Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Влияние внешних переменных электрических полей на свойства тлеющего разряда пониженного давления

Диссертация: Влияние внешних переменных электрических полей на свойства тлеющего разряда пониженного давления
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Газоразрядная плазма пониженного давления постепенно находит все более широкие технологические применения. Прежде всего, речь идет о разнообразных процессах обработки поверхностей, цель которых модифицирование поверхностных свойств материалов в широком смысле этого слова. Известны применения плазмохимических методов в технологии микроэлектроники, где плазменное воздействие используется для… Читать ещё >

Влияние внешних переменных электрических полей на свойства тлеющего разряда пониженного давления (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • FJIBA 1. ФИЗИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ В ТЛЕЮЩЕМ РАЗРЯДЕ И ИХ ВЛИЯНИЕ НА СВОЙСТВА ПОВЕРХНОСТИ ОБРАБАТЫВАЕМЫХ МАТЕРИАЛОВ. СОСТОЯНИЕ ВОПРОСА И ПОСТАНОВКА ЗАДАЧИ ИССЛЕДОВАНИЙ
    • 1. 1. Физические процессы в тлеющем разряде
      • 1. 1. 1. Структура тлеющего разряда
      • 1. 1. 2. Катодное падение потенциала
      • 1. 1. 3. Аномальный тлеющий разряд
      • 1. 1. 4. Общие подходы к описанию тлеющего разряда
  • ¦ <
    • 1. 1. 5. Переход от тлеющего разряда к дуговому
    • 1. 1. 6. Воздействие импульсов высокого напряжения на газоразрядный промежуток
    • 1. 2. Изменение свойств поверхности материалов под действием тлеющего разряда
    • 1. 2. 1. Очистка поверхности материалов в плазме тлеющего разряда
    • 1. 2. 2. Изменение структуры поверхностных слоев материалов под действием тлеющего разряда. Физико-химические процессы при ионном азотировании
    • 1. 3. Повышение эффективности процессов модификации поверхности материалов в плазме тлеющего разряда
    • 1. 4. Постановка задачи исследований
  • ГЛАВА 2. ВЛИЯНИЕ ПЕРЕМЕННОГО ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПОЛЯ НА УРАВНЕНИЯ ДВИЖЕНИЯ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ. ТЛЕЮЩИЙ РАЗРЯД
    • 2. 1. О силах, действующих на заряженную частицу в переменном неоднородном электрическом поле
    • 2. 2. Влияние переменного электрического поля на тлеющий разряд
    • 2. 3. Катодный слой тлеющего разряда (одномерный случай)
    • 2. 4. Действие импульсов напряжения на тлеющий разряд
    • 2. 5. Об особенностях ускорения положительных ионов в катодном слое
    • 2. 6. Энергия ионов и электронов в катодном слое
      • 2. 6. 1. Энергия положительных ионов на катоде
      • 2. 6. 2. Энергия электронов в катодном слое
      • 2. 6. 3. Обсуждение результатов
    • 2. 7. Выводы
  • ГЛАВА 3. ИССЛЕДОВАНИЕ ВОЗДЕЙСТВИЯ ИМПУЛЬСОВ ВЫСОКОГО НАПРЯЖЕНИЯ НА ГАЗОРАЗРЯДНЫЙ ПРОМЕЖУТОК И ВЛИЯНИЯ СИЛЬНЫХ ИМПУЛЬСНЫХ ПОЛЕЙ НА ОБРАБОТКУ МАТЕРИАЛОВ В ТЛЕЮЩЕМ РАЗРЯДЕ
    • 3. 1. Конструкция и электрическая схема генератора мощных высоковольтных импульсов
    • 3. 2. Исследование воздействия импульсов высокого напряжения на газоразрядный промежуток
    • 3. 3. Влияние сильных импульсных полей на процессы, протекающие на катоде в тлеющем разряде
      • 3. 3. 1. Активация поверхности полиэтилена
      • 3. 3. 2. Ионное азотирование стали
    • 3. 4. Выводы
  • ГЛАВА 4. МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССОВ ИОНИЗАЦИИ В
  • ПЛАЗМЕ ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА. П
    • 4. 2. Расчет характеристик тлеющего разряда
      • 4. 2. 1. Стационарный тлеющий разряд
      • 4. 2. 2. Импульсный разряд
    • 4. 3. Выводы

Газоразрядная плазма пониженного давления постепенно находит все более широкие технологические применения. Прежде всего, речь идет о разнообразных процессах обработки поверхностей, цель которых модифицирование поверхностных свойств материалов в широком смысле этого слова. Известны применения плазмохимических методов в технологии микроэлектроники, где плазменное воздействие используется для очистки кремниевых пластин, удаления фоторезиста, избирательного травления слоев оксидов и нитридов, осаждения таких слоев, выполняющих защитные и изолирующие функции. В металлообработке плазменные методы применяются для придания поверхности металлических изделий повышенной твердости, ч* о /—" и стоикости к истиранию, химическои устойчивости. С этой целью создаются тонкие поверхностные слои оксидов, нитридов, карбидов и других соединений. В последние два десятилетия плазменная обработка получила промышленное применение для обработки синтетических и природных полимерных материалов. Обработка полимерных пленок позволяет значительно улучшить их адгезионные свойства, что важно в процессах окраски, печатания, получения композиционных материалов. Такие же цели достигаются обработкой изделий из пластмасс в ряде отраслей промышленности, таких как автомобилестроение. Обработка тканей из природных материалов (хлопок, лен, шерсть, шелк), а таюке смесовых тканей и тканей из синтетических материалов позволяет значительно улучшить их гидрофильность, а тем самым улучшить характеристики процессов окраски, печатания, отбеливания. Плазменные методы позволяют исключить такие технологические процессы в отделочном производстве текстильной промышленности, которые используют экологически опасные реактивы (например, хлоридные методы обработки льняных и шерстяных тканей).

