Макрокинетика и процессы переноса в газовом разряде пониженного давления
Диссертация
Исследования последних лет показывают, что неравновесные процессы в низкотемпературной плазме позволяют значительно расширить состав материалов и области их применения. В низкотемпературной плазме реализуются условия для осаждения, напыления и агрегации, что позволяет образовывать полимерные, а также неорганические пленки, свойствами которых можно управлять в процессе их нанесения, создавать… Читать ещё >
Список литературы
- Ткачук Б.В., Колотыркии В. М. Получение тонких полимерных пленок из газовой фазы. М.:Химия, 1977. — 233 с.
- Ясуда X. Полимеризация в плазме. М.: Мир, 1988. — 376 с.
- Liepins R., Sakaoku K. Submicron Polymer Powder in Electrodeless RF Induced Plasma Initiated Polymerization//! Appl. Polym. Sci. 1972. — V.16, Ms 10.-C. 2633−2645.
- Райзер Ю.П. Физика газового разряда. М.- Наука, 1987. — 590 с.
- Ю.Словецкий Д. И. Механизмы химических реакций в неравновесной фторсодержащей плазме. В кн.: Химия плазмы. — М.: Энергоиздат, 1983, вып.10, с.108−146.
- П.Виноградов Г. К., Словецкий Д. И., Федосеева Т. В. Экспериментальное исследование параметров плазмы тлеющего разряда в тетрафторметане.// Теплофизика высоких температур, 1983, т.21, № 6, с. 1083−1090.
- H.Kobayashi, А. Т. Bell, М. Shen, Macromolecules, 1974, v. 7, p.
- M. Niinomi, Yanagihara, Plasma diagnostics of polymerizing benzene plasma, in: «Plasma Polymerization (M. Shen, A. T. Bell, eds.). p. 87, ACS Symp. Ser., v. 108, Am. Chem. Soc., Washington. D. C., 1979.
- G. Smolinsky, M. J. Virile. J. Macromul. Sri. Chew., 1976. v. A10, p. 473.
- Зынь.В.И., Опарин В. Б., Потапов В. К. Кинетическая масс-спектрометрия молекулярных продуктов полимеризации фторуглеродов в тлеющем разряде / Химия высоких энергий, 1989, т.23, № 1, с.75−80.
- Blinow L.M., Golovkin A.G., Kaganov L.I.Oparin V.B., Zyn V. I, Razhavski A.G., Sterenberg A.M., Tetrachlorosilane consum-ption in radio frequency glow dischchfige, Plasma Chem. A Plasma Proc., 1998, v. 18,№ 2,p. 509−533.
- Саксонский B.A. Кинетика полимеризации ряда углеводородов в ВЧ-разряде низкого давления.: Дисс. Канд. .физ.-мат. Наук 01.04.17 -Химическая физика в том числе физика горения и взрыва.- М.-1985.-152 с.
- Бейнон Дж. Масс-спектрометрия и ее применение в органической химии.-М.:Мир, 1964.-691 с.
- Будзикевич Г., Джерасси К., Уильям Д. Интерпретация масс-спектров органических соединений. М.:Мир, 1966.-323с.
- Агафонов И.Л., Девятых Г. Г. Масс-спектрометрический анализ газов и паров особой чистоты. М.: Наука, 1980. — 333с.
- Справочник химика. М.: — Л.: — Химия, 1967, т.4.с.526.
- Малов В.В. Пьезорезонансные датчики. М.: Энергия, 1978. — 247 с.
- Виноградов Г. К. и др. Исследование пространственных распределений скорости пленкообразования в разрядах пониженного давления.// Химия высоких энергий, 1980, т.14, № 5, с.461−468.
- Чан П., Тэлбот Л., Турян К. Электрические зонды в неподвижной и движущейся плазме.- М.: Мир, 1978.- 201с.
- Санжаровский А.Т. Методы расчета внутренних напряжений в полимерных и лакокрасочных покрытиях. Докл. АН СССР, 1960, т. 135, с. 58−61.
- Русанов В.Д., Фридман A.A. Физика химически активной плазмы. -М.: Наука, 1984.-414 с.
- Словецкий Д.И. Диссоциация электронным ударом. В кн.: Химия плазмы. — М.: Атомиздат, 1977, вып.4, с.156−202.
- Иванов A.A., Соболева Т. К. Неравновесная плазмохимия. М.: Атомиздат, 1978.-264 с.
- Смирнов Б.М. Атомные столкновения и элементарные процессы в плазме.- М.: Атомиздат, 1968.-412 с.
- Кондратьев В.Н., Никитин Е. Е. Кинетика и механизм газофазных реакций. М.: Наука, 1974. — 558 с.
- Словецкий Д.И., Дерюгин А. А. Моделирование механизма разложения тетрафторметана в тлеющем разряде.// Химия высоких энергий, 1982, т. 16, № 6, с 540 546.
