Помощь в написании студенческих работ
Антистрессовый сервис

Исследование энергетических и временных характеристик газоразрядных эксимерных ArF и KrF лазеров на смесях He: Ar (Kr): F2

Диссертация: Исследование энергетических и временных характеристик газоразрядных эксимерных ArF и KrF лазеров на смесях He: Ar (Kr): F2
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

На момент начала наших исследований максимальные значения энергии излучения и кпд для эксимерных газоразрядных ArF и KrF лазеров были получены в смесях на основе буферного газа Ne. Для этих лазеров были найдены оптимальные значения интенсивности накачки, которые были в диапазоне 1,8−2,5 МВт/см3 и о значения интенсивности накачки, которые были в диапазоне 1,8−2,5 МВт/см и позволяли получить… Читать ещё >

Исследование энергетических и временных характеристик газоразрядных эксимерных ArF и KrF лазеров на смесях He: Ar (Kr): F2 (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Содержание

  • Глава 1. Анализ литературы по исследованиям эксимерных KrF
    • 248. нм) и ArF (193 нм) лазеров
      • 1. 1. Физические принципы работы эксимерных KrF (248 нм) и ArF (193 нм) лазеров
        • 1. 1. 1. Эксимерный KrF (248 нм) лазер
        • 1. 1. 2. Эксимерный ArF (193 нм) лазер
      • 1. 2. Обзор литературы по исследованиям газоразрядных KrF (248 нм) и ArF (193 нм) лазеров
  • Глава 2. Экспериментальная установка и методы исследований
    • 2. 1. Описание экспериментальной установки
    • 2. 2. Аппаратура и методы исследований
  • Глава 3. Исследование энергетических и временных характеристик накачки и излучения эксимерного газоразрядного
  • KrF (248 нм) лазера на смеси He: Kr:F
    • 3. 1. Эксимерный KrF лазер на основе буферного газа Не с энергией 0,8 Дж и кпд 2,0%
    • 3. 2. Исследование влияния интенсивности накачки на энергию излучения и кпд KrF лазера на смеси He: Kr:F
  • Глава 4. Исследование энергетических и временных характеристик накачки и излучения эксимерного газоразрядного ArF (193 нм) лазера на смеси He (Ne):Ar:F
    • 4. 1. Эксимерный ArF лазер с энергией излучения 0,5 Дж в активной среде He: Ar:F
    • 4. 2. Исследование влияния интенсивности накачки на энергию излучения и кпд ArF лазера на смеси He: Ar:F
    • 4. 3. Исследование влияния сорта буферного газа на параметры накачки и излучения ArF лазера

В настоящее время импульсные газоразрядные ArF (193 нм) и KrF (248 нм) эксимерные лазеры находят широкое применение в микроэлектронике, фотолитографии, медицине и научных исследованиях [1,2], так как это наиболее коротковолновые лазеры (УФ диапазон спектра) с прямой накачкой, излучение которых попадает в полосы сильного поглощения многих сред. Высокая энергия квантов 6,4 и 4,9 эВ позволяет реализовать фотохимический механизм взаимодействия такого излучения с поверхностью вещества. Совокупность этих свойств лазерного излучения позволяет обрабатывать различные материалы с субмикронной точностью без термического разрушения краев и поверхности материалов.

Одной из наиболее интересных и перспективных областей применения экси-мерных ArF (193 нм) и KrF (248 нм) лазеров является медицина (офтальмология, кардиохирургия и дерматология). Наиболее широкое применение ArF (193 нм) лазер находит в офтальмологии, где излучение с длиной волны 193 нм используется для проведения рефракционных операций по коррекции близорукости, дальнозоркости и астигматизма в широком диапазоне аномалий рефракции от 1 до 15 диоптрий, а также для лечения ряда поверхностных заболеваний роговицы [1−3]. Излучение KrF лазера с длиной волны 248 нм является перспективным для использования в кардиохирургии для образования каналов в сердечной мышце с целью улучшения ее кровоснабжения (трансмиокардиальная реваскуляризация), а также для лечения вирусных заболеваний в офтальмологии и дерматологии [4].