Нужно отметить, что рассмотренные выше многочисленные возможности технологических применений газоразрядной плазмы пониженного давления в промышленности используются гораздо меньше, чем они того заслуживают. Причина этого в конечном итоге в недостаточной изученности реагирующей плазмы. Несмотря на очень большой объем исследований процессов плазменного модифицирования поверхностей, как изготовление плазмохимических реакторов, так и оптимизация технологических процессов производится практически полностью на основе эмпирических данных. Не существует инженерных методов расчетов плазмохимических реакторов и технологических процессов. Сложность их создания в сложности самой системы — неравновесной химически реагирующей плазмы. Такая плазма является самосогласованной системой с «химической» обратной связью. Самосогласованность стационарной плазмы проявляется в том, что параметры всех зон газового разряда устанавливаются такими, чтобы удовлетворялись балансовые соотношения процессов с участием заряженных частиц, т. е. свойства как зоны плазмы, так и приэлектродных областей таковы, чтобы обеспечивалось прохождение требуемого тока разряда. Процессы, определяющие технологическую активность плазмы, в этом смысле оказываются вторичными. Эти процессы различаются в разных технологических системах. Однако можно выделить два класса таких систем. В таких случаях, как модифицирование полимерных материалов и обработка кремниевых пластин в технологии микроэлектроники, инициирующими процессы частицами являются образующиеся в объеме плазмы свободные атомы, радикалы, возбужденные молекулы, кванты УФ-излучения. В то же время модифицирование поверхностей металлов в очень существенной степени определяется ионной бомбардировкой, зависит от энергии бомбардирующих поверхность ионов и тем самым от величины катодного падения потенциала. Эффективность активационных процессов в объеме плазмы в свою очередь есть функция напряженности поля в зоне плазмы. Ни катодное падение потенциала, ни напряженность поля в плазме невозможно регулировать независимо от других параметров разряда, что существенно ограничивает возможности регулирования технологических процессов и достижения их высокой эффективности. Поиск решения этой проблемы возможен на пути комбинации стационарных разрядов с переменными гармоническими или импульсными полями, накладываемыми на зону разряда от независимых внешних источников. Еще в 30-х годах были выполнены работы, в которых доказывалось возрастание скорости протекающих в объеме плазмы процессов при наложении на постоянное поле высокочастотного. Известная идея наложения импульсных полей заключается в том, что если длительность импульсов меньше времени, необходимого для установления стационарного состояния плазмы, то напряженность поля в импульсе может быть много больше напряженности поля в стационарной плазме, что дает потенциальную возможность ускорения процессов, инициируемых электронными ударами. Следует, однако, указать, что ни наложение высокочастотных полей, ни использование импульсных напряжений не было исследовано ни теоретически, ни экспериментально. При этом важно то, что стационарное поле в плазме, как правило, является пространственно неоднородным, причем не только в катодной области, но и в положительном столбе. Это ставит задачу исследований движения заряженных частиц в плазме при одновременном воздействии неоднородных постоянного и переменного полей.

Целью диссертационной работы явилось исследование влияния наложения внешнего переменного электрического поля на свойства тлеющего разряда низкого давления.

Научная новизна работы заключается в следующем:

— теоретически исследовано движение заряженных частиц в плазме в условиях одновременного действия неоднородных постоянного и переменного гармонического полей, проанализированы условия возникновения и величина дополнительных сил, действующих на заряженные частицы в этих условиях;

— для случая движения положительных ионов в катодной области тлеющего разряда найдено влияние наложения гармонического поля на энергию ионов, бомбардирующих катод и ее зависимость от частоты внешнего поля;

— экспериментально исследовано влияние величины напряженности внешнего импульсного электрического поля на энергию ионов, бомбардирующих катод тлеющего разряда;

— развита модель тлеющего разряда сферической геометрии, позволяющая рассчитывать распределение потенциала в стационарных условиях и динамику его изменения при наложении внешних переменных полей;

— экспериментально показана возможность ускорения процессов модифицирования поверхностей полимерных материалов и металлов путем наложения импульсного напряжения на зону стационарного тлеющего разряда.

Практическая ценность работы состоит в использовании разработанной методики реализации путей управления энергией ионов при модификации поверхности материалов в плазме тлеющего разряда. Полученные результаты нашли применения: в разработке способов обработки поверхностей материалов, позволяющих повысить интенсивность процессов и степень модифицирования поверхности полимерных материалов и металлов путем наложения внешних импульсных полей на стационарный тлеющий разряд.