- Selwin G.S., Kay Е. /Spatially resolved optical emission studies of fluorocarbon RF plasma through the use of UV transmitting optical fibers./ Plasma Chem. Plasma Proc., 1985, v.5, № 2 p. 183. 199.
- Словецкий Д.И. Кинетика образования и гибели продуктов разложения тетрафторметана в неравновесных газовых разрядах. //Химия высоких энергий, т.15,№ 6,1981, с. 560−562.
- Мадорский С. Термическое разложение полимеров. М.: Мир, 1967.328.
- Иванов С.И. Масс- спектрометрическое исследование полимеризации ТФЭ в ВЧ разряде. // Химия высоких энергий, 1979, т.13 с. 70 -74.
- Barnes R.M. / Induktive coupled plasma spectroscopy. Proc. 6-th Int. Symp. Plasma Chem. Montreal: Mc. Gill Universiti, 1983, v.2, p.419−424.
- Smolinsky G., Flamm D. L. / J. Appl. Phys., 1979, 50, s.4982.
- Mogab C.J., Adams A.C., Flamm D. L./ J. Appl. Phys., 1978, 49, s.3796
- Вирин Jl.H. и др. Ион-молекулярные реакции в газах. М.: Наука, 1979.-548 с.
- Кондратьев В.Н. Константы скорости газофазных реакций.- М.: Наука, 1971.-351 с.
- Словецкий Д.И. Механизмы химических реакций в неравновесной плазме. М.: Наука, 1980, 310 с.
- Александров Д.Е. Модель газофазных процессов в СВЧ разряде пониженного давления 02/SiCl4/SF6 при осаждении слоев Дисс. .канд.физ.-мат.наук. М.: ИОФАН СССР, 1987.
- Rowe H.D. Realtime multichannel emission spectroscopy of S1CI4 plasmas / Prok/ 5th Int. Con. Ion and plasma assisted techniques, IPAD- 85,1. Munich, 1985, p.67.
- Siefert W., Montges J., Bauch H., Time resolved emission spectroscopy for PICVD fiber perform preparation / Proc Optical Fiber Commutation Conf., OFC-86, Atlanta, Georgia, 1986.p.80.
- Sartre A., Dasort J., Deux J. Origin of the OH impurity in silicon performs obtained by oxidation of SICI4 in a plasma torch // J. Optics, 1984, v. l5, № 5, р.302.304/.
- Manory R., Grill A., Carmi U., Avni R. Decomposition and polymerization of SiCU in a microwave plasma // Plasma Chem. Plasma Proc., 1983,№ 2 P.245.248.
- Avni R., Carmi U., Rosenthal I., et al. / Dissociation mechanism of SiCl4 to Si in low pressure microwave plasmas of argon and argon with hydrogen // Thin Solid Films, 1983, v. 107, № 3, p.235.244.
- Biderman H., Martinu L., Slavinska D. Plasma deposition and properties of composite metal-hard carbon films // Pure Appl. Cem., 1988, v.60, № 5, P.607.618.
- Grossman E., Grill A., Avni R. Effect of frequency on the deposition of microcrystalline silicon from SiCU in low pressure RF plasmas // Plasma Chem. Plasma Proc., 1982, v.2, № 2 p.341. .359.
- Mexmain J.M., Morvan D., Bourdin S, et all. Thermodynamic study of the ways of preparing silicon and its applications to the preparation of photjvoltaic silicon by plasma techniques // Plasma Chem. Plasma Proc., 1983, v.3, № 4 p.393.,.420.
- Hollahan J.R., Deposition of plasma silicon oxide thin films in a production planar reactor//J. Electrochem. Soc., 1979, v. 126, № 6, p.930.934.
- Reinborg A.R., Plasma deposition of silicon containg films // J. Electron. Materials, 1979, v.8, № 3, p.345.375.
- Гурвич JI.B., Карачевцев Г. В., Кондратьев B.H. и др. Энергии разрыва химических связей. Потенциалы ионизации и сродство к электрону. М.: Наука, 1974.-352 с.
- Глушко В. П. Термодинамические свойства индивидуальных веществ. М.: Изд. АН СССР. 1962. T.l. С. 491.
- Саксонский В.А., Щуров А. Н., Потапов В. К. /Особенности кинетики осаждения полимерных пленок в импульсном ВЧ разряде.// Докл. АН СССР. 1985. Т.280, № I. С.137−140.
- Сивухин A.B. Общий курс физики, т.2, М.: Наука. 1990, 592с.
- Образование, движение и конденсация кремнийорганических полимерных аэрозолей в тлеющем разряде /Зынь В.И., Потапов В. К., Тузов Л. С., Штеренберг A.M. // Химия высоких энергий, 1986, т.20, № 6, с. 541−547.
- Breitbarth F., Tiller H.J., Reinhardt W./Plasma chemical reactions weakly decomposed CCL4// Plasma Chem. Plasma Proc., 1985, v.5, № 4 p.293.316.
- Иванов Ю.А., Эпштейн И. Л. Условия образования порошка в тлеющих разрядах в углеводородах // Химия высоких энергий. 1984. — Т. 18, № 5. — С. 462−467.