С практической точки зрения, для эксимерных лазеров предназначенных для медицинских применений, наиболее важными параметрами являются:

• максимально достижимая энергия излучения (не менее 0,5 Дж), в связи с необходимостью обработки больших площадей с высокой плотностью энергии до 5,0−6,0 Дж/см на поверхности ткани;

• максимальное значение полного кпд (от запасенной энергии в накопительной емкости системы возбуждения, далее просто кпд), что позволяет помимо энергетической экономии увеличить ресурс элементов системы возбуждения и электродной системы, а также повысить ресурс газовой среды;

• минимальная длительность импульсов (менее 30 не), чтобы минимизировать термический эффект, приводящий к разрушению поверхности ткани;

• простота конструкции и надежность эксплуатации лазера, определяемые типом системы возбуждения лазера и используемыми значениями зарядных напряжений, а также ресурс одного наполнения лазера.

Большое значение имеет стоимость эксплуатации лазера, которая в основном определяется стоимостью газовой смеси и зависит от сорта буферного газа. Использование гелия вместо неона в качестве буферного газа в активной среде эксимерного лазера, позволяет значительно снизить затраты на эксплуатацию лазера, в котором газовая смесь должна периодически обмениваться.

В связи с этим, проблема создания высокоэффективных газоразрядных ArF (193 нм) и KrF (248 нм) эксимерных лазеров с максимально достижимыми значениями энергии излучения и кпд в смесях на основе буферного газа гелия, является актуальной. Получение высоких значений энергии излучения при максимальном кпд в гелиевых смесях является достаточно сложной задачей, решение которой требует проведения специальных исследований.

Одним из наиболее важных параметров, влияющих на получение высоких значений энергии излучения и кпд эксимерного лазера, является интенсивность накачки активной среды. Следует выделить тот факт, что для каждого состава активной среды в лазерах на разных эксимерных молекулах существуют свои оптимальные значения интенсивности накачки, при которых достигается максимальный кпд лазера. Интенсивность накачки в данной работе определялась как удельная средняя мощность накачки W=E/Vt, где Е — энергия, запасенная в обостряющей емкости, V — активный объем, г — время ввода энергии в активную среду [5].

На момент начала наших исследований максимальные значения энергии излучения и кпд для эксимерных газоразрядных ArF и KrF лазеров были получены в смесях на основе буферного газа Ne. Для этих лазеров были найдены оптимальные значения интенсивности накачки, которые были в диапазоне 1,8−2,5 МВт/см3 и о значения интенсивности накачки, которые были в диапазоне 1,8−2,5 МВт/см и позволяли получить максимальные значения кпд 2,1% (270 мДж) для ArF лазера и 3,9% (500 мДж) для KrF лазера [5]. Максимальные значения энергии излучения составляли 500 мДж (с кпд 1,0%) для ArF и 810 мДж (с кпд 2,6%) для KrF лазеров, соответственно [6]. Замена буферного газа Ne на Не в этих лазерах, как правило, приводила к значительному снижению энергии излучения и кпд. В буклетах «Highlights» фирмы Lambda Physics [7] сообщалось о достижении в коммерческих лазерах серии LPX 300 энергии излучения 650 мДж для ArF и 1,2 Дж для KrF лазеров. Параметры активной среды и накачки, позволяющие получать такие энергии излучения, не сообщались. В связи с этим, представляло интерес изучение влияния интенсивности накачки на выходные параметры эксимерных лазеров на гелиевых смесях.

Цель работы:

Целью данной работы являлось исследование энергетических и временных характеристик накачки и излучения эксимерных газоразрядных ArF (193 нм) и KrF (248 нм) лазеров на смесях с буферным газом гелием в зависимости от параметров активной среды и интенсивности ее накачки, для достижения максимальных значений энергии излучения и кпд.

Задачи исследований:

1. Исследование параметров систем возбуждения и нахождение их значений, позволяющих изменять интенсивность накачки в широком диапазоне величин, о превышающих 2,5 МВт/см известные из литературы.

2. Исследование влияния параметров активной среды на энергию излучения и кпд эксимерных газоразрядных ArF и KrF лазеров.

3. Исследование влияния величины интенсивности накачки на энергию излучения и кпд эксимерных газоразрядных ArF и KrF лазеров на смесях He: Ar (Kr):F2, Поиск оптимальных параметров накачки, позволяющих получать максимальные значения энергии излучения при максимальных кпд этих лазеров.

