Механизмы испарения и поглощения сурьмы из растворов-расплавов галлия и индия
Диссертация
Практическое значение результатов диссертации определяется тем, что изучение механизмов испарения и поглощения пара сурьмы расплавами галлия и индия дает возможность не только получить новую важную информацию о явлениях, протекающих на межфазной границе растворвакуум и тем самым глубже понять природу конденсированной фазы, но и оптимизировать технологический процесс утилизации отходов… Читать ещё >
Список литературы
- Герасимов Я.И., Гейдерих В. А. Термодинамика растворов. -М.: Изд-во МГУ.-1980,-184 с.
- Колосов Б.В. Зависимость активности компонентов бинарного сплава от состава и температуры// ЖФЭ. 1984. -Т.58.-№ 4.-С.837−840.
- Воронин Г. Ф. Парциальные термодинамические функции гетерогенных смесей и их применение в термодинамике растворов// Современные проблемы физической химии, — М.: МГУ.-1976.-Т.9.-С.29−48.
- Попов В.П., Лозовский В. Н. Жидкофазная эпитаксия полупроводников с подпиткой раствора расплава// Процессы роста полупроводн. кристаллов и пленок: Матер. 7 Всесоюз. конф. Новосибирск.-1988.-С. 66−73.
- Direct and inverse problems of liquid-phase epitaxy/ L.G. Badratinova, A.G. Petrova, V.V. Kuznetsov, V.V. Pukhnachov //Proc. 5-th Int. Conf. Numer. Anal. Semicond. Devices and Integr. Circuits, Dublin, 17−19 June, 1987, Dublin, 1987,-P. 136−141.
- Foxon C.T. Current understanding of growth mechanisms in III-V MBE.J.Cryst.Growth. -1989. -V.95.-P.11−16.
- Kuznetsov V.V., Moskvin P.P., Sorokin V.S. Coherent phase diagrom and interface relaxation processes during LPE of A3B5 solid solutions // J.Cryst. Growth.- 1988. -V.88. -№ 3. -P.241−262.с
- Белый В.И., Белослудов В. Р. Свойства поверхности соединений, А В ил гфизико-химические процессы на границе раздела, А В металл // Совр. пробл. физ. химии полупроводников, — Новосибирск.- 1988.- С.43−90.
- Материалы для оптоэлектроники. Сб. статей.-М.: Мир, — 1976, — 405с.
- Bonefacic A., Tonejc A., Ogorelec Z. Enhanced solubility of gallium in antimony produced by rapid quenching // Scripta Metallurgical 1989. -P. 11 211 122.
- Thermodynamic considerations in the synthesis and crystal growth of GaSb/ K.B. McAfee, D.M. Gay, R.S. Hozack, R.A. Laydise, G. Schwartz, W.A. Sunder//J. Cryst. Growth.- 1986. -V.76. -P.263−271.1. О С
- Горбов С.И. Термодинамика полупроводниковых соединений AB // Итоги науки и техники. Химическая термодинамика и равновесие.-М.: ВИНИТИ, — 1975. -Т.З.- 149с.
- Уфимцев В.Б., Акчурин Р. Х. Физико- химические основы жидкофазной эпитаксии. -М.: Металлургия. -1983. -224с.
- Influence of solution convection on LPE Inx Gaix Sb / K. Asakawa, Y. Torimoto, Y. Hayakawa, M. Kumagawa // J.Cryst. Growth. -1990. -V.99. -P.1291−1294.
- Молекулярно лучевая эпитаксия и гетероструктуры. Под ред. Ченга Л., Плота К, — М: Мир. -1989. -582с.
- Кнорре Д.Г., Крылова Л. Ф., Музыкантов B.C. Физическая химия. -М.: Высшая школа.- 1990. 441с.
- Люпис К. Химическая термодинамика материалов,— М.: Металлургия. -1989, — 504с.
- Panish M.B. Thermodynamic evaluation of the simple solution treatment of the GaP, InP, InAs and GaAs system// J.Cryst. Growth. -1974. -V.27. P.6−20.
- Технология тонких пленок. Под ред. Майссела Л., Глэнга Р. Справочник. Т.1.-М.: Советское радио. -1977. 662с.
- Суворов A.B. Термодинамическая химия парообразного состояния. -Л: Химия. -1970.- С. 208.
- Мансуров В.В., Чунтонов К. А. Испарение летучего комопонента в системе вакуум жидкость — кристалл // Журн. Физ. химии. -1995. -Т.69. -№ 4. -С. 727−729.
- Голдфингер П. Полупроводниковые соединения А3В5 —. М.: Металлургия. -1967. 628с.
- Кириллин В.А., Шейндлин А. Е., Шпильрайн Э. Э. Термодинамика растворов.-М.: Энергия. -1980. 288с.
- Галис Л.Д., Ионов В. И. Химическая термодинамика и фазовые равновесия // Итоги науки и техники, — М.: ВИНИТИ. -1975. С. 95−101.
- Хухрянский Ю.П. Кинетика испарения летучего компонента идеального раствора //Журн.физ.химии. -1980 -Т.54, — № 8, — С.217−220.
- Ландау Л.Д., Лившиц Е. М. Статистическая физика.-М.: Наука. -1976. -584с.
- Ожегов П.И., Мерзляков A.B., Кунин Л. Л. Отклонение давления пара от равновесного в эфффузионной камере //Неорг. материалы. -1972. -Т.8. -№ 3. С.564−566.
- Несмеянов А.Н. Давление пара химических элементов. -М.: АН СССР-1961.-396с.
- Термодинамические свойства индивидуальных веществ. Под ред. Глушко В. П. -М.: Наука.- 1964.- 395с.