- Гаранин Г. С., Иванов Ю. А., Тимакин В. Н. Исследование роли макрочастиц в процессе плазмохимической полимеризации // Химия высоких энергий. -1981. Т.15, № 3. — С. 183−184.
- S. V. Vladimirov, К. Ostrikov Self-Organization and Dynamics of Nanoparticlesin Chemically Active Plasmas for Low-TemperatureDeposition of Silicon and Carbon-Based Nanostructured Films 1// Plasmas and Polymers, Vol. 8, No. 2, June 2003.
- M.R.Havens, K.S. Mayhan, J. James // J. Appl. Polym. Sci. 1978. — v.22, -C. p.2793−2801.
- Тузов Л.С., Штеренберг A.M., Жуланов Ю. В. Экспериментальные основы изучения процесса образования макрочастиц в тлеющем разряде // Ж. физ. химии. 1987. — Т.61, № 3. — С. 856−858.
- Electron Microscopy Studies of Plasma Polymerized Organosilicon Thin Films / J. Grebowicz, T. Pakula, A.M. Wrobel, M. Kryszewski // Thin Solid Films.-1980.-V.65,№ 3.C. 351−359.
- Словецкий Д.И. Разложение углеводородов в тлеющем разряде. // Химия плазмы. -1981. вып. 8. — С. 189−230.
- Данилин Б.С., Киреев В. Ю. Модель процесса травления материалов в галогеносодержащей газоразрядной плазме./ Физика и химия обработки материалов, 1977, № 4, с. 8−13.
- Штеренберг A.M. Макрокинетика формирования дисперсной фазы в объеме газоразрядных систем пониженного давления.: Дисс.. док. физ.-мат. наук: 01.04.17 Химическая физика, в том числе физика горения и взрыва. -М.- 1995.-379 с.
- Эмануэль Н.М., Кнорре Д. Г. Курс химической кинетики. -М.: Высшая школа, 1974. 400 с.
- Heinecke R.A.H. Control of relative etch rates of SiOp and SI in plasma etching. // Sol. -St. Electron, 1975, v. 18, N 2, p. 1146−1147.
- Celenti D, Benenson D.M./Measurments of velocity within a filly developed plasma/Proc. 6 th Int. Symp. Plasma Chem. Montreal: Mc. Gill Universiti, 1983, v. l, p. 126.131.
- Martinu L., Biderman H./Monitoring the deposition of metall -doped polymer films using optical emission spectroscopy.// Plasma Chem. Plasma Proc., 1985, v.5, p.81−87.
- Catherine Y., Zamouche A. Glow discharge deposition of Tetramethylsilane films.// Plasma Chem. Plasma Proc., 1985, v.5, p.353−368.
- Agostino R., Cramarossa F., Benedictis S.,/Chemical mechanisms in CnF2n+2 (H2 or C2F4) discharges./ Proc. 6 th Int. Symp. Plasma Chem. Montreal: Mc. Gill Universiti, 1983, v.4, p.394.399.
- Agostino R., Cramarossa F., Benedictis S., Fracassi F./ Optical emission spectroscopy and actinometry in CCI4-CI2 RF discharges./ Plasma Chem. Plasma Proc., 1984, v.5,№ 3, p.163−168.
- Breitbarth F., Rottmayer S., /Investigation of radical reactions in C2CI4/O2discharges by ESR, mass and emission spectroscopy.// Plasma Chem. Plasma
- Proc., 1986, v.6,№ 4, p.381−398.
- On the use of actinometric emission spectroscopy in SF6 O2 RF discharges.// Agostino R., Cramarossa F., Benedictis S., Fracassi F. Laska L. Masek K. // Plasma Chem. Plasma Proc., 1985, v.5,№ 3, p.239−253.
- Lergon H.G. Venugopalan M./Mass spectrometer vail probe diagnostics of Ar discharges containing SF6 and /or O2 reactive ions in etching plasmas// Plasma Chem. Plasma Proc., 1984, v.4,№ 2, p. 107−118.
- Agostino R., Benedictis S., Cramarossa F./ RF plasma decomposition of CnF2n+2 and CF4-C2F4 mixtures during silicon etching or fluorpolymer deposition// Plasma Chem. Plasma Proc., 1984, v.4,№l, p. 1−14.
- Немцова И.Г., Пржонский A.M. Состав ионного потока на полимерную пленку, образующуюся при разряде в смеси. //Химия высоких энергий. 1983. Т. 17, № 3. с. 279−281.
- Паркин А.А. Исследование процесса плазмохимической полимеризации и разработка методов направленного формирования диэлек285трических структур. Дисс.канд.техн.наук. Киев: Институт кибернетики АН УССР. 1982.-206 с.
- Зынь В.И., Паркин A.A. Масс-спектрометрическое исследование плазмохимической полимеризации стирола. /В кн.: Ш Всесоюзн. симпоз. по плазмохимии „Плазмохимия-79“. Тез.докл. М.: ИНХС АН СССР, 1979. С. 185 187.
