Разработка и исследование планарных автоэмиссионных катодов из углеродных материалов
Диссертация
Апробация работы. Основные положения диссертации докладывались на 21 научно-технической конференции: i. 5-я международная конференция «Углерод: фундаментальные проблемы науки, материаловедение, технология». Москва, 2006 ii. Joint 19th International Vacuum Nanoelectronics Conference and 50th International Field Emission Symposium (Объединенные международные 19-я конференция по вауумной… Читать ещё >
Список литературы
- А.А. Talin, К.A. Dean, J.E. Jaskie Field emission displays: a critical review
- Solid state electronics. 2001. № 45. p. 963−976
- Шептан Е.П., Структура поверхности и автоэмиссионные свойства углеродных материалов. —М.: Издательствао МФТИ, 2001. — 288 с.
- Н. Абаньшин, Н. Жуков, А. Кузнечихин Дисплеи с наноразмерными структурами: начало положено // Электроника: наука, технология, бизнес. 2007. № 5. стр. 32−38.
- Бондаренко Б.В., Шешин Е. П., Щука А. А., Приборы и устройства электронной техники на основе автокатодов. — В кн.: Зарубежная электронная техника. — М.: ЦНИИ «Электроника», 1979, № 2, с. 3 47
- Бондаренко Б.В., Рыбаков Ю. Л., Шешин Е. П., Щука А. А., Автоэлектронные катоды и приборы на их основе. — Обзоры по электронной технике, сер. 4, «Электронные и газоразрядные приборы». —М.: ЦНИИ «Электроника», 1981, вып. 4,.58 с.
- Spencer P.L., Electron device with a sharp edged cathode // Pat. 3 109 123 (USA), 29.10.63
- Crandall W.E., Traveling wave tube amplifier employing field emission cathodes // Pat. 4 091 332 (USA), 23.05.78
- Improvements in field emission guns // Pat. 1 426 509 (England), 3.03.78
- Electron-beam microanalyses apparatus // Pat. 1 389 119 (England), 03.04.75
- Christov A., Comparison of electron sources high-resolution Auger spectroscopy in an SEM // J.Appl.Phys., 1979, vol. 47, № 12, p. 5464 5466
- Crewe A.V., Scanning electron microscope // Pat. 3 191 028 (USA), 22.06.65
- Crewe A.V., Electron microscope using field emission source // Surf.Sci., 1975, vol. 48, № 1, p. 152 160
- M. Tanaka, Y. Nohara, K. Tamaura et.al. // Tech. Digest of Society for Information Display (SID)'99, 818 821,199 914.. J. OUELLETTE: The Industrial Physicist, 1997, Dec., 10−13.
- A.P. BURDEN: Materials World, 2000, 8, no.7, 22−25
- S.W. DEPP and W.E. HOWARD: Scientific American, 1993, Mar., 40−45
- S.M. KELLY: 'Flat Panel Displays Advanced Organic Materials', RSC Materials Monographs, Royal Society of Chemistry 2000
- P.D. RACK, A. NAMAN, P.H. HOLLO WAY, S.-S. SUN, and R.T. TUENGE: MRS Bulletin, 1996, Mar., 49−58.
- O. PRACHE: Displays, 2001, 22, 49−56.