4. Разработка и создание лазерных систем с параметрами излучения, обеспечивающими их конкретные применения в медицине.

Структура и объем диссертации

.

Диссертация состоит из Введения, четырех глав, Приложения, Заключения и списка цитируемой литературы. Диссертация содержит 126 страниц машинописного текста, включая 49 рисунков и список цитируемой литературы из 99 наименований.

Выводы к 4.3.

Проведены экспериментальное и теоретическое исследования влияния сорта буферного газа на параметры накачки и излучения эксимерного газоразрядного ArF (193 нм) и He (Ne):Ar:F2.

В результате проведенных исследований получено, что замена гелия на неон в смеси ArF лазера приводит к снижению уровня интенсивности накачки. При изменении зарядного напряжения от 20 до 32 кВ величина интенсивности накачо ки для неоновой смеси изменяется от 3,0 до 4,4 МВт/см, а для гелиевой смеси от 3,8 до 5,5 МВт/см3.

Дано объяснение снижению выходных параметров ArF лазера в исследуемом лазере при переходе от чистого буферного газа Не на Ne. Энергия излучения и кпд снижаются за счет использования интенсивности накачки свыше 3,0 МВт/см3, являющейся неоптимальной для неоновых смесей.

Показано, что гелиевая среда эксимерного газоразрядного ArF лазера является эффективной для достижения кпд (порядка 2,0%) при использовании интенсивности накачки 5,0 МВт/см3, сравнимого с полученным в неоновой среде [75].

Заключение

.

Основным результатом данной диссертации является определение оптимальных параметров возбуждения эксимерных газоразрядных KrF (248 нм) и ArF (193 нм) лазеров на смесях состава He: Kr (Ar):F2, обеспечивающих достижение максимальных значений энергии излучения и кпд. На основе полученных результатов исследований были созданы высокоэффективные лазеры, работающие на недорогих гелиевых смесях, позволяющих значительно увеличить экономическую эффективность их эксплуатации. Созданные лазеры использованы в составе медицинских систем для применения в таких областях, как офтальмология и дерматология. Результаты, полученные в диссертационной работе:

1. Создана высоковольтная система возбуждения типа LCинвертор обеспечио вающая достижение интенсивности накачки до 5,5 МВт/см. Для получения такой интенсивности накачки предложено увеличение индуктивности основного контура LCинвертора за счет увеличения индуктивности до 80−100 нГн в цепи обратного токопровода.

2. Впервые для KrF (248 нм) лазера на смеси He: Kr:F2 при интенсивности накачки порядка 4,5 МВт/см3 получена энергия генерации 1,0 Дж с кпд от запасенной энергии 2,0%.

3. Впервые для эксимерного газоразрядного KrF (248 нм) лазера на смеси состава He: Kr:F2 определен оптимальный диапазон интенсивности накачки 3,0−4,0 МВт/см, позволяющий получать максимальные значения кпд этого лазера (в данной работе 2,2%).

4. Впервые для ArF (193 нм) лазера на смеси состава He: Ar:F2 при интенсивноо сти накачки 5,0 МВт/см достигнута энергия генерации 1,3 Дж с кпд от запасенной энергии 2,0%.

5. Впервые для эксимерного газоразрядного ArF (193 нм) лазера на смеси He: Ar:F2 определен оптимальный диапазон интенсивности накачки 4,5−5,0 МВт/см3, при котором достигаются максимальные значения кпд этого лазера (в данной работе 2,1%).

6. Разработаны высокоэффективные эксимерные газоразрядные ArF (193 нм) и KrF (248 нм) лазеры с активными средами на основе буферного газа гелия: серии ExciLight-S с энергией излучения порядка 50 мДжсерии ExciLight-M с энергией излучения 100−300 мДжи серии ExciLight-L с энергией излучения 500 -700 мДж.

7. Эксимерный ArF (193 нм) лазер серии ExciLight-L использован в составе УФ офтальмологической лазерной системы Медилекс-193&tradeдля рефракционной хирургии. Проведены клинические испытания системы для лазерной коррекции аномалий рефракции и лечения некоторых заболеваний глаза.

8. На основе эксимерного KrF (248 нм) лазера серии ExciLight-M создана малогабаритная система для использования в дерматологии.