- Оптико-электронные методы изучения аэрозолей. / Под ред. С. П. Беляева, Н. К. Никифорова, В. В. Смирнова, Г. И. Щелчкова М.: Энергоиздат, 1981.-232 с.
- Зынь В.И., Потапов В. К., Штеренберг A.M. Кинетика изменения масс-спектров и молекулярного состава газовой фазы тлеющего разряда в парах ГМДСА и ГМДСО // Химия высоких энергий. 1986. — Т.20, № 1. — С.76−81.
- Штеренберг A.M. Масс-спектрометрический контроль состава газовой фазы тлеющего разряда при полимеризации кремнийорганических соединений // Тез. докл. 4 Всес. конф. по масс-спектрометрии, Сумы. 1986, ч.7. -С. 76−77.
- Высокочастотный разряд в тетрахлорсилане / А. Г. Головкин, В. И. Зынь, В. Б. Опарин, Л. И. Каганов, A.A. Ражавский, А. М. Штеренберг // Тез. докл. 2 Всес. семинара „Высокочастотный разряд в волновых полях“. -Куйбышев. -1989.-С. 21.
- Иванов Ю.А., Солдатова П. В., Эпштейн И. Л. /Численное моделирование кинетики превращения метана в тлеющем разряде.// Химия высоких энергий. 1985. Т. 19, № 5. С.465−470.
- Mach R, Drost Н./ Kinetics of the methane conversion in a glow discharge up to chemical equilibrium. // Proc. 6 th Int. Symp. Plasma Chem. Montreal: Mc. Gill Universiti, 1983, v.2, p.412.417.
- Yensen R.Y., Bell A.T., Soong D.S./ Plasma polymerisation of Ethane// Plasma Chem. Plasma Proc., 1984, v.4,№ 2, p. 139−161.
- Canera P., Castello G., Nicchia M. /RF-plasma reactions of ligt hydrocarbons// Radiat Phys. and Chem., 1983, v.21, p.381−387.
- Полак Л.С., Гольденберг М. Я., Левицкий A.A. Вычислительные методы в химической кинетике. М.: Наука. 1983. 280с.
- Очкин В.И. Труды ФИАН СССР, 1974, т.78, С. 3.59.
- Методы-спутники в газовой хроматографии. М.:Мир, 1972. 398с.
- Wricht F. N, Winkler C.F. Active Nitrogen. New York- London: Acad. Press, 1968. 602 p.
- Тодесайте P.Д. Исследование диссоциации молекул и рекомбинации атомов азота в электрических разрядах и их послесвечении: Автореф. Дисс.канд. физ.-мат. наук. М.: Ин-т нефтехимического синтеза им. А. В. Топчиева А.Н. АН СССР, 1975.
- Зынь В.И., Опарин В. Б., Потапов В. К., Тузов Л.С./Пространственное распределение полимеризационных процессов в реакторе тлеющего разряда.//Химия высоких энергий, 1989, Т.23, № 3, С.276−281.
- Frost L. S., Pelps А. V.// Phys. Rev., 1962, vol. 127, p. 1621 .1633.
- Treanor С. E., Rich J. W, Rehm R.G.// J.Chem. Phys. 1968, vol.48, P-1798.1807
- Мотт Н., Месси Г. Теория атомных столкновений: Пер. с англ. М.: Мир, 1969. 756 с.
- Месси Г., Бархоп Е. Электронные и ионные столкновения: Пер. с англ. М.: Изд-во иностр. лит., 1958. 604 с.
- Атомные и молекулярные процессы: Пер. с англ./ Под ред. Д. Бейтса М.: Мир, 1965.777 с.
- Смирнов Б.М. Атомные столкновения и элементарные процессы в плазме. М.: Атомиздат, 1968. 363 с.
- Друкарев Г. Ф. Столкновения электронов с атомами и молекулами. М.: наука, 1978.255 с.
- Никитин Е.Е. Теория элементарных атомно-молекулярных процессов в газах. М.: Химия, 1970. 455 с.
- Никитин Е.Е., Уманский С. Я. Статистическая теория бимолекулярных реакций. В кн.: Химия плазмы /Под ред. Б. М. Смирнова.М.: Атомиздат, 1974, вып. 1, с. 8.66.
- Смирнов Б.М. Ионы и возбужденные атомы в плазме. М.: Атомиздат, 1974. 455 с.
- Пеннер С.С. Количественная молекулярная спектроскопия и излучательная способность газов: Пер. с англ. М.: Мир, 1963, 493 с.
- Робинсон П., Холбрук К. Мономолекулярные реакции: Пер. с англ. М.: Мир, 1975,380 с.
- Electron Microscopy Studies of Plasma Polymerized Organosilicon Thin Films / J. Grebowicz, T. Pakula, A.M. Wrobel, M. Kryszewski // Thin Solid Films.- 1980. V.65, № 3. C. 351−359.
- Грин X., Лейн В. Аэрозоли пыли, дымы, туманы. — Л.: Химия, 1969.- 428 с.