Достоверность и обоснованность результатов обеспечена использованием современной экспериментальной техники, методов математической физики, математического моделирования ионизационных процессов с использованием вычислительной техники.

Постановка настоящего исследования была предусмотрена планами НИР ИГЭУ согласно Федеральной целевой программе «Интеграция» по проекту «Развитие совместного учебно-научного центра Ивановского государственного энергетического университета и Института химии растворов РАН (1998;1999 г. г.)».

По теме диссертации опубликовано 19 статей и тезисов докладов на Международных и Всероссийских конференциях и семинарах.

Г ДВА 1. ФИЗИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ В ТЛЕЮЩЕМ РАЗРЯДЕ И ИХ ВЛИЯНИЕ НА СВОЙСТВА ПОВЕРХНОСТИ ОБРАБАТЫВАЕМЫХ МАТЕРИАЛОВ. СОСТОЯНИЕ ВОПРОСА И ПОСТАНОВКА ЗАДАЧИ.

ИССЛЕДОВАНИЙ.

4.3. Выводы.

1. На основе упрощенных уравнений баланса ионов и электронов была построена одномерная математическая модель процессов ионизации в разряде, которая позволяет производить — численные оценки параметров разряда в зависимости от внешних условий (напряжение на электродах, давление и вид газа и др.).

2. Для стационарного тлеющего разряда были рассчитаны распределения напряженности, падения потенциала, концентрации ионов и электронов, энергии ионов вдоль оси разрядного промежутка. Характер расчетных кривых качественно совпадает с экспериментальными кривыми (напр. рис. 1.1). Количественно, рассчитанные концентрации электронов и ионов согласуются с литературными данными. Также произведено сравнение расчетной и экспериментальной плотностей тока разряда. В диапазоне напряжений 1 — 2 кВ расчет хорошо согласуется с экспериментом. При увеличении напряжения расчетное значение плотности тока оказывается несколько завышенным.

3. Представленная модель позволяет рассматривать развитие ионизационных процессов во времени. Это дает возможность численно исследовать воздействие различных форм напряжения на процессы ионизации в разрядной камере. Импульс напряжения задавался функцией Гаусса, которая хорошо повторяет форму импульса в эксперименте. Рассчитанная при этом плотность тока хорошо согласуется с экспериментом, однако время действия ионизационных процессов оказывается в расчете несколько меньше. Также были проведены оценки энергии и концентрации ионов на катоде в течение действия импульса.

4. Сравнение расчетных значений параметров разряда при разных значениях напряжений на электродах газоразрядного промежутка (см. таблицу 4.1) показывает, что средняя энергия и концентрация ионов у катода, а также плотность тока разряда значительно выше в случае импульсного воздействия, поскольку подаваемое напряжение может быть значительно выше.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

.

В работе исследовалось влияние внешних переменных электрических полей на свойства тлеющего разряда.

Теоретически исследовано движение заряженных частиц в плазме при совместном действии неоднородных постоянного, а также синусоидального и импульсного и переменных полей. Если на стационарное неоднородное поле тлеющего разряда наложено внешнее осциллирующее поле, то на заряженную частицу будет действовать дополнительная сила. В приближении отдельных частиц получено выражение для этой силы в общем виде (2.2.9). В частном случае, когда стационарное поле однородно, выражение (2.2.9) переходит в известное выражение для силы высокочастотного давления.

Нами исследован случай, когда амплитуда внешнего поля постоянна, а стационарное поле неоднородно (катодный слой тлеющего разряда). В этом случае (2.2.9) переходит в (2.7.2). Анализ этого выражения показывает, что каждый его член ускоряет положительные ионы катодного слоя и замедляет электроны. Если предположить, что поле в катодном слое меняется по линейному закону (2.3.6), то выражение для дополнительной силы примет вид (2.3.7) в предположении, что частота внешнего поля много больше частоты столкновений частиц. Влияние внешнего электрического поля на поле плазмы, определяемое дополнительной силой (2.7.2) зависит как от частоты и амплитуды внешнего поля, так и от неоднородности стационарного поля плазмы. Получены зависимости времени пролета положительным ионом катодного слоя и относительного изменения его энергии от частоты внешнего поля (рис. 2, 3). Увеличение энергии ионов наблюдается при частотах, близких к критической частоте (при которой метод усреднения еще корректен). Эта частота, согласно (2.6.19) равна 10 1/сек.

Используемый нами метод позволяет рассматривать воздействие на тлеющий разряд периодического внешнего поля любой формы, если считать, что на расстояниях, проходимых заряженной частицей за период, амплитуда поля меняется незначительно. Так, получено выражение для дополнительной силы, когда на неоднородное поле наложены импульсы напряжения прямоугольной формы, которое в общем случае имеет вид (2.4.13).