Автор считает своим приятным долгом выразить глубокую благодарность научному руководителю д.ф.-м.н. A.M. Ражеву за высококвалифицированное руководство на всех этапах выполнения работы от постановки задач до защиты данной диссертации. А также поблагодарить сотрудников лаборатории: гл. спец. В.А. Че-кавинского за полезные обсуждения результатов и создание надежных систем питания, мне Е. С. Каргапольцева и мне Д. С. Чуркина за помощь в проведении экспериментов.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Excimer laser technology: laser sources, optics, systems and applications / Ed. by Basting D.- Gottingen: Lambda Physics AG, 2001, — 292 p.
  2. Ewing J.J. Excimer lasers at 30 years // Optics & photonics news. 2003. — №.5. -P. 26−31.
  3. В.В. Эксимерлазерная хирургия роговицы— М.: БЭБиМ, 1998. -151 с
  4. A.M. Ультрафиолетовые газоразрядные эксимерные лазеры и их применение в медицине: Дис. д-ра. физ.-мат. наук: 01.04.21. -Защищена 19.12.1999- Утв. 14.04.2000- 2 872. Новосибирск, 1999, — 340 с.
  5. В.М., Брагин И. Е., Виноходов А. Ю., Водчиц В. А. Об интенсивности накачки электроразрядных эксимерных лазеров // Квант, электрон. 1995. — Т. 22, № 6. — С. 533−536.
  6. В.М., Борисов А. В., Брагин И. Е., Виноходов А. Ю. Эффекты ограничения средней мощности в компактных импульсно-периодических KrF-лазерах. // Квант, электрон. 1995. — Т. 22, № 5. — С. 446−450.
  7. Basting D.: Lambda Physics Highlights. V. 50, January 1997, 4 p.
  8. Эксимерные лазеры / Под ред. Ч. Роудза.- М: Мир, 1981. 245 с.
  9. Velazco J.E., Setser D.W. Bound-free emission spectra of diatomic xenon halides // J. Chem. Phys. 1975. — V. 62, № 5. — p. 1990−1991.
  10. Tellinghuisen J., Hoffman J.M., Tisone C.C., Hays A.K. Spectroscopic studies of diatomic noble gas halides: analysis of spontaneous and stimulated emission from XeCl // J. Chem. Phys.- 1976. V. 64, № 6. — P. 2484−2490.
  11. Tellinghuisen J., Tisone G.C., Hoffman J.M., Hays A.K. Analysis of spontaneous and laser emission from XeF // J. Chem. Phys. 1976. — V. 64, № 11. — P. 47 964 797.
  12. И. С, Яковленко С.И. Активные среды эксиплексных лазеров // Квант, электрон. 1980. — Т. 7, № 4. — С. 677−719.
  13. А.В. Эксимерные лазеры // Успехи физ. наук. 1978. — Т. 125, Вып. 2.-С. 279−313.
  14. Hay P. J., Dunning Jr. Т.Н. The electronics states of KrF // J. Chem. Phys. -1977. -V. 66, № 3, — P. 1306−1316.
  15. Jr. Т.Н., Hay P.J. The covalent and ionic states of the rare gas monofluorides // J. Chem. Phys. -1978. V. 69, № 1. — P. 134−149.
  16. Julienne P. S., Krauss M. Role of the 111(½) -11(½) transition in rare-gas-halide kinetics //Appl. Phys. Lett. 1979. — V. 35, № 1. — P. 55−57.
  17. Burnham R., Searles S.K. The radiative lifetime of KrF* // J. Chem. Phys. 1977. -V. 67, № 1.-P. 5967−5958.
  18. Kannari F. Multilevel model analysis of energy extraction from a KrF laser medium by short pulses // J. Appl. Phys. 1990. — V. 67, № 9. — P. 3954 — 3963.
  19. Brau C.A., Ewing J.J. Emission Spectra of XeBr, XeCl, XeF and KrF // J. Chem. Phys. 1975. — V. 63, № 11. — P. 4640−4647.