- Основы электрогазодинамики дисперсных систем. / И. П. Верещагин, В. И. Левитов, Г. З. Мирзабекян, М. М. Пашин. М.: Энергия, 1974.- 480 с.
- Оптическая диагностика конверсии угольных частиц в потоке плазмы продуктов сгорания / А. Б. Кондратьев, А. П. Нефедов, О.Ф. Петров
- A.А. Самарян // Теплофизика высоких температур. 1994. — Т.32, № 3. — С. 452 458.
- Multiple Wavelength Extinction Technique for Particle Characterization in Dense Particle Clouds / R. Dittmann, H. Feld, W. Samenfink, S. Wittig // Part. Part. Syst. Charact. 1994. — V. l 1, № 5. — C. 379−384.
- Жуланов Ю.В., Петрянов И. В., Садовский Б. Ф. Лазерный фотоэлектрический спектрометр больших ядер конденсации // Изв. АН СССР. Сер. физ. атм. и океана. 1978. — Т. 14, № 5.- С. 520−526.
- Кинетика формирования дисперсной фазы при полимеризации кремнийорганических соединений в тлеющем разряде / A.M. Штеренберг,
- B.К. Потапов, Л. С. Тузов, Ю. В. Жуланов // Химия высоких энергий. 1988. -Т.22, № 1.-С. 82−86.
- Штеренберг A.M., Тузов Л. С., Потапов В. К. Кинетика роста частиц дисперсной фазы в объеме тлеющего разряда в парах гексаметилдисилазана //Химическая физика. 1989.- Т.8,№ 11. -С. 1559−1563.
- Штеренберг A.M., Тузов Л. С. Феноменологическая модель зарождения и эволюции дисперсной фазы при полимеризации кремнийорганических соединений в тлеющем разряде // Химия высоких энергий. 1990. — Т.24, № 4.-С. 351−355.
- Тузов JI.C., Потапов В. К., Штеренберг A.M. Образование макрочастиц в реакционном объеме при полимеризации в тлеющем разряде // Тез. докл. Всес. семинара „Физика и технология тонкопленочных систем“. Гомель. — 1990. — С. 46.
- Штеренберг A.M. Моделирование кинетики формирования дисперсной фазы в приэлектродных областях тлеющего разряда // В кн. Физика и техника плазмы. Материалы конференции. Минск. 1994. — Т.1. — С. 165−167.
- Штеренберг A.M., Потапов В. К. Макрокинетика формирования дисперсной фазы в газоразрядных системах. Самара, СамГТУ. — 1997. — 192 с.
- Fuchs N., Oschman N. Uber die Bildung von Aerosolen. // Acta Phys. Chim., URSS. 1935. — V.3. — C. 61−78.
- Грин X., Лейн В. Аэрозоли пыли, дымы, туманы. — Л.: Химия, 1969.- 428 с.
- Клочков В.П., Козлов Л. Ф. и др. Лазерная анемометрия, дистанционная спектроскопия и интерферометрия. Киев.: Наукова думка, 1985.-232 с.
- Gousbet A. A Review of Measurment of Particle Velocities and Diameters by Laser Techniques, with Emphasis on Thermal Plasma // Plasma Chem. Plasma Proc. 1985. — V.5, № 2. — C. 91−117.
- Mannik L., Brown S.K., Chu F.Y. Meathurement of Particle Velocity in Plasma Torch Using Direct Frequency Detection of Scattered Laser Light // 7 Int. Symp. Plasma Chem. Symp. Proc. 1985. — V.4.- C. 704−709.
- Steffenc H.D., Basse K.H., Selbach H. Measurement of Particle and Plasma Velocity in a Low Pressure Plasma Jet // 7 Int. Symp. Plasma Chem. Symp. Proc. 1985.-V.4.-C. 710−717.
- A.M. Штеренберг, В. К. Потапов. Макрокинетика формирования дисперсной фазы в газоразрядных системах./ СамГТУ, Самара, 1997, 188 с.
- Зынь В.И., Паркин А.А, Штеренберг A.M. Влияние гравитации на формирование полимерной пленки в тлеющем разряде // Химия высоких энергий. 1983. — Т. 17, № 3. — С. 280−282.
- Поверхностный макрорельеф пленки, получаемой газоразрядной по290лимеризацией / В. И. Зынь, В. К. Потапов, JI.C. Тузов, A.M. Штеренберг // Химия высоких энергий. 1985. — Т.19, № 2. — С. 155−159.
- Зынь.В.И., Опарин В.Б./ Эффект тени при полимеризации в катодной плазме тлеющего разряда // Химия высоких энергий, 2001, т.35, № 4, с. 313 314.
- L.F. Tompson, G. Smolinsky//J. Appl. Polym. Sci.- 1972. -V. 16, p. 11 791 184.
- Grebowich.I, Pakula T., Wrobel A.M. Electron microscopy studies of plasma polumerised organosilicon thin films // Thin Solid Films, 1980, v.65, № 3, p.351- 359.