Экспериментально исследовано воздействие импульсов высокого напряжения на газоразрядный промежуток при низких давлениях (0,01 — 1 Торр). Показано, что амплитуда импульсов напряжения с длительностью несколько микросекунд, еще не приводящая к переходу импульсного разряда в искровую форму, в несколько раз больше длительно воздействующего постоянного напряжения, выдерживаемого разрядным промежутком. Плотности тока импульсного разряда также оказываются значительно выше. На основе экспериментальных данных сделаны выводы о возможности значительного увеличения энергии положительных ионов, бомбардирующих катод, и увеличения плотности ионного потока в импульсном объемном разряде по сравнению со стационарным тлеющем разрядом. Исследовано влияние частоты следования импульсов на процессы ионизации в разрядном промежутке. При определенных частотах (в зависимости от давления) начинает сказываться остаточная ионизация, облегчающая условия развития разряда в следующем импульсе. На основе полученных осциллограмм можно делать выводы о временах полной релаксации плазмы тлеющего разряда.

Оценки распределения параметров разряда, включая энергию и концентрацию заряженных частиц, а также их зависимость от времени позволила рассмотреть математическая модель ионизационных процессов в разрядном промежутке. В основу модели были положены упрощенные уравнения баланса положительных ионов и электронов. Были рассчитаны распределения напряженности, падения напряжения, концентрации и средней энергии электронов и ионов, а также других параметров по оси разрядного промежутка для стационарного тлеющего разряда. Значения расчетной плотности тока разряда находятся в хорошем согласии с экспериментальной.

Возможность модели рассматривать развитие ионизационных процессов во времени позволило моделировать воздействие на газоразрядный промежуток импульсов напряжения. Импульс задавался функцией Гаусса, которая хорошо повторяет форму импульса, используемого в эксперименте. Расчет показал, что значения средней энергии и концентрации ионов на катоде в импульсном разряде с амплитудой ЮкВ значительно выше, чем в стационарном тлеющем (1 кВ) при одинаковых давлениях и других условиях (табл. 4.1).

Сравнение различных экспериментальных данных дало основание предположить, что при наложении импульсов напряжения на тлеющий разряд постоянного тока меняя амплитуду импульсов и тем самым меняя энергию и концентрацию ионов на катоде, можно изменять кинетику процессов модифицирования поверхности обрабатываемых материалов.

С этой целью были проведены исследования процессов модификации поверхности полиэтилена, а также процессов ионного азотирования инструментальной стали Р6М5 в разных типах разряда. Измерения краевого угла смачивания поверхности обработанного полиэтилена каплей дистиллированной воды показали, что скорость процессов модификации несколько возрастает, если на стационарный тлеющий разряд в процессе обработки подавать импульсы высокого напряжения. Показано, в аналогичном «комбинированном» разряде процесс ионного азотирования также оказывается эффективнее. Измерения микротвердости образцов, обработанных в таком разряде, по глубине диффузионной зоны показали ее увеличение на 15 — 20% по сравнению с глубиной диффузионной зоны образцов, обработанных в обычном стационарном тлеющем разряде. Отмечено также увеличение микротвердости вблизи поверхности образца.

