠΉ ΠΏΠΎΡ‚Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π»Π° со ΡΠΊΠΎΡ€ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ 1 Π’/с Π΄ΠΎ 60 Π’ ΠΈ Π²Ρ‹Π΄Π΅Ρ€ΠΆΠΊΠΎΠΉ ΠΏΡ€ΠΈ этих условиях 30 ΠΌΠΈΠ½ΡƒΡ‚. Π—Π°Ρ‚Π΅ΠΌ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†Ρ‹ ΠΏΠΎΠ΄Π²Π΅Ρ€Π³Π°Π»Π°ΡΡŒ ΠΎΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ Ρ€Π°ΡΡˆΠΈΡ€Π΅Π½ΠΈΡ ΠΏΠΎΡ€ Π² Π½Π°Π³Ρ€Π΅Ρ‚ΠΎΠΌ Π΄ΠΎ 50? Π‘ 2 Πœ растворС сСрной кислоты (Н2SO4) Π² Ρ‚Π΅Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ 25 ΠΌΠΈΠ½ΡƒΡ‚. ΠŸΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Π°Ρ структура характСризуСтся ΡΠ»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΠΌΠΈ ΠΏΠ°Ρ€Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Π°ΠΌΠΈ: высота Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия — 2 ΠΌΠΊΠΌ, Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ ΠΏΠΎΡ€ — 45 Π½ΠΌ, шаг ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ‹ — 120 Π½ΠΌ, высота столбиков оксида Ρ‚ΠΈΡ‚Π°Π½Π° — 100 Π½ΠΌ. Π’ ΠΈΡ‚ΠΎΠ³Π΅ Π±Ρ‹Π» сформирован ΠΏΠ΅Ρ€Π²Ρ‹ΠΉ Ρ‚ΠΈΠΏ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ интСрфСйса ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ ΠΊ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ΅ Ρ‡Π΅Ρ€Π΅Π· Ti/TiO2 (Рис. 7.2).

Рис. 7.2 — БхСматичСскоС ΠΈΠ·ΠΎΠ±Ρ€Π°ΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΈ ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΡ„отография ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ интСрфСйса Π² ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Π΅ Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΌΠΈ Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΊΠ°ΠΌΠΈ ΠΈ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΎΠΉ Π½Π° ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π΅ TiO2/Ti систСмы.