- Castonguay J., Theoret A./Proprites eltctrigues de minses films de polumeres formes dans une decharg RF a partir de monomtres organiques semiconducteurs// Thin Solid Films, 1980, v.69, № 1, p.85.97.
- Varshney S.K., Beaty C.L./Formation of silicon carbide and nitride by vapour-phase reaction.//Ceram. Eng. Sci. Proc., 1982, v.3, № 9, p. 555−564.
- Wrobel A.M., Wertheimer M.R., Schreiber H.P./Polymerisation of organosilicones in microwave discharges//J.Macromol. Sci. A Chem., 1980, v. A14, № 3, p. 321. .337.
- Kay E., Levenson L.L., James W. J /Organotin polumers formed by glow discharge polumerisation.//J.Phys. Chem., 1980, v.84, № 12, p. 1365−1368.
- Catherine Y., Zamouche A./Glow discharge deposition of Tetramethylsilane films//Plasma Chem. Plasma Proc., 1985, v.5, № 4, p.353.368.
- Clark D.T., Shuttleworth D./ Plasma polumerisation. An ESCA investigation of polumers sinthesised bu excitation of Inductivtly coupled RF plasma in periluorobenzene and perfluorociclohexane.// J. Polym. Sci. Polym. Chem.- 1980. v.18, № 1, p.27.46.
- M.Hudis./J.Appl. Polym. Sci., 1972. v.16, № 1, p.2397.
- H. Yasuda, T. Hsu. / Polym. Sci., Polym. Chetn. Ed» 1977, v. 15. p. 81.
- N. Morosoff, B. Crist, M. Bumgarner, T. J. Macrcimol. Sci. Cliem., 1976, v. A10, p. 451.
- Экспериментальное исследование образования полимерных пленок в неравновесной фторуглеродной плазме. / Виноградов Г. К., Иманбаев Г. Ж., Полак JI.C., Словецкий Д.И.//Химия высоких энергий. 1983. Т. 17, № 4. с.372−377.
- Пехович В.И., Жидких В. М. Расчеты тепловых режимов твердых тел.1. Л.: Энергия. 1976. с. 233.
- Проявление газоразрядного подобия в напряженных пленках, полученных полимеризацией в тлеющем разряде /Зынь В.И., Опарин В. Б, Паркин А. А., Потапов В. К., Тузов Л.С.// Химия высоких энергий, 1984, Т. 18, № 5, С.472−475.
- Опарин В.Б. Внутренние напряжения в полимерных пленках и структура тлеющего разряда // Известия Тульского государственного университета. Сер. физика, № 4, 2004, стр. 101. 108.
- Смит А. Прикладная ИК-спектроскопия. Основы, техника, аналитическое применение. М.: Мир, 1982. — 328 с.
- Nakanishi К., Solomon Р.Н., Infrared Absorbtion Spectroscopy. -Holden- Day, 1977.-286 c.
- Inagaki N., Kishi A. Glow Discharge Polymeryzation of Tetramethyl-silane Investigated by Infrared Spectroscopy and ESCA // J. Polym. Sci. Polym. Chem. Ed. 1983.-V.21.-C. 1847−1852.
- Infrared Spectroscopy of a Dusty RF Plasma / W.W. Stoffels, E. Stoffels, G.M.W. Kroesen, M. Haverlag, J.H.W.G. Den Boer, F.G. De Hoog // Plasma Sources Sci. and Technos. 1994. — 3, № 3. — C. 320−324.
- Шиммель Г. Методика электронной микроскопии. М.: Мир, 1972.-300 с.
- Основы аналитической электронной микроскопии. / Дж. Дж. Грен, Дж. И. Гольдштейн, Д. К. Джой, А. К. Ролинг./ М.: Металлургия, 1990, 584 с.
- Dusty Plasmas: Physics, Chemistry, and Technological Impacts in Plasma Processing, A. Bouchoule, ed., J. Wiley, New York, (1999).
- Boufendi L., Bouchoule A. Particle Nucleation and Growth in a Low-pressure Argon-silane Discharge // Plasma Sources Sci. and Technos. 1994. — 3, № 3. — C. 262−267.
- Electron Microscopy Studies of Plasma Polymerized Organosilicon Thin Films / J. Grebowicz, T. Pakula, A.M. Wrobel, M. Kryszewski // Thin Solid Films.- 1980. V.65, № 3. C. 351−359.
- Еловиков C.C. Электронная спектроскопия. M.: Изд-во МГУ, 1992.-94 с.
- Зигбан К., Нордлинг К. и др. Электронная спектроскопия. М.: Мир, 1971.-493 с.
- Tajima I., Yamamoto М. Spectroscopic Study of Chemical Structure of Plasma-Polymerized Hexamethyldisiloxane // J. Polym. Sci. Polym. Chem. Ed. -1985.-V.25.-C. 615−622.
- Иванов Ю.А., Лебедев Ю. А., Полак Л. В. Методы контактной диагностики в неравновесной плазмохимии. М.: Наука, 1981. 142 с.