Полученные в работе результаты дают возможность предполагать, что при воздействии внешних переменных электрических полей на плазму тлеющего разряда можно регулировать кинетику физико-химических процессов не только на катоде, но и в объеме тлеющего разряда.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Ю. П. Физика газового разряда. М.: Наука, 1987. — 592 с.
  2. Н. А. Физические явления в вакууме и разреженных газах. М.- JL: ОНТИ, 1937.-440 с.
  3. А., Штенбек М. Физика и техника электрического разряда в газах. Т. 1. Основные законы: Пер. с нем. / Под ред. Капцова Н. А. М.- JL: ОНТИ, 1935.-251 с.
  4. А., Штенбек М. Физика и техника электрического разряда в газах. Т. 2. Свойства газовых разрядов. Технические применения: Пер. с нем. / Под ред. Капцова Н. А.-М.- Л.: ОНТИ, 1936.-382 с.
  5. С. Элементарные процессы в плазме газового разряда: Пер. с англ. / Под ред. Франк-Каменецкого Д. А.-М.: Атомиздат, 1961. 323 с.
  6. А. Ионизованные газы: Пер. с англ. / Под ред. Иоффе М. С. М., Физматгиз, 1959. — 332 с.
  7. В. П., Ковалев А. С., Рахимов А. Т. Физические явления в газоразрядной плазме. М.: Наука, 1987. — 160 с.
  8. А. М. Введение в теорию газового разряда: Пер. с англ. / Под ред. Иванчика И. И. М.: Атомиздат, 1980. — 182 с.
  9. И. Л., Колтунова Л. Н. Защитные вакуумные покрытия на стали. М.: Машиностроение, 1971. -280 с.
  10. Р. М., Бондаренко А. В. Исследование энергетического спектра положительных ионов, попадающих на катод в аномальном тлеющем разряде // Известия ВУЗов. Радиофизика. 1965. — Т. 8. — № 4. — С. 784−793.
  11. Е. Т., Грошев И. Н. Исследование энергетического спектра кана-ловых лучей аномального тлеющего разряда // Укр. физ. журн. 1962. — Т. 7. -№ 5. — С. 556−559.
  12. В.И. Численный расчет энергетического спектра тяжелых ионов в катодном слое тлеющего разряда в смеси газов // ЖТФ. 1998. -Т. 68. — № 6. -С. 56−59.
  13. Тлеющий разряд в эксилампах низкого давления / А. Н. Панченко, А. С. По-лякевич, Э. А. Соснин и др.// Известия вузов. Физика. 1999. — № 6. — С. 5066.
  14. Mayer P., Wunner G., Schmitt W., Ruder H. Unified particle simulation technique for the plasma bulk and the cathode sheath of a dc glow discharge // J. Appl. Phys. 1995. — V. 77. — № 3. — P. 992−1000.
  15. Молекулярная физика неравновесных систем: неравновесная кинетика и термодинамика процессов в низкотемпературной плазме / В. В. Зайцев, А. А. Зайцев, А. В. Машков и др. Иваново: Иван. гос. ун-т, 1999. — 106 с.
  16. Г. А., Проскуровский Д. И. Импульсный электрический разряд в вакууме. Новосибирск: Наука, 1984. — 256 с.
  17. И. Н. Электроизоляция и разряд в вакууме. М.: Атомиздат, 1972. -304 с.
  18. Р. Вакуумная изоляция установок высокого напряжения: Пер. с англ./ Под ред. Белкина Г. С. ~ М.: Энергоатомиздат, 1985. 192 с.
  19. В. А. Механизмы образования предплазмы при вакуумном пробое // Ионные инжекторы и плазменные ускорители. М.: Энергоатомиздат, 1−990. — 256 с.
  20. Ю. Д., Месяц Г. А. Физика импульсного пробоя газов. М.: Наука, 1991.-224 с.
  21. Мик Д., Крэгс Д. Электрический пробой в газах: Пер с англ./ Под ред. Ко-мелькова В. С. М.: Изд. иностр. лит., 1960. — 605 с.
  22. Г. Электронные лавины и пробой в газах: Пер с англ./ Под ред. Ко-мелькова В. С. М.: Мир, 1968. — 390 с.
  23. А. И., Литовченко Н. А. Влияние ионной бомбардировки в аргоне на структуру тонких пленок алюминия // Электронная обработка материалов. 1987. -Т. 133. -№ 1. — С. 39−42.
  24. . С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. -М.: Энергоатомиздат, 1989. 328 с.
  25. . С., Киреев В. Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. М.: Энергоатомиздат, 1987. — 264 с.
  26. В. А., Лягинсков В. В., Ройх И. Л. Влияние параметров тлеющего разряда на эффективность ионной бомбардировки и очистки поверхностей // Физика и химия обработки материалов. -1968. № 5. — С. 28−30.
  27. Применение тлеющего разряда для очистки стали перед нанесением вакуумных покрытий / И. Л. Ройх, Д. М. Рафалович, А. А. Модзелевский и др. // Электронная обработка материалов. 1972. — Т. 43. — № 1. — С. 59−61.
  28. И. Л., Генгринович В. А., Лягинсков В. В. Применение ионной бомбардировки для очистки поверхности металлов от органических загрязнений // Электронная обработка материалов. 1972. — Т. 46. — № 4. — С. 6−8.
  29. Влияние обработки стали тлеющим разрядом на адгезию свинцово-цинковых и свинцово-кадмиевых покрытий / В. Г. Задорожный, Л. М. Снит-ковская, А. А. Модзелевский и др. // Электронная обработка материалов. -1975. Т. 64. — № 4. — С. 47−48.