- J.A. CASTELLANO: 'Handbook of display technology', 1 st edn- 1992, San Diego, Academic Press
- R.W. WOOD: Phys. Rev., 1897, 5, 1−10
- E.L. MURPHEY and R.H. GOOD: Phys. Rev., 1956, 102, 1464−1473
- R.H. FOWLER and L. NORDHEIM: Proc. Roy. Soc. Ser A, 1928, 119,173−181
- R. FORBES: Solid State Elec., 2001, 45, 779−808
- C. WANG, A. GARCIA, D.C. INGRAM, M. LAKE, and M.E. KORDESCH: Electronic Letters, 1991, 27, 1459−1461
- D. TEMPLE: Mater. Sei. & Eng., 1999, R24, 185−239
- B.C. DJUBUA and N.N. CHUBUN: IEEE Trans. Elec. Dev., 1991, 38, 2314−2316
- W.D. GOODHUE, P.M. NITISHIN, C.T. HARRIS, C.O. BOZLER, D.D. RATHMAN, G.D. JOHNSON, and M.A. HOLLIS: J. Vac. Sei. Technol. B, 1994, 12, 693−696
- P.I. BIRADAR and P.A. CHATTERTON: J. Phys. D, 1970, 3, 16 531 662
- B.M. COX: J. Phys. D, 1975, 8, 2065−2073
- W.A. MACKIE, T. XIE, and P.R. DAVIS: J. Vac. Sei. Technol. B, 1995, 13,2459−2463
- V.V. ZHIRNOV, O.M. KUTTEL, O. GRONING, A.N. ALIMOVA, P.Y. DETKOV, P.I. BELOBROV, E. MAILLARD-SCHALLER, and L. SCHLAPBACH: J. Vac. Sei. Technol. B, 1999, 17, 666−669
- A.F. MYERS, S.M. CAMPHAUSEN, J.J. CUOMO, J.J. HREN, J. LIU, and J. BRULEY: J. Vac. Sei. Technol. B, 1996, 14, 2024−2029
- T. SUGINO, S. KAWASAKI, K. TANIOKA, and J. SHIRAFUJI: Appl. Phys. Lett., 1997, 71, 2704−2706
- E.C. BOSWELL, M. HUANG, G.D.W. SMITH, and P.R. WILSHAW: J. Vac. Sei. Technol. B, 14, 1996, 1895−1898
- M.S. MOUSA, C.E. HOLLAND, I. BRODIE, and C.A. SPINDT: Appl. Surf. Sei., 1993, 67, 218−221
- JESSING J.R., PARKER D.L., and WEICHOLD M.H.: J. Vac. Sei. Technol. B, 14, 1996, 1899−1901
- A.N. ALIMOVA, N.N. CHUBUN, P.I. BELOBROV, P. YA DETKOV, V.V. ZHIRNOV: J. Vac. Sei. Technol. B, 17, 715−718
- A.O. CHRISTENSEN: US Patent 4 663 559, 1985
- R.V. LATHAM: Phys. Technol., 1978, 9, 20−25
- A.E.D. HEYLEN, A.E. GUILE, and D.V. MORGAN: IEE Proc., 1984, 131, 111−117
- K.H. BAYLISS and R.V. LATHAM: Proc. R. Soc. Lond. A, 1986, 403,285−311
- N.S. XU and R.V. LATHAM: J. Phys. D: Appl. Phys., 1986,19, 477 482
- C.S. ATHWAL and R.V. LATHAM: Physica, 1981, 104C, 46−49
- R.J. NOER, Ph. NIEDERMANN, N. SANKARRAMAN and O. FISCHER: J. Appl. Phys., 1986, 59, 3851−3860
- M. JIMENEZ, R.J. NOER, G. JOUVE, C. ANTOINE, J. JODET, and B. BONIN: J. Phys. D: Appl. Phys., 1993, 26, 1503−1509
- A.N. OBRAZTSOV, A.P. VOLKOV, and I.Y. PAVLOVSKII: JETP Letters, 1998, 68, 59−63
- S. BAJIC and R.V. LATHAM: J. Phys. D: Appl. Phys., 1988,21, 200 204
- A.P. BURDEN, H.E. BISHOP, M. BRIERLEY, J.M. FRIDAY, C. HOOD, P.G.A. JONES, A.Y. KHAZOV, W. LEE, RJ. RIGGS, V.L. SHAW, W. TAYLOR, and R.A. TUCK: Solid State Electronics, 2001,45, 987−996
- M.I. ELINSON and D.V. ZERNOV: Radio Eng. & Elec. Phys., 1957, 2, 112−126