- Образование и стабилизация свободных радикалов /Под ред. А. Басс, Г. Бройда: Пер. с англ. М.: Изд-во Инострлит., 1962. 622 с.
- Ross J., Mazur P. /J. Cem. Phys. 1961, vol.35, p. 19−38.
- Snidtr N. Ross J., / J. Cem. Phys. 1966, vol.44, p. 1087−1094.
- Алексеев Б.В. Явления переноса в химически реагирующих газовых смесях//В кн. «Очерки физики и химии плазмы» /Под ред. Л. С. Полака. М.: Наука, 1971, с.88−112.
- Киреев В.Ю., Данилин Б. С., Кузнецов В. И. Плазмохимическое и ионно-химическое травление микроструктур. М.: Радио и связь, 1983.
- Полак Л.С., Овсянников А. А., Словецкий Д. И., Вурзель Б. М. Теоретическая и прикладная плазмохимии. М.- Наука, 1975. — 303 с.
- Биберман Л.М., Воробьев B.C., Якубов И. Т. Кинетика неравновесной низкотемпературной плазмы. М.: Наука, 1982. — 374 с.
- Елецкий А.В., Чифликян Р. В. Вопросы нетепловой контракции положительного столба тлеющего разряда //Химия плазмы/Под ред. Б. Н. Смирнова Вып.15. М.: Энергоатомиздат, 1989. с. 266.
- Naidu M.S., Prasad A.N./ J. Phys. Ser. D// Appl. Phys. 1972 v.5,№ 3, p.983.
- Coburn L.W., Kay E. Some chemical aspects of the fluorocarbon plasma etching of silicon and it’s compounds. IBM G. Res, Develop., 1979, v.23, N 1, p. 33−41.
- Coburn G.W., Wisiters H.F. Plasma etching a discussion of mechanisms. // Vac. Sci. Technol., 1979, v. 16, N 2, p.391−403.
- MT.Masuoka, H. Vasuda and N.Morosoff. Glow Discharge Polymerization of Hexafluoraethane. A Model System for CAP Mechanisms of Polymer Formation.// Polymer Preprints, v. 19, N 2,1976, p.498−501.
- Плазмохимические реакции и процессы /Под ред.Л. С. Полака. -М.: Наука,-1977. 216 с.
- Колотыркин В.М., Гильман А. Б., Цапук А. К. Получение органических пленок под действием электронов, УФ-света и в тлеющемразряда / Успехи химии, 1967, т.36, вып.8, с.1380−1405.
- Виноградов Г. К., Иванов Ю. А. Плазмохимическая полимеризация органических соединений. В кн.: Химические реакции в низкотемпературной плазма/ Под рад. Л. С. Полака. М.: ИНХС АН СССР, 1977, с. 142−169.
- Виноградов Г. К., Иванов Ю. А. О механизме плазмохимической полимеризации. В кн.: Плазмохимические процессы. М.: Наука, 1979, с.64−83.
- Grodman I. The formation of thin polymer films in the gas discharge. -1. Polymer Sei., 1960, 44, N 144, p.551−552.
- Heisen A. Uber die Bildung dunner Kohlenschichten in einer in Benzolatmosphase frennen den Glimmentladung. //Angew. Physik, 1958, 2, N 1, p.22−35.
- Williams Т., Edwards I.H. The glow discharge polymeri zation process. //Trans. Inst. Metal. Finish, 1966, 44, N 3, p. l 19−122.
- Deutsch H, Zum mechanism des Wachstum von Palymerschich-ten in Glimmentladundin-Beitr.// Plasma Phys., 1977, Bd. 17, S.343−350.
- Lam D.K., Baddour R.F., Stancel A.F. A mechanisms and kinetics study of polymeric thin-film deposition in glow dis charge. //1. Macromol. Sei., 1976, A 10 (3), p.421−450.
- Kobayashi H., Shen M., Bell A.T. Effect of reaction conditions on the plasma polymerization of ethylene. // G. Macromol. Sei., 1974, A 8 (2), p.373
- Виноградов Г. К., Иванов Ю. А. Плазмохимическая полимеризация органических соединений. В кн.: Химические реакции в низкотемпературной плазме/ Под рад. Л. С. Полака. М.: ИНХС АН СССР, 1977, с.142−169.
- Словецкий Д.И., Кочка Я., Стухлик И. Масс-спектральное исследование стабильных продуктов разложения моносилана в тлеющемразряде. // Химия высоких энергий, 1983, т. 17, № 5, с.476−478.
- Егоров Н.П., Комаров В. П., Куприянов С. Е. Масс-спектрометрическое исследование элементарных процессов в плазме газового разряда. В кн.: Химия плазмы /Под ред.Б. М. Смирнова, М.: Атом-издат, 1974, вып.1, с.203−233.
- Пржонский A.M. Применение масс-спектрометрии для исследования плазмохимических процессов. В кн.: Тепло и массообмен в плазмохимических процессах. Минск, ИТМО, 1982, с. 123−146.