Π’Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΉ Ρ‚ΠΈΠΏ интСрфСйса Π±Ρ‹Π» ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ ΠΏΡƒΡ‚Π΅ΠΌ анодирования алюминия Π½Π° ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½ΠΈΠΈ. Π’ Π΄Π°Π½Π½ΠΎΠΌ случаС ΠΏΠΎ Π΄ΠΎΡΡ‚ΠΈΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΈ Ρ„Ρ€ΠΎΠ½Ρ‚ΠΎΠΌ анодирования повСрхности крСмния ΠΏΠΎΠ΄ воздСйствиСм ΠΏΡ€ΠΈΠ»ΠΎΠΆΠ΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ элСктричСского поля ΠΈΠΎΠ½ΠΈΠ·ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ кислород, доставляСмый ΠΊ Π±Π°Ρ€ΡŒΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠΌΡƒ слою Π°Π½ΠΈΠΎΠ½Π°ΠΌΠΈ элСктролита восстанавливаСтся Π΄ΠΎ ΠΌΠΎΠ»Π΅ΠΊΡƒΠ»ΡΡ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ кислорода, Π² Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π΅ Ρ‡Π΅Π³ΠΎ начинаСтся Π³Π°Π·ΠΎΠ²Ρ‹Π΄Π΅Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ с ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности Π±Π°Ρ€ΡŒΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ слоя. Π­Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ½Ρ‹ ΠΈΠ· ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ, ΠΏΡ€ΠΈ этом, Ρ‚ΡƒΠ½Π½Π΅Π»ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‚ Ρ‡Π΅Ρ€Π΅Π· Π±Π°Ρ€ΡŒΠ΅Ρ€Π½Ρ‹ΠΉ слой, Ρ‡Π΅Ρ€Π΅Π· Ρ‚Π°ΠΊ Π½Π°Π·Ρ‹Π²Π°Π΅ΠΌΡ‹Π΅ Π½Π°Π½ΠΎΠΊΠ°Π½Π°Π»Ρ‹, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ с Ρ‚Π΅Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ Π²Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Π½ΠΈ постСпСнно ΡƒΠ²Π΅Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‚ΡΡ Π² Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π°Ρ… Π΄ΠΎ Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠΉ стСпСни, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Ρ‡Π΅Ρ€Π΅Π· Π½ΠΈΡ… Π½Π°Ρ‡ΠΈΠ½Π°Π΅Ρ‚ ΠΏΡ€ΠΎΡ…ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΈΠΎΠ½ΠΈΠ·ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ кислород ΠΈ Π°Π½ΠΈΠΎΠ½Ρ‹ элСктролита. Π’ ΡΡ‚ΠΎ врСмя Π°Π½ΠΈΠΎΠ½Ρ‹ Π½Π°Ρ‡ΠΈΠ½Π°ΡŽΡ‚ Π²Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ΡŒ Π² ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚ с ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½ΠΈΠ΅ΠΌ ΠΏΠΎΠ΄ ΠΏΠΎΡ€Π°ΠΌΠΈ. Π’ ΡΡ‚ΠΎΠΌ мСстС Π½Π°Ρ‡ΠΈΠ½Π°ΡŽΡ‚ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒΡΡ цилиндричСскиС ΠΊΠ°Ρ€ΠΌΠ°Π½Ρ‹, Π² ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ… образовываСтся молСкулярный кислород, ΠΈ ΠΎΠ½ ΠΏΠΎΡΡ‚Π΅ΠΏΠ΅Π½Π½ΠΎ накапливаясь, Π²Ρ‹Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ Π½Π° ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ, Ρ€Π°ΡΡˆΠΈΡ€ΡΡ Π½Π°Π½ΠΎΠΊΠ°Π½Π°Π»Ρ‹. На ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности крСмния, ΠΏΡ€ΠΈ этом, Π² ΠΌΠ΅ΡΡ‚Π΅ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚Π° с ΡΠ»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΡ‚ΠΎΠΌ ΠΏΠΎΠ΄ ΠΊΠ°ΠΆΠ΄ΠΎΠΉ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΠΉ образуСтся Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΉ (5 Π½ΠΌ) слой оксида крСмния. Π—Π°Ρ‚Π΅ΠΌ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†Ρ‹ ΠΏΠΎΠ΄Π²Π΅Ρ€Π³Π°ΡŽΡ‚ΡΡ ΠΎΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ Ρ€Π°ΡΡˆΠΈΡ€Π΅Π½ΠΈΡ ΠΏΠΎΡ€ Π² Π½Π°Π³Ρ€Π΅Ρ‚ΠΎΠΌ Π΄ΠΎ 50? Π‘ 2 Πœ растворС сСрной кислоты (Н2SO4) Π² Ρ‚Π΅Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ 25 ΠΌΠΈΠ½ΡƒΡ‚ (Рис. 7.3).

Рис. 7.3 — БхСматичСскоС ΠΈΠ·ΠΎΠ±Ρ€Π°ΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΈ ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΡ„отография ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ интСрфСйса Π² ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Π΅ Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΌΠΈ Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΊΠ°ΠΌΠΈ ΠΈ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΎΠΉ Π½Π° ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π΅ SiO2/Si систСмы.