- J. ROBERTSON: Thin Solid Films, 1997, 296, 61−65
- A.T. SOWERS, J.A. CHRISTMAN, M.D. BREMSER, B.L.WARD, R.F. DAVIS, and R.J. NEMANICH: Appl. Phys. Lett., 1997, 71, 2289−2291
- S.R.P. SILVA, R.D. FORREST, J.M. SHANNON, and B.J. SEALY: J. Vac. Sci. Technol. B, 1999, 17, 596−600
- J. ROBERTSON, Pure & Appl. Chem., 1994, 66, 1789−1796
- S.R.P. SILVA, R.D. FORREST, D.A. MUNINDRADASA, and G.A.J. AMARATUNGA: Diamond and Rel. Mater., 1998, 7, 645−650
- B.S. SATYANARAYANA, A. HART, W.I. MILNE, and J. ROBERTSON: Appl. Phys. Lett., 1997, 71, 1430−1432
- G.A.J. AMARATUNGA, M. BAXENDALE, N. RUPESINGHE, I. ALEXANDROU, M. CHHOWALLA, T. BUTLER, A. MUNINDRADASA, C.J. KILEY, L. ZHANG, and T. SAKAI: New Diam. Front. Carbon Tech., 1999, 9, 3151
- I. ALEXANDROU, M. BAXENDALE, N.L. RUPESINGHE, G.A.J. AMARATUNGA, and C.J. KIELY: J. Vac. Sci. Technol. B, 2000, 18, 2698−2703
- R.L. FINK, Z.L. TOLT, L.H. THEUSEN, Z. YANIV, K. KASANO, and K. TATSUDA: Proc. Int. Displays Workshop, 1999, FED 1−5, 911−912
- M. WERNER and R. LOCHER: Rep. Prog. Phys., 1998, 61, 16 651 710
- M.W. GEIS, J.C. TWICHELL, N.N. EFREMOW, K. KROHN, and T.M. LYSZCZARZ: Appl. Phys. Lett., 1996, 68, 2294−2296
- K. OKANO, S. KOIZUMI, S.R.P. SILVA, and G.A.J. AMARATUNGA: Nature, 1996, 381, 140−141
- J.E. JASKIE: MRS Bulletin, 1996, June, 59−64
- V.V. ZHIRNOV and J J. HREN: MRS Bulletin, 1998, Sep., 42−47
- M.W. GEIS, J.C. TWICHELL, and T.M. LYSZCZARZ: J. Vac. Sei. Technol. B, 1996, 14, 2060−2067
- P.W. MAY, S. HOHN, W.N. WANG, and N.A. FOX: Appl. Phys. Lett., 1998,72,2182−2184
- N.S. XU, Y. TZENG, and R.V. LATHAM: J. Phys. D: Appl. Phys., 1993, 26, 1776−1780
- M.W. GEIS, J.C. TWICHELL, J. MACAULAY and K. OKANO: Appl. Phys. Lett., 1995, 67, 1328−1330
- A.S. KUPRYASHKIN, V.A. SELIVERSTOV, A.G. SHAKHOVSKOY, and E.P. SHESHIN: Proc. 4th Int. Vac. Micro. Conf., 1991, 124
- A.Y. TCHEREPANOV, A.G. CHAKHOVSKOI, and V.B. SHAROV: J. Vac. Sei. Technol. B 1995, 13, 482−486
- T. ASANO, E. SHIBATA, D. SASAGURI, K., MAKIHIRA, and K. HIGA: Jpn. J. Appl. Phys., 1997, 36, L818-L820
- I. MUSA, D.A.I. MUNINDRASDASA, G.A.J. AMARATUNGA, and W. ECCLESTON: Nature, 1998, 395, 362−365
- Z. SUN, S.M. HUANG, Y.F. LU, J.S. CHEN, Y.J. LI, B.K. TAY, S.P. LAU, G.Y. CHEN, and Y. SUN: Appl. Phys. Lett., 2001, 78, 2009−2011
- F.S. Baker, A.R. Osborn, J. Williams, Field emission from carbon fibers: A new electron source. // Nature, 1972, vol. 239, p. 96
- M. ENDO: Chemtech, 1988, Sep, 568−576
- F.S. BAKER, A.R. OSBORN, and J. WILLIAMS: Nature, 1972, 239, 96−97
- E. BRAUN, J.F. SMITH, and D.E. SYKES: Vaccum, 1975, 25, 425 426
- R.V. LATHAM and D.A. WILSON: J. Phys. D: Appl. Phys., 1981, 14,2139−2145