  20. Tellinghuisen J., Hays A.K., Hoffman J.M., Tissone G.C. Spectroscopic Studies of Diatomic Noble Gas Halides II. Analysis of Bound-Free Emission from XeBr, XeJ and KrF // J. Chem. Phys. 1976. — V. 65, № 11. — P. 4473−4482.
  21. Velazco J.E., Kolts J.H., Setser D.W. Quenching rate constants for metastable argon, krypton and xenon atoms by fluorine containing molecules and branching ratios for XeF and KrF formation // J. Chem. Phys. 1976. — V. 65, № 9. — P. 34 683 480.
  22. Murray J.R., Powell H.T. KrCl laser oscillation at 223 nm // Appl. Phys. Lett. -1976.-V. 29, № 4.-P. 252−253.
  23. Moore C.E. Atomic Energy Levels // 1952. V. 2. — Natl. Bur. Stand. (US). — Circular 467.
  24. B.H., Лисицын B.H., Ражев A.M. Мощная сверхсветимость на эксимерах ArF, KrF, XeF в электрическом разряде // Письма в Журн. техн. физики. -1976. Т. 2, вып. 18, — С. 839−842.
  25. Sze R.C., Loree T.R. Experimental studies of KrF and ArF discharge lasers. // IEEE J. of Quant. Electron. 1978. — QE-14, № 12. — P. 944−950.
  26. Fahlen T.S. Efficient quarter-joule KrF laser with corona preionisation. // IEEE J. of Quant. Electron. 1979. — QE-15, № 5. — P. 311−313.
  27. Ю.А., Кузьмина Н. П. Эксимерные ультрафиолетовые газоразрядные XeF, XeCl, KrF лазеры. // Квант, электрон. 1977. — т. 4, № 1, — С. 220−222.
  28. В.Ю., Борисов В. М., Степанов Ю. Ю. Электроразрядные эксимерные лазеры на галогенидах инертных газов. -М: Энергоатомиздат, 1988. 163 с.
  29. Maeda М., Takahashi A., Mizunami Т., et. all. Kinetic model for self-sustained discharge XeCl lasers // J. Appl. Phys. 1982.'- V. 21, № 8. — P. 1161−1169.
  30. Газовые лазеры. / Под. ред. Мак-Даниеля И. и Нигена У М: Мир, 1986. 348 с.
  31. Michels Н.Н., Hobbs R.H., Wright L.A. The electronic structure of ArF* and Ar2F* // Chem. Phys. Lett. 1977. — V. 48, № 1. — P. 158−162.
  32. Verdeyen J.T. Laser electronics // New Jersey: Prentice Hall.- 2nd ed. -1989 340 P.
  33. Ohwa M., Obara M. Theoretical evaluation of the buffer gas effects for a self-sustained discharge ArF laser // J. Appl. Phys. 1988. — V. 63, № 5. — P. 13 061 312.
  34. A.M., Держиев В. И., Жидков А. Г., Яковленко С. И. Кинетическая модель ArF-лазера // Квант, электрон. 1992. — Т. 19, № 5. — С. 486−491.
  35. McKee T.J. Emission spectra of common discharge excimer-laser transitions // Can. J. Phys. 1988. — V. 66. — P. 859−860.
  36. Burnham R. Ultraviolet-preionized discharge-pamped lasers in XeF, KrF and ArF // Appl. Phys. Lett. 1976. — V. 29, № 11. — P. 707−709.
  37. Kudryavtsev Y.A., Kuzmina N.P. Excimer gas-discharge tunable ArF laser // Appl. Phys. 1977. — V. 13, № 1. — P. 107−108.
  38. Nagai S., Furuhashi H., Uchida Y., Yamada J., Kono A., Goto T. Formation dynamics of excited atoms in an ArF laser using He and Ne buffer gases // J. Appl. Phys. 1995. — V.77, № 7. — P. 2906−2911.
  39. Andrew J.E., Dyer P.E. Gain measurements in ArF and KrF excimer discharges using axial and sidelight fluorescence detection // Opt. Commun. 1985. — V. 54, № 2.-P. 117−120.
  40. Nagai S., Sakai M., Furuhashi H., Kono A., Goto Т., Uchida Y. Effects of F" ions and F2 molecules on the oscillation process of a discharge-pumped ArF excimer laser // IEEE J. of Quant. Electron. 1998. — V. 34, № 1. — P.40−46.