Π’Ρ€Π΅Ρ‚ΠΈΠΉ Ρ‚ΠΈΠΏ интСрфСйса ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ с ΠΏΠΎΠΌΠΎΡ‰ΡŒΡŽ ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ† Π²Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ³ΠΎ Ρ‚ΠΈΠΏΠ° Π² ΠΏΠΎΡ€Ρ‹, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΉ, элСктрохимичСски осаТдаСтся никСль. ЭлСктрохимичСскоС осаТдСниС никСля проводится Π² Π²ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠΌ растворС 0,38 Πœ ΡΡƒΠ»ΡŒΡ„Π°Ρ‚Π° никСля NiSO4, 0,13 Πœ Ρ…Π»ΠΎΡ€ΠΈΠ΄Π° никСля NiCl2, 0,65 Πœ Π±ΠΎΡ€Π½ΠΎΠΉ кислоты H3BO3 с Π΄ΠΎΠ±Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ CH3(CH2)11OSO3Na, Π΄ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΌ Π΄ΠΎ Π·Π½Π°Ρ‡Π΅Π½ΠΈΡ рН 5,2 20% раствором NaOH, ΠΏΡ€ΠΈ плотности Ρ‚ΠΎΠΊΠ° j = 4 мА/см2 Π² Ρ‚Π΅Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ 5 ΠΌΠΈΠ½ΡƒΡ‚. ΠšΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΉ ΠΏΠΎΡ‚Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π» ΠΏΡ€ΠΈ осаТдСнии составляСт 0,9−0,7 Π’. Π’Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π° элСктролита поддСрТиваСтся Π² Π΄ΠΈΠ°ΠΏΠ°Π·ΠΎΠ½Π΅ 45?±1?Π‘. Для элСктрохимичСского осаТдСния примСняСтся Ρ‚Ρ€Π΅Ρ… элСктродная элСктрохимичСская ячСйка с Ρ…лорсСрСбряным элСктродом сравнСния. ОсаТдСниС вСдётся ΠΏΡ€ΠΈ постоянном ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΌΠ΅ΡˆΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΠΈ элСктролита. Π’ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π΅ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‚ΡΡ Π½ΠΈΠΊΠ΅Π»Π΅Π²Ρ‹Π΅ Π·Π°Ρ‚Ρ€Π°Π²ΠΊΠΈ-ΠΊΠ°Ρ‚Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ‚ΠΎΡ€Ρ‹, ΠΏΠ»ΠΎΡ‚Π½ΠΎ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΠ΅ с Π½ΠΈΠΆΠ΅Π»Π΅ΠΆΠ°Ρ‰Π΅ΠΉ систСмой Si/SiO2 (Рис. 7.4).

Рис. 7.4 — БхСматичСскоС ΠΈΠ·ΠΎΠ±Ρ€Π°ΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΈ ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΡ„отография ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ интСрфСйса Π² ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Π΅ Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹ΠΌΠΈ Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΊΠ°ΠΌΠΈ ΠΈ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΎΠΉ Π½Π° ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π΅ Ni/Si систСмы.