- R.V. LATHAM and D.A. WILSON: J. Phys. D: Appl. Phys., 1983, 16, 455−463
- B.V. BONDARENKO, V.A. SELIVERSTOV, A.G. SHAKHOVSKOY, and E.P. SHESHIN: Soviet J. Comm. Technol. Electron., 1987, 32, 91−94
- V.A. KSENOFONTOV, A.S. KUPRYASHKIN, A.G. SHAKHOVSKOI, and E.P. SHESHIN: Sov. Phys. Tech. Phys., 1991, 36, 687−689
- A.G. CHAKHOVSKOI, E.P. SHESHIN, A.S. KUPRYASHKIN, and V.A. SELIVERSTOV: J. Vac. Sei. Technol. B., 1993, 11, 511−513
- E.P. SHESHIN: Ultramicroscopy, 1999, 79, 101−108
- N.M. RODRIGUEZ: J. Mater. Res., 1993, 8, 3233−3250
- K.C. WALTER, H.H. KUNG, and C.J. MAGGIORE: Appl. Phys. Lett, 1997, 71, 1320−1322
- A.G. RINZLER, J.H. HAFNER, P. NIKOLAEV, L. LOU, S.G. KIM, D. TOMANEK, P. NORDLANDER, D.T. COLBERT, and R.E. SMALLEY: Science, 1995, 269, 1550−1553
- W.A. DE HEER, A. CHATELAIN, and D. UGARTE: Science, 1995, 270, 1179−1180
- Y. SAITO, K. HAMAGUCHI, S. UEMURA, K. UCHIDA, Y. TASAKA, F. IKAZAKI, M. YUMURA, A. KASUYA, and Y. NISHINA: Appl. Phys. A, 1998, 67, 95−100
- O. GRONING, O.M. KUTTEL, C. EMMENEGGER, P. GRONING, and L. SCHLAPBACH: J. Vac. Sei. Technol. B., 2000, 18, 665−678
- Y. CHEN, S. PATEL, Y. YE, D.T. SHAW, and L. GUO: Appl. Phys. Lett.
- O.M. KUTTEL, O. GRONING, C. EMMENEGGER, and L. SCHLAPBACH: Appl. Phys. Lett, 1998, 73, 2113−2115
- A.M. RAO, D. JACQUES, R.C. HADDON, W. ZHU, C. BOWER and S. JIN: Appl. Phys. Lett., 2000, 76, 3813−3815
- S. FAN, M.G. CHAPLINE, N.R. FRANKLIN, T.W. TOMBLER, A.M. CASSELL, andH. DAI: Science, 1999, 283, 512−514
- J. LI, C. PAPADOPOULOS, J.M. XU, and M. MOSKOVITS: Appl. Phys. Lett., 1999, 75, 367−369
- Z.F. REN, Z.P. HUANG, D.Z. WANG, J.G. WEN, J.W. XU, J.H. WANG, L.E. CALVERT, J. CHEN, J.F. KLEMIC, and M.A. REED: Appl. Phys. Lett., 1999,75, 1086−1088
- J. HAN, W.-S. YANG, J.-B. YOO, and C.-Y. PARK: J. Appl. Phys., 2000, 88, 7363−7365
- H. MURAKAMI, M. HIRAKAWA, C. TANAKA, and H. YAMAKAWA: Appl. Phys. Lett., 2000, 76, 1776−1778
- S.-H. JEONG, H.-Y. HWANG, K.-H. LEE, and Y. JEONG: Appl. Phys. Lett., 2001, 78, 2052−2054
- W.B. CHOI, D.S. CHUNG, J.H. KANG, H.Y. KIM, Y.W. JIN, I.T. HAN, Y.H. LEE, J.E. JUNG, N.S. LEE, G.S. PARK, and J.M. KIM: Appl. Phys. Lett., 1999, 75,3129−3131
- Q.H. WANG, A.A. SETLUR, J.M. LAUERHAAS, J.Y. DAI, E.W. SEELIG and R.P.H. CHANG: Appl. Phys. Lett., 1998, 72,2912−2913
- Y. NAKAYAMA and S. AKITA: Synthetic Metals, 2001, 117, 207 210
- Y. CHEN, D.T. SHAW, and L. GUO: Appl. Phys. Lett., 2000, 76, 2469−2471
- P.G. COLLINS, K. BRADLEY. M. ISHIGAMI, and A. ZETTL: Science, 2000, 287, 1801−1804
- K.A. DEAN and B.R. CHALAMALA: J. Appl. Phys., 1999, 85, 38 323 836
- K.A. DEAN, P. VON ALLMEN, and B.R. CHALAMALA: J. Vac. Sci. Technol. B, 1999, 17, 1959−1969