  41. Saito Т., Ito S., Tada A. Long lifetime operation of an ArF-excimer laser // Appl. Phys. B. 1996. — V. 63. — P.229−235.
  42. Saito Т., Ito S. Gas contaminant effect in a discharge-excited ArF excimer laser // Appl. Phys. B. 1998. — V. 66. — P.579−583.
  43. Lo D., Shchedrin A.I., Ryabtsev A.V. The upper energy limit of a self-sustained discharge-pumped ArF laser // J. Phys D: Appl. Phys. 1996. — V. 29. — P.43−49.
  44. Sutton D.G., Suchard S.N., Gibb O.L., Wang C.P. Fast discharge initiated KrF laser // Appl. Phys. Lett. — 1976. — V. 28, № 9. — P. 522−523.
  45. Burnham R., Powell F.X., Djeu N. Efficient electric discharge lasers in XeF and KrF // Appl. Phys. Lett. 1976. — V. 29, № 1. — P. 30−32.
  46. Burnham R., Djeu N. Ultraviolet-preionized discharge-pumped lasers in XeF, KrF and ArF // Appl. Phys. Lett. 1976. — V. 29, № 11. — P. 707−709.
  47. Greene A.E., Brau C.A. Theoretical studies of UV-preionized transverse discharge KrF and ArF lasers // IEEE J. Quant. Electron. 1978. — QE-14, № 12. -P.951−957.
  48. Hasson V., Bergmann H.M. Simple and compact photopreionization -stabilized excimer lasers // Rev. Sci. Instrum. 1979. — V. 50, № 12. — P. 1542−1544.
  49. Andrew J.E., Dyer P.E., Roebuck P.J. Improved energy output from discharge pumped ArF and KrCl lasers // Opt. Commun. 1984. — V. 49, № 3. — P. 189 194.
  50. Rothe D.E., Gibson R.A. Analysis of a spark-preionized large-volume XeF and KrF discharge laser // Opt. Commun. -1977. V. 22, № 3. — P. 265−268.
  51. Sze R.C. Rare-gas halide avalanche discharge lasers // IEEE J. Quant. Electron. -1979. QE-15, № 12. — P. 1338−1347.
  52. Armandillo E., Bonanni F., Grasso G. Compact, simple, high-energy, discharge-pumped rare gas halide laser // Opt. Commun. -1982. V. 42, № 1. — P. 63−66.
  53. Watanabe S., Endoch A. Wide aperture self-sustained discharge KrF and XeCl lasers // Appl. Phys. Lett. 1982. — V. 41, № 9. — P. 799−801.
  54. Nodomi R, Oeda Y., Sajiki K., Nakajima S., Watanabe M., Watanabe S. High repetition rate, wide aperture KrF lasers for subpicosecond amplification // IEEE J. Quant. Electron. 1991. — V. 27, № 3. — P. 441−444.
  55. Miyazaki K., Hasama Т., Yamada K., Fukatsu Т., Eura Т., Sato T. Efficiency of a capacitor-transfer-type discharge excimer laser with automatic preionization // J. Appl. Phys. 1986. — V. 60, № 8. — P. 2721−2728.
  56. В.П., Атежев B.B., Букреев B.C. Импульсно периодический лазер с магнитным звеном сжатия // Журн. техн. физ. — 1986. — Т.56, Вып. 7. — С. 1387−1389.
  57. Wang С.Р. Performance of XeF/KrF lasers pumped by fast discharge // Appl. Phys. Lett. 1976. — V. 29, № 2. — P. 103−105.
  58. В.Ю., Борисов B.M., Степанов Ю.Ю. XeF лазер с импульсом генерации 2 не и расходимостью близкой к дифракционной // Квант, электрон. 1981. — Т. 8, № 10. — С. 2271−2273.
  59. Sze R.C., Scott Р.В. Laser action in kripton fluoride and N2 in a fast pin laser // J. Appl. Phys. 1976. — V. 47, № 12. — P. 5492−5493.
  60. Sarjeant W.J., Alcock A.J., Leopold K.E. A scalable multiatmosphere high-power XeF laser // Appl. Phys. Lett. 1977. — V. 30, № n. — P. 635−637.
  61. Andrews A.J., Kearsley A.J. etc. A KrF fast discharge laser in mixtures containing NF3, N2F2 or SF6 // Opt. Commun. 1977. — V. 20, № 2. — P. 265−268.