Π—Π°Ρ‚Π΅ΠΌ Π² ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Π°Ρ… с Ρ‚рСмя Ρ‚ΠΈΠΏΠ°ΠΌΠΈ интСрфСйсов производился синтСз Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ. Π‘ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π· ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ осущСствлялся ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ атмосфСрного химичСского Π³Π°Π·ΠΎΡ„Π°Π·Π½ΠΎΠ³ΠΎ осаТдСния Π₯ПО-процСсса каталитичСского ΠΏΠΈΡ€ΠΎΠ»ΠΈΠ·Π° ΠΆΠΈΠ΄ΠΊΠΎΡ„Π°Π·Π½Ρ‹Ρ… ΡƒΠ³Π»Π΅Π²ΠΎΠ΄ΠΎΡ€ΠΎΠ΄ΠΎΠ² Π² ΠΏΡ€ΠΈΡΡƒΡ‚ствии «Π»Π΅Ρ‚ΡƒΡ‡Π΅Π³ΠΎ» ΠΊΠ°Ρ‚Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ‚ΠΎΡ€Π° Π² Π³ΠΎΡ€ΠΈΠ·ΠΎΠ½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎ располоТСнном Ρ‚Ρ€ΡƒΠ±Ρ‡Π°Ρ‚ΠΎΠΌ, ΠΊΠ²Π°Ρ€Ρ†Π΅Π²ΠΎΠΌ Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ‚ΠΎΡ€Π΅. ΠžΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†Ρ‹ Π½Π°Π³Ρ€Π΅Π²Π°Π»ΠΈΡΡŒ Π² Π°Ρ‚мосфСрС Ar ΠΎΡ‚ ΠΊΠΎΠΌΠ½Π°Ρ‚Π½ΠΎΠΉ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρ‹ Π΄ΠΎ 850 Β°C, ΠΏΡ€ΠΈ этом расход Π°Ρ€Π³ΠΎΠ½Π° Ρ€Π°Π²Π΅Π½ 200 ΡΠΌ3/ΠΌΠΈΠ½, ΠΏΡ€ΠΈ достиТСнии 850 Β°C Π² Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ‚ΠΎΡ€ вводился 1% раствор Ρ„Π΅Ρ€Ρ€ΠΎΡ†Π΅Π½Π° Π² ΠΊΡΠΈΠ»ΠΎΠ»Π΅ Π² Ρ‚Π΅Ρ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ 30 сСкунд, послС Ρ‡Π΅Π³ΠΎ Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ‚ΠΎΡ€ охлаТдался Π΄ΠΎ ΠΊΠΎΠΌΠ½Π°Ρ‚Π½ΠΎΠΉ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρ‹. Π‘Ρ‚Ρ€ΡƒΠΊΡ‚ΡƒΡ€Π° Ρ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ многослойная, срСдний внСшний Π΄ΠΈΠ°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ ΠΎΡ‚ 15 Π½ΠΌ Π΄ΠΎ 100 Π½ΠΌ, Π΄Π»ΠΈΠ½Π° ΠΎΡ‚Π΄Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ — Π΄ΠΎ 5 ΠΌΠΊΠΌ. Π’ ΠΏΡ€ΠΎΡ†Π΅ΡΡΠ΅ синтСза внутрСнняя ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ стСнок ΠΏΠΎΡ€ покрываСтся ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ, образуя наноструктуру, ΠΏΠΎΠ²Ρ‚ΠΎΡ€ΡΡŽΡ‰ΡƒΡŽ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡƒ стСнок ΠΏΠΎΡ€, ΠΏΠΎΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠ΅ располагаСтся ΠΏΠΎ Π²ΡΠ΅ΠΉ Π΄Π»ΠΈΠ½Π΅ ΠΏΠΎΡ€ ΠΎΡ‚ ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π°Π½ΠΈΡ (интСрфСйса) Π΄ΠΎ ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия. Π‘Π°ΠΌΠΈ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Π΅ Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΊΠΈ растут ΠΈΠ· ΠΏΠΎΡ€ Π½Π° ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…ности оксидной ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ‹.