  30. А. И. Воздействие ионной бомбардировки на поверхность стали // Электронная обработка материалов. 1975. — Т. 65. — № 5. — С. 55−57.
  31. А. И., Приббе С. А. Влияние параметров тлеющего разряда на адгезию вакуумных медно-цинковых покрытий // Электронная обработка материалов. 1976. — Т. 67. — № 1. — С. 27−28.
  32. И. Л., Жаров В. А., Горелова О. Н. Особенности адгезии вакуумно-осажленных слоев на металлических поверхностях, обработанных тлеющим разрядом // Электронная обработка материалов. 1977. — Т. 74. — № 2. — С. 70−72.
  33. О. В., Костржицкий А. И., Приббе С. А. Влияние параметров тлеющего разряда на скорость распыления стальной подложки // Электронная обработка материалов. 1979. — Т. 87. — № 3. — С. 42−45.
  34. Очистка поверхности металлов в плазме тлеющего разряда / А. И. Максимов, Г. И. Мухина, А. А. Никифоров и др. // Электронная обработка материалов. 1985. — Т. 122. — № 2. — С. 37−39.
  35. И. Л., Колтунова Л. Н., Федосов С. Н. Нанесение защитных покрытий в вакууме. -М.: Машиностроение, 1976. 368 с.
  36. Улучшение адгезионных свойств полиэтилентерефталата путем обработки в тлеющем разряде / А. П. Эйпчис, И. И. Ставницер, В. В. Будкевич др. // Электронная обработка материалов. 1970. — Т. 35. — № 5. — С. 38−41.
  37. И. Л., Коваленко В. Б., Зайцева В. П. О влиянии параметров тлеющего разряда на эффективность очистки поверхности полимеров и адгезию медных вакуумных покрытий // Электронная обработка материалов. 1974. — Т. 58.-№ 4.-С. 42−44.
  38. М. А., Сумароков В. Н. Активация поверхности полиэтиленовой пленки в плазме газового разряда // Электронная обработка материалов. -1974. Т. 60. — № 6. — С. 53−56.
  39. И. Л., Жаров В. А., Горелова О. Н. Особенности адгезии вакуумно-осажленных слоев к стеклу и ситаллу, обработанных тлеющим разрядом // Электронная обработка материалов. 1976. — Т. 71. — № 5. — С. 31−34.
  40. М. А., Апсит А. Р. Исследование процесса поверхностной активации полимерных материалов в тлеющем разряде в атмосфере инертных газов и азота // Электронная обработка материалов. 1977. — Т. 76. — № 4. — С. 5658.
  41. А. И., Серова Н. Ю., Титов В. А. Гониометрические исследования обработки поверхностей различных материалов во фторосодержащей плазме // Электронная обработка материалов. 1985. — Т. 123. — № 3. — С. 36−38.
  42. В. А., Соловьева О. Н. Особенности воздействия тлеющего разряда на поверхность полимеров // Электронная обработка материалов. 1986. — Т. 131.-№ 5,-С. 49−51.
  43. Ч. М., Горин Ю. В., Кулахметов Ф. X. Модификация поверхностного слоя композиционных материалов на основе волокон в тлеющем разряде // Электронная обработка материалов. 1991. — Т. 159. — № 3. — С. 22−25.
  44. С. С., Гавриленко И. Б., Удалов Ю. П. Использование эффекта полого катода для подготовки диэлектрических подложек перед напылением // Физика и химия обработки материалов. 1996. — № 2. — С. 81−84.
  45. Ионная химико-термическая обработка сплавов / Б. Н. Арзамасов, А. Г. Бра-тухин, Ю. С. Елисеев и др. М.: Изд-во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 1999. — 400 с.
  46. Ю. М., Коган Я. Д., Шапошников В. Н. Состав насыщающей атмосферы и кинетика формирования диффузионных слоев при азотировании в тлеющем разряде // Электронная обработка материалов. 1978. — Т. 83. — № 5.-С. 9−12.
  47. Ю. М., Коган Я. Д., Солодкин Г. А. Исследование кинетики процесса ионного азотирования конструкционных сталей // Электронная обработка материалов. 1979. — Т. 88. — № 4. — С. 61−64.
  48. Повышение коррозионной стойкости и износостойкости поршневых колец азотированием в тлеющем разряде / А. Д. Соколов, Ю. А. Марцин, С. Г. Елисеева и др. // Электронная обработка материалов. 1981. — Т. 100. — № 4. -С. 50−54.
  49. В. С., Солодкин Г. А., Шевчук С. А. Износостойкость сталей после химико-термической обработки и ионной нитроцементации с непосредственной закалкой // Металловедение и термическая обработка металлов. -1990.- № 7.-С. 24−27.
  50. Дефекты структуры и электрохимические свойства нитридных покрытий / П. В. Назаренко, А. Г. Моляр, И. Е. Полищук и др. // Металловедение и термическая обработка металлов. 1990. — № 4. — С. 61−64.
  51. А. И., Лемешев Н. М. Ионное азотирование стали Х12Ф1 // Металловедение и термическая обработка металлов. 1990. — № 12. — С. 15−17.
  52. Ю. Е., Лемешев Н. М., Слосман А. И. Эффект полого катода при азотировании в тлеющем разряде // Электронная обработка материалов. -1990.-Т. 156.-№ 6.-С. 53−56.
  53. А. Б. Ионное азотирование деталей из аустенитных сталей // Металловедение и термическая обработка металлов. 1991. — № 1. — С.9−10.