- Зынь В.И., Паркин A.A., Ткачук Б. В. Кинетические закономерности в масс-спектрах при полимеризации в тлеющем разряде. // Теоретическая, и эксперимент. химия, 1981, т. 17, № 5, с.605−610.
- Моргулис Н.Д., Пржонский A.M. Положительные и отрицательные ионы в газоразрядной плазме.// Физика плазмы, 1976, т.2, № 4, с.683−688.
- Егоров Н.П., Комаров В. Н. Масс-спектрометрическое исследование ионного состава тлеющего разряда.// Журн. техн. физики, 1974, т.44,№ 8, с.1765−1769.
- Бондаренко A.B. Масс-спектрометрический анализ ионов в прикатодной области тлеющего разряда. Полый катод. // Журн. техн. физики, т.46, вып.12, с.253−256.
- Бондаренко A.B. Масс-энергетический анализ ионов в при катодной области тлеющего разряда. // Журн. техн. физики, 1975, т.45, № 2, с.308−311.
- Przhonscki A.M., Nemtseva N.G. Investigation of composition of ion flux inciden upon dielectrical surface from methane-xenon plasma. Proc. XV. Int. Conf. Phen. ioniz. gas., Minsk, 1981, p.311−312.
- Виноградов Г. К. и др. Экспериментальное исследование образования полимерных пленок в неравновесной фторуглеродной плазма. // Химия высоких энергий, 1983, т. 17, № 4, с.372−377.
- Щуров А.Н. и др. Заряд дисперсных полимерных частиц втлеющем разряде.// Журн.физ.химии, 1979, т.53- № 4,с.930−934.
- Иванов Ю.А. Гетерогенные стадии процесса плазмохимической полимеризации в тлеющем разряда. В кн.: Применение низкотемпературной плазмы в химии. — М.: Наука, 1981, с.53−59.
- Штеренберг A.M. Моделирование кинетики формирования дисперсной фазы в процессах плазмохимической полимеризации кремнийорганических соединений в тлеющем разряде // Вестн. Самар. Гос. Техн. Ун-та. Сер. физ.-мат. науки, Самара. 1996, № 4. — С.204−208.
- Brewer А.К., Westhaver J.W. //J. Phys. Cem. 1929, vol.35, p.883.
- Капцов H.A. Электрические явления в газах и вакууме. -М.: Изд-во техн. и теорет.лит., 1950. 835 с.
- Emeleus E.G. The forces acting on dust in positive columns. // Int. I. Electronics, 19S1, v.50, N 2, p. 109−117.
- Гильман А.Б. и др. О полимеризации некоторых полифторированных ароматических соединений в тлеющем разряде.//Высокомол. соед., 1982, Т.23А, № I, с.155−160.
- Гильман А.Б. и др. О полимеризации фторзамещенных производных бензола в тлеющем разряде. //Высокомол. соед., 1983, т.25А, № 5, С.1050−1055.
- K.Nakajima, A.T.Bell, M. Shen, M.Millard. Plasma polymerization of Tetrofluoroethylene. //J of Appl. Polyrn. Sei., 1979,23, p.2627−2637.
- Филатов B.H., Сысоев A.A. и др. Образование полимерной пленки297под действием ионной бомбардировки. // Химия высоких энергий, 1981, т. 15, № 5, с.474−476.
- Опарин В.Б. Свойства полимеров, полученных полимеризацией в плазме и возможности их применения в нефтяной отрасли// Известия Самарского научного центра РАН, сер. Проблемы нефти и газа, 2004, стр. 136 151.
- Королев Ю.Д., Месяц Г. А. Автоэмиссионные и взрывные процессы в газовом разряде. Новосибирск: Наука, 1982, с. 68.
- S. V. Vladimirov, N. F. Cramer, and P. V. Shevchenko/ Phys. Rev. E60, 7369(1999).
- S. V. Vladimirov and N. F. Cramer / Phys. Rev. E62, 2754 (2000).
- Опарин В.Б. Конвекция и коагуляция в тлеющем разряде в среде гексафторбензола// Известия Самарского научного центра РАН, том 6, № 1, 2004, стр. 119−128.
- S. V. Vladimirov and О. Ishihara /Phys. Plasmas 3, 444 (1996).
- К. N. Ostrikov, S. Kumar, and H. Sugai / J. Appl. Phys. 89, 5919 (2001).
- S. Hong, J. Berndt, and J. Winter, Proc. Third Intl. Conf. Dusty Plasmas (ICPDP-2002), Durban, South Africa, May 20−24,2002, С14.
- К. Takahashi and K. Tachibana / J. Appl. Phys. 89, 893 (2001).
- Опарин В.Б. Процессы переноса в тлеющем разряде химически активных газов// Вестник СамГТУ, сер. «Физико-математические науки», вып. 30,2004, стр.150 165.
- P. Roca i Cabarrocas / J. Non-Cryst. Solids, 266−269, 31 (2000).раз, 2,2,1.е.м28