- K.A. DEAN and B.R. CHALAMALA: Appl. Phys. Lett., 2000, 76, 375−377
- L.A. CHERNOZATONSKII, Y.V. GULYAEV, Z J. KOSAKOVSKAJA, N.I. SINITSYN, G.V. TORGASHOV, Y.F. ZAKHARCHENKO, E.A. FEDOROV and V.P. VAL’CHUK: Chem. Phys. Lett., 1995, 233, 63−68
- B.F. COLL, J.E. JASKIE, J.L. MARKHAM, E.P. MENU, A.A. TALIN, and P. VON ALLMEN: MRS Symp. Proc., 1998, 498, 185−196
- F.C.K. AU, K.W. WONG, Y.H. TANG, Y.F. ZHANG, I. BELLO, and S.T. LEE: Appl. Phys. Lett., 1999, 75, 1700−1702
- J.D. CAREY and S.R.P. SILVA: Appl. Phys. Lett., 2001, 78, 347−349
- L.S. PAM, T.E. FELTER, A. TALIN, D. OHLBERG, C. FOX, and S. HAN: US Patent 5,857,882 (filed 1996)
- J.A. CASTELLANO: 'Handbook of display technology', 1st edn, 294- 1992, San Diego, Academic Press
- H.K. PULKER: 'Coatings on glass', 2nd edn, 174−317- 1999, Amsterdam, Elsevier
- S. ONOZUMI and K. NAITO: Proc. Int. Displays Workshop, 1998, 495−498
- C. PY and R. BAPTIST: J. Vac. Sci. Technol. B, 1994, 12, 685−688
- R.H. TAYLOR and J.D. LEVINE: US Patent 5,552,751
- R.S. NOWICKI, H.H. BUSTA, J.E. POGEMILLER, A.R. FOROUHI, I. BLOOMER, W.M. CLIFT, J.L. YIO, and T. FELTER: SID 96 Digest, 1996, P-16, 456−458
- A.F. JANKOWSKI and A.P. SCHMID: US Patent 6,154,119
- J.C. HUANG: US Patent 5,578,896
- J.B. CUI, J. ROBERTSON, and W.I. MILNE: J. Appl. Phys., 2001, 89, 3490−3493
- T. HIRANO, S. KANEMARU, H. TANOUE, and J. ITOH: Jpn. J. Appl. Phys., 1995, 34, 6907−6911
- C.-C. LEE, Y.-Y. CHANG, J.-R. SHEU, J.-C. HO, J.-H. LIAO, H.-C. CHENG, M.-C. HSIAO, C.-X. HAN, S.-M HUANG, and W.-C. WANG: SID 01 Digest, 2001,20.4,316−319
- A.F. BERNHARDT, R.J. CONTOLINI, A.F. JANKOWSKI, V. LIBERMAN, J.D. MORSE, R.G. MUSKET, R. BARTON, J. MACAULAY, and
- C. SPINDT: J. Vac. Sei. Technol. B, 2000, 18, 1212−1215
- W.B. CHOI, Y.W. JIN, H.Y. KIM, S.J. LEE, M.J. YUN, J.H. KANG, Y.S. CHOI, N.S. PARK, N.S. LEE, and J.M. KIM: Appl. Phys. Lett., 2001, 78, 1547−1549
- J.M. KIM, N.S. LEE, D.S. CHUNG, S.H. PARK, Y.W. JIN, J.H. KANG, Y.S. CHOI, H.Y. KIM, M.J. YUN, N.S. PARK, I.T. HAN, J.W. KIM, J.E. JUNG, J.H. YOU, C.G. LEE, S.H. JO, K.S. CHOI, E.J. CHI, S.J. LEE, AND H.G. PARK: SID 01 Digest, 2001, 20.1, 304−307
- D.C. CHANG, A.J. LEARN, B.L. MACKEY, P.M. DRUMM, and
- D.L. MORRIS: US Patent 6,176,754
- B.R. JOHNSON, A.I. AIKINWANDE, and D. MURPHEY: J. Vac. Sei. Technol. B, 1997, 15, 535−538
- H.P. KUO, S.F. BURRIESCI, J. LIN, and D.J. MILLER: J. Vac. Sei. Technol. B, 1997,15, 2782−2785
- A. KASTALSKY, S. SHOKHOR, J. HOU, S. NAAR, N. ABANSHIN, and B. GORFINKEL: SID 01 Digest, 2001,14.4L, 201−203
- M. SAGAWA, T. KUSUNOKI, M. SUZUKI, and K. TSUJI: SID 01 Digest, 2001, 14.2, 193−195
- T. KOMODA, X. SHENG, and N. KOSHIDA: J. Vac. Sei. Technol. B, 1999,17, 1076−1079