АвтоэмиссионныС исслСдования ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… массивов ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ Π² ΠΏΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚ΠΎΠΌ оксидС алюминия ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΠ»ΠΈΡΡŒ Π² ΠΏΠΎΡΡ‚оянно Ρ‚ΠΎΠΊΠΎΠ²ΠΎΠΌ ΠΈ ΠΈΠΌΠΏΡƒΠ»ΡŒΡΠ½ΠΎΠΌ Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΠ°Ρ…. Π’ ΠΊΠ°Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π²Π΅ ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄Π° использовалась автоэмиссионная ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Π°, Π° Π² ΠΊΠ°Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π²Π΅ Π°Π½ΠΎΠ΄Π° использовался стСклянный экран ΠΏΠΎΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚Ρ‹ΠΉ Π»ΡŽΠΌΠΈΠ½ΠΎΡ„ΠΎΡ€ΠΎΠΌ ZnS. РасстояниС ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ ΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ ΠΈ Π°Π½ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ составляло 300 ΠΌΠΊΠΌ, исслСдования ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΠ»ΠΈΡΡŒ Π² Π²Π°ΠΊΡƒΡƒΠΌΠ΅ 2Β· 10-7 ΠΌΠ±Π°Ρ€. Π’ ΠΏΡ€ΠΎΡ†Π΅ΡΡΠ΅ исслСдований ΡΡ‚Ρ€ΠΎΠΈΠ»ΠΈΡΡŒ Π²ΠΎΠ»ΡŒΡ‚-Π°ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π½Ρ‹Π΅ характСристики для всСх Ρ‚Ρ€Π΅Ρ… Ρ‚ΠΈΠΏΠΎΠ² интСрфСйсов (рис. 7.5). Как Π²ΠΈΠ΄Π½ΠΎ ΠΈΠ· Π³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΠΊΠ° ВАΠ₯ исслСдованных ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†ΠΎΠ² ΠΈΠΌΠ΅Π΅Ρ‚ ΡΠΊΡΠΏΠΎΠ½Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ Ρ…Π°Ρ€Π°ΠΊΡ‚Π΅Ρ€, ΠΌΠΈΠ½ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½ΡƒΡŽ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΠ³ΠΎΠ²ΡƒΡŽ Π½Π°ΠΏΡ€ΡΠΆΠ΅Π½Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ элСктричСского поля продСмонстрировал ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Π΅Ρ† с Ρ‚Ρ€Π΅Ρ‚ΡŒΠΈΠΌ Ρ‚ΠΈΠΏΠΎΠΌ интСрфСйса, которая составила 1,17 Π’/ΠΌΠΊΠΌ ΠΏΡ€ΠΈ Ρ‚ΠΎΠΊΠ΅ Π² 1 мкА. ΠŸΠ΅Ρ€Π²Ρ‹ΠΉ Ρ‚ΠΈΠΏ интСрфСйса ΠΏΠΎΠΊΠ°Π·Π°Π» Π½Π°ΠΏΡ€ΡΠΆΠ΅Π½Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ элСктричСского поля 1,73 Π’/ΠΌΠΊΠΌ, Π° Π²Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΉ Ρ‚ΠΈΠΏ интСрфСйса — 2,53 Π’/ΠΌΠΊΠΌ. По ΡƒΡ€ΠΎΠ²Π½ΡŽ автоэмиссионных Ρ‚ΠΎΠΊΠΎΠ² ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†Ρ‹ Ρ€Π°ΡΠΏΠΎΠ»ΠΎΠΆΠΈΠ»ΠΈΡΡŒ Π² Ρ‚ΠΎΠΉ ΠΆΠ΅ ΠΏΠΎΡΠ»Π΅Π΄ΠΎΠ²Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΡΡ‚ΠΈ.

Рис. 7.5 — ВАΠ₯, ΠΈΠ·ΠΌΠ΅Ρ€Π΅Π½Π½Ρ‹Π΅ Π² Ρ€Π΅ΠΆΠΈΠΌΠ΅ постоянного напряТСния для Ρ‚Ρ€Π΅Ρ… Ρ‚ΠΈΠΏΠΎΠ² интСрфСйсов.

