Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Принципы размещении тензорезисторов на мембранах полу-проводниковых и нтегральных тензопреобразователей давлении (ИТПД)

РефератПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Анализ значений тензочувствительности, представленных в таблице 9 показывает, что максимальной чувствительностью обладают тензорезисторы, расположенные на прямоугольной мембране. Однако видно, что бесконечно увеличивать соотношения сторон не имеет смысла, так как выигрыш в чувствительности при С > 3 минимален и технологически изготовление таких тензопреобразователей довольно затруднено. Среди… Читать ещё >

Принципы размещении тензорезисторов на мембранах полу-проводниковых и нтегральных тензопреобразователей давлении (ИТПД) (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Среди ИТПД наиболее распространенными чувствительными элементами являются кристаллы кремния n-типа с круглой или прямоугольной мембраной (рис. 29, 30), поверхность которых ориентирована в кристаллографической плоскости (100), а стороны (для прямоугольной мембраны) — вдоль взаимно перпендикулярных направлений семейства, на которых расположены тензорсзисторы p-типа проводимости.

Рассмотрим тензопреобразователь с круглой мембраной [6]. Для определения местоположения тензорезистора с круглой мембраной пользуются полярной системой координат (рис.29) с координатами г и 0. Угол 0 отсчитывается от полярной оси X системы координат, совмещенной с кристаллографическим направлением. Тензорезистор расположен на расстоянии V от центра мембраны. Известно, что радиальное су, и тангенциальное а, напряжения в этой точке можно рассчитать по формулам.

Принципы размещении тензорезисторов на мембранах полу-проводниковых и нтегральных тензопреобразователей давлении (ИТПД).
Принципы размещении тензорезисторов на мембранах полу-проводниковых и нтегральных тензопреобразователей давлении (ИТПД).

где рдавление, прилагаемое к ИТПД; Л-толщина мембраны; а — радиус мембраны; V — коэффициент Пуассона.

Технологические этапы изготовления интегральных тензопреобразователей.
Рис.28. Технологические этапы изготовления интегральных тензопреобразователей: I - кремниевая пластина; 2 - мембрана; 3 - тензорезисторы; 4 - канавки для разделения на отдельные чипы.

Рис. 28. Технологические этапы изготовления интегральных тензопреобразователей: I — кремниевая пластина; 2 — мембрана; 3 — тензорезисторы; 4 — канавки для разделения на отдельные чипы.

Определение местоположения точечного тснзорсзистора на круглой мембране.

Рис. 29. Определение местоположения точечного тснзорсзистора на круглой мембране.

Если материал мембраны изотропный, то радиальное и тангенциальное напряжения на поверхности мембраны не зависят от угла 0 (рис.29). В этом случае напряжения определяются только расстоянием Г от центра мембраны.

С учетом анизотропии механических свойств кремниевых упругих элементов относительное изменение сопротивления тензорезистора выражается формулами:

Принципы размещении тензорезисторов на мембранах полу-проводниковых и нтегральных тензопреобразователей давлении (ИТПД).

где cp — угол между направлением тока в тензорезисторе и направлением.

[110] на поверхности мембраны; <�р = е + у; пчч — главный пьезорезистивный коэффициент.

Распределение радиальной G,. и тангенциальной <�т, составляющих напряжений, возникающих в круглой мембране, было рассчитано в [6] и приведено на рис. 29, откуда видно, что максимальной тснзочувствитсльностыо будут обладать тензорезисторы, расположенные вдоль периметра круглой мембраны.

Если принять, что значения тензочувствительности тензорезистора выражается формулой.

Принципы размещении тензорезисторов на мембранах полу-проводниковых и нтегральных тензопреобразователей давлении (ИТПД).

то тогда тензочувствительность р-тензорезисторов на круглой мембране будет выражаться формулой.

Принципы размещении тензорезисторов на мембранах полу-проводниковых и нтегральных тензопреобразователей давлении (ИТПД).

Рассмотрим расположение р-тензорезисторов на прямоугольной мембране с размерами сторон 2а и 2Ь (рис.30). Относительное изменение сопротивления тензорезистора б также выражается формулой (74), однако выражения для ах и у имеют более сложную зависимость, чем для круглой мембраны. Зависимость тензочувствительности тензорезистора будет иметь следующий вид [7]:

Принципы размещении тензорезисторов на мембранах полу-проводниковых и нтегральных тензопреобразователей давлении (ИТПД).