- K. SAKAI, I. NOMURA, E. YAMAGUCHI, M. YAMANOBE, S. IKEDA, T. HARA, K. HATANAKA, Y. OSADA, H. YAMAMOTO and T. NAKAGIRI: Proc. Euro Display, 1996,18.3L, 569−572
- C.J. SPINDT, D.L. MORRIS, T.S. FAHLEN, A.P. SCHMID, and P.A. LOVOI: US Patent 5,746,635
- К. TAMAI, N. ISHIMARU, Y. HIRAI, and T. KAMIHORI: Proc. Asia Display, 1998, 203−206
- S.J. KWON, K.J. HONG, J.D. LEE, C.W. OH, J.S.YOO, and Y.B. KWON: J. Vac. Sci. Technol. B, 2000, 18,1227−1231
- T.S. FAHLEN, R.M. DUBOC, and P.A. LOVOI: US Patent 5,667,418
- D.-J. LEE, N.-Y. LEE, S.-J. JUNG, K.-S. KIM, Y.-H. LEE, J. JANG and B.-K. JU: J. Electrochem. Soc., 2000, 147, 2385−2388
- J.-H. HAN, M.-G. KWAK, Y.-K. PARK, S.-C. LIM, I.-K. LEE, K.-I. CHO, and H.-J. YOO: J. Vacuum Sci. & Technol. B, 1998, 16,1236−1238
- M. AMIOTTI and S. TOMINETTI: Vacuum Solutions, 1999, July/Aug, 25−28
- Y. WEI, B.R. CHALAMALA, B.G. SMITH, and C.W. PENN: J. Vac. Sci. Technol. B, 1999, 17, 233−236
- Y.-S. FRAN and T.-Y. TSENG: Mater. Chem. and Phys., 1999, 61, 166−168 142. US Patent 7,129,626 143. US Patent 5,818,166 144. US Patent 6,023,126 145. US Patent 7,088,49 146. US Patent 7,067,971
- Chung D.D.L., II J. Mater. Sci., 1987 Г89), vol. 22, p. 4190 4198
- Mathuz R. S., Bahl D. P., Nagpal K. S., // in 4th Baden-Baden Carbon Conferens, Ext. Abstr. Program, 1986, p. 499 501
- Фиалков А. С., Малей JI. С., Некоторые аспекты технологии изготовления расширенного графита // в сб. Электроугольные и металлокерамические изделия для электротехники, М., Энерго’атомиздат, 1985, с. 65—72 (Научные труды ВНИИЭИ)
- A. F. Bobkov, Е. V. Davidov, S. V. Zaitsev, А. V. Karpov,
- Townsend J.S. The potentials required to maintain current between coaxial cylinders. Phil. Mag., v. 28, 1914, p. 83−87
- Jones J.E., Davies M., Goldman A., Goldman M. A simple analytic alternative to Warburg’s law. J. Phys. D: Appl. Phys., v. 23, 1990, p. 542−552
- Шерстнёв П.В., Юшманов Б. А., Чёсов Р. Г. Исследование автоэмиссионного катода из терморасширенного графита// Тезисы докладов XLIV конференции МФТИ, 2001, часть V, стр. 6
- Гуреев Д.М., Кузнецов С. И., Петров A.JI. Лазерный раскрой углеродных композиционных материалов// Известия Самарского научного центра Российской академии наук. 1999. № 2. С.255−264
- Кузнецов С.И., Петров А. Л. Применение лазерного излучения для модификации поверхности и раскроя углеродных композиционных материалов и углеродных тканей// Известия Самарского научного центра Российской академии наук. 2003. Т5, № 1. С.46−54
- Батурин А.С., Купряшкин А. С., Никольский К. Н., Чесов Р. Г. и др. «Эффект кольца» при интенсивной автоэлектронной эмиссии // Нано- и микросистемная техника. 2003. № 7. стр. 8−10