  62. В.Ю. Баранов, В. М. Борисов, Ю. А. Сатов, Ю. Ю. Степанов. Получение однородного разряда для импульсного лазера большого объема // Квант, электрон. 1975. — Т. 2, № 9. с. 2086−2087.
  63. Г. А., Осипов В. В., Тарасенко В. Ф. Импульсные газовые лазеры. М: Наука, 1991.-80 с.
  64. С.Н., Жупиков А. А., Ражев A.M. Увеличение эффективности эксимерных ArF и KrF лазеров на основе буферного газа Не // Оптика атмосферы и океана. 1998. — Т. 11, № 2−3. — С. 105−109.
  65. А.А., Ражев A.M. Эксимерный KrF лазер на основе буферного газа Не с энергией 0.8 Дж и КПД 2% // Квант.электрон. 1998. — Т. 25, № 8. — С. 687−689.
  66. A.M., Щедрин А. И., Калюжная А. Г., Рябцев А. В., Жупиков А. А. Влияние интенсивности накачки на эффективность эксимерного электроразрядного KrF лазера на смеси He-Kr-F2 // Квант, электрон. 2004. -Т. 34, № 10.-С. 901−906.
  67. Razhev A.M., Schedrin A.I., Kalyuzhnaya A.G., Zhupikov A.A. Dependence of the efficiency of excimer gas-discharge lasers on parameters of the excitation circuit and the active medium // Ukr. J. Phys. 2005. — V. 50, № 9. — P. 922−929.
  68. Hsia J. A model for uv preionization in electric-discharge-pumped XeF and KrF lasers //Appl. Phys. Lett. 1977. -V. 30, № 2. — P. 101−103.
  69. Luches A., Nassisi V., Perrone M.R. Output characteristics of an excimer laser with delayed double preionisation // J. of Phys. E: Scientific Instruments. 1987. -V. 20, № 8.-P. 1015−1018.
  70. A.A., Ражев A.M. Эксимерный ArF-лазер с энергией 0,5 Дж на основе буферного газа Не // Квант, электрон. -1997. Т. 24, № 8. — С. 683−687.
  71. A.M., Жупиков А. А., Каргапольцев Е. С. Эксимерный KrCl (223 нм) лазер на смеси Не-Кг-НС1 // Квант, электрон. 2004. — Т. 34, № 2. С. 95−98.
  72. Razhev A.M., Zhupikov A.A. Excimer ArF laser with an output energy of 1,3 J at 2,0% efficiency on the He: Ar:F2 mixture // Appl. Phys. B. 2005. — V. 81. P. 1113−1117.
  73. A.M., Щедрин А. И., Калюжная А. Г., Жупиков А. А. Влияние параметров возбуждения и активной среды на эффективность эксимерного электроразрядного ArF-лазера // Квант, электрон. 2005. — Т. 35, № 9. С. 799−804.
  74. Munnerlyn C.R., Koons S.J., Marshall J. Photorefractive keratectomy: a technique for laser refractive surgery // J. Cataract. Refract. Surg. 1988. — V. 14, № 1. — P. 46−52.
  75. Krauss J.M., Puliafito C.A. Lasers in ophthalmology // Lasers in Surgery and Medicine // 1995. V. 17. — P. 102−159.
  76. B.B., Пятин M.M., Искаков И. А., Ищенко В. Н., Кочубей С. А., Ражев A.M., Чеботаев В. П. Применение УФ эксимерных лазеров в микрохирургии глаза. Новосибирск, 1986. — 18 с. — (Препринт / АН СССР. Сиб. отд-ние. Ин-т теплофизики- № 151).
  77. В.Н., Кочубей С. А., Лантух В. В., Пятин М.М, Ражев A.M., Субботин В. М., Чеботаев В. П. Использование УФ излучения эксимерных лазеров в микрохирургии глаза // Оптика и спектроскопия. 1987. — Т. 63, Вып. 5. -С.1132−1138.
  78. В.Н., Кочубей С. А., Лантух В. В., Пятин М. М., Ражев A.M., Чеботаев В. П. Фотоиспарение материалов мощным УФ излучением. Некоторые применения // Изв. АН СССР. 1987. — № 8. Сер. физическая. — Т. 51. -С. 1425−1430.