  54. Влияние предварительной термической обработки на формирование азотированного слоя и свойстза стали 30ХГСА / В. Н. Кеткин, В. Г. Сорокин, Т. А. Петрова и др. // Металловедение и термическая обработка металлов. 1991.- № 2. С. 29−30.
  55. Ю. М. Высокотемпературное азотирование // Металловедение и термическая обработка металлов. 1991. — № 2. — С. 25−29.
  56. Ю. М. Оксиазотирование // Металловедение и термическая обработка металлов. 1994. — № 9. — С. 2−5.
  57. Г. В., Эпик А. П. Тугоплавкие покрытия. М.: Металлургия, 1973.-396 с.
  58. К. А., Королев Ю. Д. Импульсный объемный разряд в коротких межэлектродных промежутках как источник ускоренных электронов // ЖТФ.- 1990. Т. 60. — № 9. — С. 138−142.
  59. Wilhelmi Н., Snuke S., Rohl Н. S. Nitriren mit gepulster Glimentlandung // Har-terei-Tech. Mitt. 1982. — B. 37. — № 6. — S. 263−269.
  60. Grim R., Exner W., Zeller R. Puls-Plasma-Wiimebehandlung zur Oberflaschen und Randschichtbehandeln I I Harterei-Tech. Mitt. 1987. — B. 42. — № 1. — S. 4249.
  61. Grim R. Anlage zum Plasmanitriren und Plasmacarburieren // Elektrowame Int. -1987. B. 45. — № 3−4. — S. B178-B172.
  62. Grim R. Pulsed DC-glow discharge for plasma heat treatment // Int. Seminar on Plasma Heat Treat., Sci. And Technol. 1987. — P. 413−423.
  63. В. В. Ионная имплантация из плазмы // Физика и химия обработки материалов. 1991. — № 2. — С. 91−96.
  64. Conrad J. R., Forest С. Plasma source ion implantation // IEEE Conf. Record-Abstract. N. Y.:IEEE 1986. — P. 28−29. P. A. 1987: 26 547.
  65. Conrad J. R., Castagna T. Plasma source ion implantation // Bull. Amer. Phys. Soc.- 1986.-V.31.-P. 1479.
  66. Sheath physics and materials science results from recent plasma source ion implantation experiment / J. R. Conrad, J. L. Radtke, R. A. Dodd et. al. // IEEE Conf. Record-Abstract. N. Y.:IEEE 1987. — P. 124. P. A. 1988: 70 463.
  67. Plasma source ion implantation technique for surface modification of materials / J. R. Conrad, J. L. Radtke, R. A. Dodd et. al. // J. Appl. Phys. -1987. V. 62. — № 11.-P. 4591−4596.
  68. Ионная имплантация: Сб. ст. / Под ред. Хирвонена Дж. К.: Пер. с англ. / Под ред. Елютина О. П. М.: Металлургия, 1985.-391 с.
  69. Модифицирование и легирование поверхности лазерными, ионными и электронными пучками / Под ред. Поута Дж. М. и др.: Пер с англ. / Под ред. Уг-лова А. А.-М.: Машиностроение, 1987.-424 с.
  70. Destefani J. D. Ion implantation update // Adv. Mater. Proc. 1988. — V. 134. -№ 4. P. 39−43.
  71. E. И. Влияние низкотемпературной имплантации азота на субструктуру твердых сплавов // Физика и химия обработки материалов. -1990. -№ 3. С. 25−27.
  72. И. Г., Цыганов И. А., Шаршаков И. М. К вопросу об эффекте дальнодействия при ионной имплантации // Физика и химия обработки материалов. -1996.-№ 2.-С. 5−8.
  73. В. И., Погребняк А. Д. Прикладные аспекты высокодозовой им-лантации // Физика и химия обработки материалов. -1997. № 6. — С. 5−15.
  74. В. Ф., Горин Ю. Н. Процессы и установки электронно-ионной технологии.-М.: Высш. шк., 1988. -191 с.
  75. Nitrogen implantation of AISI 304 stainless steel with a coaxial plasma gun / J. N. Feudeas, E. C. Llonch, С. O. de Gonsales et. al. // J. Appl. Phys. 1988. — V. 64. -№ 5.-P. 2648−3652.
  76. Физика и технология источников ионов / Под ред. Брауна Я.: Пер. с англ. / Под ред. Машковой Е. С. М.: Мир, 1988. — 496 с.
  77. Roth J. R. Theory of plasma ion implantation for hardening metals // IEEE Int. Conf. on Plasma Sci. N. Y.: IEEE 1987. — P. 123−124. P. A. 1988: 70 505.
  78. Conrad J. R. Method and apparatus for plasma source ion implantation // Патент США № 4 764 394.- 1988.
  79. Conrad J. R. Sheath thickness and potential profiles of ion-matrix sheaths for cylindrical and spherical electrodes // J. Appl. Phys. 1987. — V. 62. — № 3. — P. 777−779.
  80. Stable glow plasma at atmospheric pressure / S. Kanazama, M. Kogoma, T. Moriwaki et. al. // J. Phys. D. 1988. — V. 21. — № 5. — P. 835−840.
  81. High nitrogen atom yeld dounsteem of an atmospheric pressure flowing / A. Ri-card, A. Besner, J. Hubert et. al. // J. Phys. B. 1988. — V. 21. — № 8. — P. L579−583.
  82. Plasma immersion ion implantation using plasmas generated by radio frequency techniques / J. Tendys, I. J. Donnely, M. J. Kenny et. al. // Appl. Phys. Lett. -1988. V. 53. — №> 22. — P. 2143−2145.
  83. А. В., Миллер М. А. О потенциальных ямах для заряженных частиц в высокочастотном электромагнитном поле // ЖЭТФ. 1958. — Т. 34. — N 2. -С. 242−243.