- Selected values of the thermodynamic properties of the elements / R. Hultrgen, R.L. Orr, P.D. Anderson, K.K. Kelley //Ohio.Amer. Soc. For metals. -1973.-P.273.
- Хухрянский Ю.П., Ермилин B.H., Тулинова M.C. Давление пара над нестехиометрическими растворами As в GaЛ Изв. АН СССР. Неорг. матер. -1981.-№ 10. С.1733−1735.
- Испарение галлия и индия в условиях Ленгмюра / Ю. П. Хухрянский, Л. Н. Веремьянина, О. И. Сысоев, Л. В. Крылова // Журн. техн. физики.- 1996. -Т.66.-Вып.4.-С.186−188.
- Жуковицкий A.A., Шварцман Л. А. Физическая химия. -М.: Металлургия. -1976. 542с.
- Хухрянский Ю.П., Николаева Е. П. Исследование процесса жидкофазной эпитаксии из растворов с испаряющимся растворителем // Кристаллография.- 1982, — Т.27. -Вып.4 С. 763−766.
- Савченко В.А., Хухрянский Ю. П. Изотермическая жидкофазная эпитаксия элементарных полупроводников в вакууме// Вестник ВГТУ. Сер. «Материаловедение».- 1998.-Вып. 13. С.37−40.
- Распределение легирующей примеси в эпитасксиальных слоях, полученных в изотермических условиях / Ю. П. Хухрянский, В. А. Савченко, Л. В. Крылова, О. И. Сысоев // Изв. Вузов, сер. «Материалы электронной техники». -1998. -№ 4, — С.47−49.
- Хухрянский Ю.П. Эпитаксия пленок из многокомпонентных растворов -расплавов при изотермическом испарении растворителя // Кристаллография. -1992. -Т.377. -Вып.5.- С.1275−1280.
- Хухрянский Ю.П. Диффузионная модель процесса испарения летучего вещества из разбавленного раствора //Журн.физ.химии. -1992, — Т.66. -№ 10.- С.2634−2638.
- Хухрянский Ю.П., Корнеева В. В., Сысоев О. И. Взаимодействие пара сурьмы с расплавами галлия// Расплавы.-1993, — № 3. С.89−91.
- Корнеева В.В., Сысоев О. И., Хухрянский Ю. П. Исследование кинетики поглощения пара сурьмы расплавами индия// Физика и технология материалов электронной техники: Межвуз.сб.науч.тр. Воронеж.-1992. -С.151−154.
- Кинетика поглощения пара л етучего вещества расплавами металлов / Ю. П. Хухрянский, В. Н. Ермилин, Е. В. Бордаков, О. И. Сысоев // Расплавы, — 1988, — Т.2. -Вып.1 С. 12−16.
- Хухрянский Ю.П. Закономерности испарения летучего компонента при диффузионном перемешивании раствора // Получение и анализ чистых веществ: Межвуз.сб. науч. тр. Горький: ГГУ. -1987, — С. 14−17.
- Хухрянский Ю.П. Влияние ассоциации в паровой фазе на испарение летучего компонета из раствора //Элект. техника. -1984. -серия Б.- Вып. 10. -С.15−17.
- Хухрянский Ю.П., Савченко В. А Моделирование процесса жидкофазной эпитаксии полупроводников из переохлажденного раствора расплава // Изв. Вузов, сер. «Материалы электронной техники». -1999 -№ 1.- С.49−52.
- Savtchenko V.A., Khukhryanskii Yu. P. Luquid phase epitaxy of semiconductors from oversaturated solution melt //3-d Intern. Conf. «Single cryst. growth. Strenth problems and heat mass transfer», Russia, Obninsk, -1999.- P.230−232.
- Barin I., Knacke О. Thermochemical properties of inorganic substances. Mf-u-60 881−79. Supplement // I. Barin, O. Knacke, O. Kubaschewski. 1977, LXXXVIII. 86lp.
- Глазов B.M., Павлова JI.M. Химическая термодинамика и фазовые равновесия.-М.: Металлургия.-1988. -560 с.
- Thurmond C.D. Phase equilibria in the GaAs and GaP systems// J.Phys. Chem. Solids. -1965. -V.26. -№ 5, — P.785−802.
- Активность сурьмы в расплавах галлия и индия / JI.B. Крылова, В. В. Корнеева, М. А. Козлова, Ю. П. Хухрянский // Физика и технология материалов электронной техники: Межвуз.сб.науч.тр. Воронеж.-1992,-С.61−64.101
- Коэффициент Генри и активность сурьмы в расплавах галлия и индия / Ю. П. Хухрянский, Л. В. Крылова, В. В. Корнеева, М. А. Козлова // Расплавы,-1993.-№ 3, — С.87−88.
- Khukhryanskii Yu. P., Savtchenko V.A. Luquid phase epitaxy of semicondactors from nonuniformy over — saturated solution-melt // 5-th Intern. Conf. On Intermolekular Interaction in Matter. Poland, Lublin. -1999.-P.10−11.
- Мелвик-Хьюз Э. А. Физическая химия. Т.2.-М.:1962, — С. 1148.
- Глазов В.М. Основы физической химии. -М.: Высшая школа. 1981.- 455с.
- Указанные результаты включены вназвание курса лекции,^ 7/методических рекомендаций и указаний по выполнению лабораторных, курсовых и дипломных работ, наглядных пособий, лабораторного оборудования кафедры и учебных мастерских)1. Заведующий кафедрой
- Начальник учебного управления2000 г. 1. Калинин Ю. Е. /1. Железный В. С. /