  79. Chebotayev V.P., Ishchenko V.N., Iskakov I.A., Kochubei S. A, Lantukh V. V, Pyatin M.M., Razhev A.M. UV excimer lasers in eye microsurgery // Lasers in the Life Sciences. 1988- V. 2, № 4, — P. 271−284.
  80. Lantukh V.V., Pyatin M.M., Razhev A.M. Clinical application of UV lasers // J. De Physique IV. 1991. — V. 1, Colloque C7. — P. 232−234.
  81. Е.М., Лебедева Л. И., Кочубей С. А., Ражев A.M., Рыданных ОБ. Цитогенетические эффекты УФ лазерных излучений с длинами волн 248, 223 и 193 нм на клетки млекопитающих // Радиобиология. 1990. — Т. 30, Вып. 6.-С. 821−826.
  82. Razhev A.M. Lantukh V.V., Pyatin M.M. Ophthalmic devices for corneal microsurgery on excimer lasers // J. De Physique IV. 1991. — V. 1. — Colloque C7. — P. 235−237.
  83. Bagayev S.N., Razhev A.M., Zhupikov A.A. Excimer laser ophthalmic devices for eye microsurgery // Laser Physics. 1998. — V. 8, № 3. — P. 794−798.
  84. Bagayev S.N., Chernikh V.V., Razhev A.M., Zhupikov A.A. Perspectives of using the wavelength of 223 nm of the KrCl excimer laser for refractive surgery and for the treatment of some eye diseases // Proc. SPIE. 2000. — V. 3908. — P. 138−145.
  85. Bagayev S.N., Razhev A.M., Zhupikov A.A., Kargapoltsev E.S., Gelikonov V.M., Kuranov R.V., Turchin I.V. Excimer laser ophthalmic system with optical coherence tomography // Proc. SPIE. 2001. — V. 4245. — P. l-6.
  86. Bagayev S.N., Razhev A.M., Zhupikov A.A., Kargapoltsev E.S., Gelikonov V.M., Kuranov R.V., Turchin I.V. The excimer laser system for refractive surgery assisted by optical coherence tomograph // Laser Physics. 2001. — V. 11,№ 11.-P. 1224−1227.
  87. Bagayev S.N., Razhev A.M., Zhupikov A.A., Kargapoltsev E.S., Gelikonov V.M., Gelikonov G.V., Kuranov R.V., Turchin I.V. Optical coherence tomography for in situ monitoring of laser corneal ablation // J. Biom. Opt. -2002.-V. 7, № 4.-P. 633−642.
  88. Fedorov S.N., Lantukh V.V., Pyatin M.M., Razhev A.M., Ishchenko V.N., Kochubei S.A., Rydannykh O.V., Tsibisov A.V., Chebotayev V.P. Device for correcting ocular refraction anomalies // United States Patent. 1990. — № 4 953 969.
  89. Fedorov S.N., Lantukh V.V., Pyatin M.M., Razhev A.M., Ishchenko V.N.,. Kochubei S.A., Rydannykh O.V., Tsibisov A.V., Chebotayev V.P. Un dispositivo de correction de anomalias de refraction del ojo // Patente de invention, Espana. 1990.-№P89023371.
  90. С.Н., Лантух В. В., Пятин М. М., Ражев A.M., Ищенко В. Н., Кочубей С. А., Рыданных О. В., Цибизов А. В., Чеботаев В. П. Способ коррекции аномалий рефракции и устройство для его осуществления // Авт. свидетельство. 1992. — № 1 832 479.
  91. В.В., Ищенко В. Н., Кочубей С. А., Пятин М. М., Ражев A.M., Чеботаев В. П. Способ лечения герпетических кератитов // Авт. свидетельство. СССР. — 1989. — № 1 524 221.
  92. Bagayev S.N., Razhev A.M., Chernych V.V., Zhupikov A.A., Kargapoltsev E.S. The choice of the laser wavelength for a herpetic keratitis treatment // Proc. SPIE. -2002.-V. 4611.-P. 86−93.
  93. Bagayev S.N., Razhev A.M., Zhupikov A.A., Kargapoltsev E.S. The advantages of using the 223 nm compared with 193 nm radiation wavelength for ophthalmic applications // Proc. SPIE. 2002. -V. 4900. — P. 1007−1013.
Заполнить форму текущей работой

Сессия? Спокойно!