  84. . М., Серов А. В. Об особенностях движения заряженных нерелятивистских частиц в переменном поле // УФН. 1994. — Т. 164. — N 5. -С. 545−549.
  85. А. М., Солунин М. А. О силах, действующих на заряженную частицу в переменном неоднородном электрическом поле // Высоковольтные техника и электротехнология: Межвуз. сб. науч. тр. Выпуск 2./ Иван. гос. энерг. ун-т. Иваново, 1999. — С. 80−82.
  86. А. М., Солунин М. А. О поступательном движении заряженных частиц в переменном неоднородном электрическом поле: Тез. докл. науч. семинара по теоретической электротехнике. Иваново: Иван. гос. энерг. унт, 2000.-С. 11.
  87. А. М., Солунин М. А. Об усреднении уравнений движения заряженной частицы в переменном неоднородном электрическом поле // Известия вузов. Физика (в печати).
  88. В. Ф., Солунин А. М., Солунин М. А. О влиянии переменного электрического поля на тлеющий разряд: Тез. докл. II Междунар. науч.-техн. конф. «Проблемы и прикладные вопросы физики». Саранск: Мордов. гос. пед. ин-т, 1999.-С. 12.
  89. А. М., Солунин М. А. О влиянии переменного электрического поля на неоднородную плазму тлеющего разряда: Матер. II Всероссийской науч. конф. «Молекулярная физика неравновесных систем». Иваново: Иван. гос. ун-т, 2000.-С. 101−103.
  90. В. Ф., Солунин А. М., Солунин М. А. Об ускорении ионов в при-катодном слое тлеющего разряда // Высоковольтные техника и электротехнология: Межвуз. сб. науч. тр. Выпуск 2./ Иван. гос. энерг. ун-т. Иваново, 1999.-С. 77−79.
  91. Особенности ускорения ионов в прикатодном слое тлеющего разряда / В. Ф. Воробьев, А. М. Солунин, М. А. Солунин, А. С. Помельникова // Известия вузов. Черная металлургия. 2000. — № 6. — С. 203−205.
  92. А. М., Солунин М. А. Об ускорении ионов катодного слоя тлеющего разряда высокочастотным электрическим полем: Матер. II Всероссийской науч. конф. «Молекулярная физика неравновесных систем». Иваново: Иван. гос. ун-т, 2000. — С. 96−100.
  93. А. И. Теория неравновесных процессов, технологии электронных приборов (Учебное пособие). Иваново: Издание Иван, хим.-тех. ин-та, 1984.-306 с.
  94. Ф. Чен. Введение в физику плазмы: Пер. с англ. / Под ред. Шевченко В. И. -М.: Мир, 1987.-398 с.
  95. Н. М., Исаев Г. П., Рябчиков А. И. Получение и исследование частотно-импульсных высокоинтенсивных ионных пучков на основе вакуумной дуги // Изв. вузов. Физика. 1989. -N 8. — С. 68−74.
  96. Получение широкоапертурных пучков ионов металлов / А. И. Аксенов, С. П. Бугаев, В. А. Емельянов и др. // Приборы и техника эксперимента. 1987. -N3.-C. 139−142.
  97. . Силовая электроника: приборы, применение, управление. Справочное пособие: Пер. с англ. Попова В. В. М.: Энергоатомиздат, 1993. -240 с.
  98. Накопители энергии / Д. А. Бут, Б. JI. Алиевский, С. Р. Мизюрин, П. В. Васюкевич- под ред. проф. Д. А. Бута. -М.: Энергоатомиздат, 1991.-400 с.
  99. В. Ф., Солунин М. А. Генератор мощных высоковольтных импульсов для плазменных технологий // Высоковольтные техника и электротехнология: Межвуз. сб. науч. тр. Выпуск 2./ Иван. гос. энерг. ун-т. Иваново, 1999.-С. 86−88.
  100. С. С. Проектирование импульсных трансформаторов. JL: Энергоатомиздат, 1991. -208 с.
  101. Н. М. Трансформаторы и дроссели в импульсных устройствах. -М.: Радио и связь, 1986. -112 с.
  102. А. Измерения на высоком напряжении. Измерительные приборы и способы измерения: Пер. с нем. Кужекина И. П. М.: Энергоатомиздат, 1983.-264 с.
  103. М. А., Воробьев В. Ф. Воздействие импульсов высокого напряжения на плазму тлеющего разряда: Матер. I Всероссийской науч. конф. «Молекулярная физика неравновесных систем». Иваново: Иван. гос. ун-т, 1999.-С. 33−35.
  104. В. Ф., Кабанов О. А., Солунин М. А. Расчет энергии ионов, бомбардирующих поверхность катода в тлеющем разряде // Высоковольтные техника и электротехнология: Межвуз. сб. науч. тр. Выпуск 2./ Иван. гос. энерг. ун-т. Иваново, 1999. — С. 83−85.
  105. А. Н., Мудров Е. В. Методы локального измерения краевых углов смачивания // Препринт ИМ АН СССР. Ярославль, 1989. — 30 с.
  106. А. Д. Адгезия жидкости и смачивание. М.: Химия, 1974. — 416 с.
  107. Мак-Даниель И. Процессы столкновений в ионизованных газах: Пер. с англ./ Под ред. Арцимовича Л. А. М.: Мир, 1967. — 832 с.
  108. Мак Даниель И., Мэзон Э. Подвижность и диффузия ионов в газах: Пер с англ./ Под ред. Смирнова Б. М. М.: Мир, 1976. — 422 с.
  109. В. А. Численные методы. М.: Наука. Гл. ред. физ.-мат. лит., 1987.-248 с.
  110. В.В. Турбо Паскаль. М.: «МВТУ-ФЕСТО ДИДАКТИК», 1992.-304 с.
  111. В.В. Библиотека Turbo Vision. М.: «МВТУ-ФЕСТО ДИДАКТИК», 1993.-429 с.
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!