Π’Π°ΠΊΠΈΠΌ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠΌ, Π±Ρ‹Π»ΠΈ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Ρ‹ массивы Π²Π΅Ρ€Ρ‚ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΎΡ€ΠΈΠ΅Π½Ρ‚ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹Ρ… УНВ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚ΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΡ… с ΠΊΡ€Π΅ΠΌΠ½ΠΈΠ΅Π²ΠΎΠΉ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΎΠΉ посрСдством Ρ‚Ρ€Π΅Ρ… Ρ‚ΠΈΠΏΠΎΠ² интСрфСйсов (Π½Π°Π½ΠΎΠΊΠ°Ρ‚Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ²): мСталлоксидного, ΠΏΠΎΠ»ΡƒΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄Π½ΠΈΠΊΠΎΠ²ΠΎΠ³ΠΎ ΠΈ ΠΌΠ΅Ρ‚алличСского. ΠŸΠ΅Ρ€Π²Ρ‹ΠΉ ΠΈ Ρ‚Ρ€Π΅Ρ‚ΠΈΠΉ Ρ‚ΠΈΠΏ продСмонстрировали Π½ΠΈΠ·ΠΊΠΈΠ΅ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΠ³ΠΎΠ²Ρ‹Π΅ напряТСнности элСктричСского поля ΠΈ Π²Ρ‹ΡΠΎΠΊΠΈΠ΅ эмиссионныС Ρ‚ΠΎΠΊΠΈ. Π’ Ρ†Π΅Π»ΠΎΠΌ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½Π½Ρ‹Π΅ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Ρ‹ ΡΠ²ΠΈΠ΄Π΅Ρ‚Π΅Π»ΡŒΡΡ‚Π²ΡƒΡŽΡ‚ ΠΎ ΠΏΠ΅Ρ€ΡΠΏΠ΅ΠΊΡ‚ивности примСнСния ΠΏΠΎΠ΄ΠΎΠ±Π½Ρ‹Ρ… структур Π² ΠΏΠ°Π½Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… автоэмиссионных дисплСях[1].

Π—Π°ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅

Π’ Π΄Π°Π½Π½ΠΎΠΌ курсовом ΠΏΡ€ΠΎΠ΅ΠΊΡ‚Π΅ Ρ€Π°ΡΡΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΠ²Π°Π»ΠΈΡΡŒ вопросы, связанныС с ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ ΠΈ ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ пористого Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия.

Π”Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π» Π²Ρ‹Π·Ρ‹Π²Π°Π΅Ρ‚ интСрСс, Π² ΡΠ²ΡΠ·ΠΈ с ΡƒΠ½ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ «ΡΠΎΠ±ΡΡ‚Π²Π΅Π½Π½ΠΎΠΉ» структурой, ΠΏΠΎΠ·Π²ΠΎΠ»ΡΡŽΡ‰Π΅ΠΉ ΠΈΠ·Π³ΠΎΡ‚Π°Π²Π»ΠΈΠ²Π°Ρ‚ΡŒ ΠΈΠ· Π½Π΅Π³ΠΎ столбиковыС, Π½ΠΈΡ‚Π΅Π²ΠΈΠ΄Π½Ρ‹Π΅, Ρ‚ΠΎΡ‡Π΅Ρ‡Π½Ρ‹Π΅ элСмСнты с Π½Π°Π½ΠΎΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€ΠΎΠ²Ρ‹ΠΌΠΈ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π°ΠΌΠΈ, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ Π½Π΅Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΈ Π²ΠΎΡΠΏΡ€ΠΎΠΈΠ·Π²Π΅ΡΡ‚ΠΈ извСстными ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Π°ΠΌΠΈ микросборки (Π² Ρ‡Π°ΡΡ‚ности, ΠΏΡƒΡ‚Ρ‘ΠΌ Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΠ»ΠΈΡ‚ΠΎΠ³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΠΈ).

Π‘Π»Π΅Π΄ΡƒΠ΅Ρ‚ ΠΎΡ‚ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΈΡ‚ΡŒ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ пористого Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия прСдставляСт интСрСс ΠΏΡ€ΠΈ Ρ€Π°Π·Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ΅ Ρ„ΡƒΠ½ΠΊΡ†ΠΈΠΎΠ½Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… слоёв для устройств оптоэлСктроники, сСнсорики, наноэлСктроники, Π° Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ ΠΏΡ€ΠΈ ΠΈΠ·Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²Π»Π΅Π½ΠΈΠΈ Ρ„ΠΈΠ»ΡŒΡ‚Ρ€ΠΎΠ², ΠΌΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½, Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΠΈ эмиссионных ΠΏΡ€ΠΈΠ±ΠΎΡ€ΠΎΠ².