— отношение длин сторон мембраны;

Sj. — максимальное значение где г = — ^ а

чувствительности тензорезистора в середине боковой стороны квадратной (я = Ь) мембраны. При этом В кристаллографическом направлении [110], с которым совпадают направления осей координат (для плоскости (100)), упругие постоянные кремния принимают следующие значения:

Е=1.69 210″ Н/м2; G=0.50 910″ Н/м2; v=0.063.

Для этих значений.

Принципы размещении тензорезисторов на мембранах полу-проводниковых и нтегральных тензопреобразователей давлении (ИТПД).

Если разделить обе части уравнения (78) на, то получим выражения для нормированной чувствительности. На рис. 31 представлена топограмма нормированной чувствительности тензорезисторов p-типа проводимости, расположенных на квадратной = 1) мембране.

Из рисунка видно, что максимальная тензочувствительность наблюдается у тензорезисторов, расположенных у центра боковых сторон. В центре мембраны тензочувствительность равна 0.

Для прямоугольной мембраны ^ b), (с = 1) точками экстремальной чувствительности являются середины боковых сторон мембран и ее центр [7]. Значение максимальной нормированной чувствительности в этих точках Sa, Sb, So (рис.32) могут быть представлены в виде.

Принципы размещении тензорезисторов на мембранах полу-проводниковых и нтегральных тензопреобразователей давлении (ИТПД).
Принципы размещении тензорезисторов на мембранах полу-проводниковых и нтегральных тензопреобразователей давлении (ИТПД).

Знак зависит от расположения резистора на мембране, т. е. от угла (р. Верхний знак в (82) соответствует (р = 0, а нижний ф_ * • Полученные зави;

симости фафически представлены на рис. 32. Видно, что, но мере увеличения с (по мере увеличения одной из сторон мембраны) значения So, Sa, Sb довольно быстро приближаются к своим максимальным значениям.

Представленные выше формулы сведены в таблицу 9, в которой даны зависимости чувствительности тензорезисторов, размещенных в экстремальных точках мембраны при использовании различной формы.

Определение местоположения точечного тензорезистора на квадратной мембране.

Рис. 30. Определение местоположения точечного тензорезистора на квадратной мембране.

Топограммы нормированной чувствительности тензорезисторов p-типа на квадратной мембране.

Рис. 31. Топограммы нормированной чувствительности тензорезисторов p-типа на квадратной мембране.

Зависимость модуля нормированной чувствительности прямоугольной пластинки в серединах боковых сторон (S, S) и в центре (Sq) от соотношения длин сторон С.

Рис. 32. Зависимость модуля нормированной чувствительности прямоугольной пластинки в серединах боковых сторон (Sa, Sh) и в центре (Sq) от соотношения длин сторон С.

Вид упругого элемента.

Круглая мембрана, радиус = а

Квадратная мембрана а = Ь, с = 1.

Прямоугольная мембрана С = 3.

Произвольная мембрана С = оо.

Максимальная чувствительность.

" А/? м2 Rq' Я.

0 МЧ;)'.

'•Чй*.

u24f)'.

Анализ значений тензочувствительности, представленных в таблице 9 показывает, что максимальной чувствительностью обладают тензорезисторы, расположенные на прямоугольной мембране. Однако видно, что бесконечно увеличивать соотношения сторон не имеет смысла, так как выигрыш в чувствительности при С > 3 минимален и технологически изготовление таких тензопреобразователей довольно затруднено.

Кроме этого, в работе [8] предложены новые варианты размещения тензорезисторов на прямоугольной мембране, предполагающие увеличение тензочувствитсльности датчиков за счет использования центра мембраны.

Следует также отметить работу [9], в которой показано, что тензочувствительность можно повысить не только традиционными способами размещения тензорезисторов в различных областях мембраны, но и, например, применяя специальное микропрофилирование периметра мембраны. При этом автор показывает, что тензочувствительность датчиков может увеличиться на порядок по сравнению с датчиками, имеющими традиционные круглые или квадратные мембраны.

Показать весь текст
Заполнить форму текущей работой