1. АвтоэмиссионныС ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Ρ‹ Π½Π° ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π΅ массивов Π²Π΅Ρ€Ρ‚ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΎΡ€ΠΈΠ΅Π½Ρ‚ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹Ρ… ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ Π½Π° Π»ΠΎΠΊΠ°Π»ΠΈΠ·ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹Ρ… Π² ΠΏΠΎΡ€Π°Ρ… Π°Π½ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия Π½Π°Π½ΠΎΠΊΠ°Ρ‚Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ‚ΠΎΡ€Π°Ρ…. Π›Π°Π±ΡƒΠ½ΠΎΠ² Π’. А., БасаСв А. Π‘.,

Π“ΠΎΡ€ΠΎΡ… Π“. Π“., МозалСв А. М., Π‘ΠΎΠ»ΠΎΠ²Π΅ΠΉ Π”.Π’.

2. Π‘ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π· пространствСнно упорядочСнных ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»-оксидных Π½Π°Π½ΠΎΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ·ΠΈΡ‚ΠΎΠ² Π½Π° ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π΅ пористого оксида алюминия. Напольский К.Π‘.

3. ЭлСктрохимичСская тСхнология ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠΈ наноэлСктронных устройств. Π‘ΠΎΠΊΠΎΠ» Π’.А.

4. ΠŸΠ»Ρ‘Π½ΠΊΠΈ, сформированныС золь-гСль ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ Π½Π° ΠΏΠΎΠ»ΡƒΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄Π½ΠΈΠΊΠ°Ρ… ΠΈ ΠΌΠ΅Π·ΠΎΠΏΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚Ρ‹Ρ… ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Π°Ρ…. Π“Π°ΠΏΠΎΠ½Π΅Π½ΠΊΠΎ Н.Π’.

5. Π‘ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π· Π½Π°Π½ΠΎΡ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… структур Π½Π° ΠΎΡΠ½ΠΎΠ²Π΅ Ge Π² ΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΡ†Π΅ пористого оксида алюминия. Π§ΡƒΠΊΠ°Π²ΠΈΠ½ А. И., Π’Π°Π»Π΅Π΅Π² Π . Π“., Π‘Π΅Π»ΡŒΡ‚ΡŽΠΊΠΎΠ² А.Н.

6. ΠœΠ΅ΠΌΠ±Ρ€Π°Π½Π½Ρ‹Π΅ сСнсорныС элСмСнты ΠΈΠ· Π½Π°Π½ΠΎΠΏΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚ΠΎΠ³ΠΎ оксида алюминия для контроля ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ влаТности. Π”. Π›. Π¨ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΎΠ²ΠΈΡ‡, Π”. И. Π§ΡƒΡˆΠΊΠΎΠ²Π°, Π’. А. Π‘ΠΎΠΊΠΎΠ».

7. ΠžΠ±ΡŠΡ‘ΠΌΠ½ΠΎ-ΠΏΠ»Π°Π½Π°Ρ€Π½Ρ‹ΠΉ конструктивный Π²Π°Ρ€ΠΈΠ°Π½Ρ‚ ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ΄Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠ° ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ влаТности Π½Π° Π½Π°Π½ΠΎΠΏΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚ΠΎΠΌ оксидС алюминия. ΠœΡƒΡ…ΡƒΡ€ΠΎΠ² Н.И.

ΠŸΠΎΠΊΠ°Π·Π°Ρ‚ΡŒ вСсь тСкст
Π—Π°ΠΏΠΎΠ»Π½ΠΈΡ‚ΡŒ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΡƒ Ρ‚Π΅ΠΊΡƒΡ‰Π΅ΠΉ Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΎΠΉ